電子装置の覆いとして使用するためのガラス物品およびその形成方法が本明細書に記載される。ガラス物品は、一般に、第１の表面、第２の表面および周辺縁部を含む、成形ガラス基板を備える。成形ガラス基板は、亀裂を形成せずに表面損傷に耐えるガラス物品の能力を改善する圧縮応力層を成形ガラス基板が有するように、強化ガラスから形成されうる。ポリマーの外側被覆は、前記成形ガラス基板の周辺縁部の接続機構と連結し、それによって、成形ガラス基板の周辺縁部を損傷から保護する。１つの実施の形態では、成形ガラス基板の周辺縁部の少なくとも一部は第１の表面からの接続機構のオフセットを備える。別の実施の形態では、ポリマーの外側被覆は、少なくとも１つのコネクタと一体的に形成される。
（もっと読む）

【課題】加工時や廃棄時に環境負荷が少なく、かつ安価に製造できる撥水撥油性部材とその製造方法及びそれらを用いた物品を提供する。
【解決手段】炭化水素基中の水素原子の一部又は全部がフッ素原子及びフッ化炭素基のいずれか一方又は双方で置換された含フッ素官能基を有する物質２が、基材３の表面の少なくとも一部を覆うように存在する撥水撥油性部材１、炭化水素基を有する物質が表面の少なくとも一部を覆うように存在する基材３の表面を、フッ化炭素基を含むガス雰囲気中で低圧プラズマ処理する工程Ａを含む撥水撥油性部材１の製造方法、及びそれらを用いた物品を提供する。 （もっと読む）

【課題】 ＳｂフリーＦドープ酸化第二錫粉末とＩＴＯ粉末を含有し、安価で透明性が高く、ＩＴＯ粉末を用いたフィルムと１５００ｎｍ以上の近赤外カット性能が同等である透明赤外線カットフィルムを形成することが可能な組成物を提供する。
【解決手段】 赤外線カット材であるＳｂフリーＦドープ酸化錫粉末とＩＴＯ粉末、およびバインダーを含有し、ＳｂフリーＦドープ酸化錫粉末とＩＴＯ粉末の合計質量に対するＳｂフリーＦドープ酸化錫粉末の含有量等が、特定の透明赤外線カットフィルム形成用組成物であって、可視光透過率（％Ｔｖ）が８０％以上であり、可視光透過率（％Ｔｖ）の日射透過率（％Ｔｓ）に対する比（［％Ｔｖ／％Ｔｓ］）が１．２以上である透明赤外線カットフィルムを形成することを特徴とする、透明赤外線カットフィルム形成用組成物である。 （もっと読む）

【課題】濡れ性およびレベリング性を有し、曇り止めのバラツキ防止、透明性、維持性に優れたガラス、鏡等の曇り止め処理剤を提供する。
【解決手段】ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物を含有する曇り止め処理剤。前記ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物は、水溶性を有する液状、ペースト状およびフレーク状のポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物から選ばれる一種または２種以上であるのが好ましい。さらに、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、乳酸、ポリカルボン酸およびそのアルカリ金属塩から選ばれる一種または２種以上の化合物を含有するのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高度な剥離性を維持し、かつ、切削性、汚染性、バンプ追従性および保存安定性を兼備した保護フィルムを使用する脆性材料の切断方法を提供すること。
【解決手段】熱収縮性基材フィルムの片面に放射線硬化型の粘着層が形成されてなる保護フィルムであって下記特性（１）〜（６）を同時に満足する該保護フィルムを、脆性材料のいずれかの片面に、また、その反対面にダイシング用シートを貼り付けて得られた積層体の保護フィルム側よりダイシング加工をして、積層体をチップ状に切断した後に、該切断処理をした積層体の保護フィルム面に放射線を照射させ、保護フィルムの粘着層の硬化処理を行なった後に、該硬化処理した積層体を８０〜２００℃に加熱をして保護フィルムを収縮させて剥離させることを特徴とする脆性材料の切断方法。
熱収縮性基材フィルムの片面に放射線硬化型の粘着層が形成されてなる保護フィルムにおいて、熱収縮性基材フィルムの厚み、６０℃および９０℃における加熱収縮率、粘着層の厚み、粘着層の初期および紫外線照射処理後の粘着力をそれぞれ特定範囲で、かつこれらの特性を同時に満足する保護フィルムを、脆性材料のいずれかの片面に、また、その反対面にダイシング用シートを貼り付けて得られた積層体の保護フィルム側よりダイシング加工をして、積層体をチップ状に切断した後に、該切断処理をした積層体の保護フィルム面に放射線を照射させ、保護フィルムの粘着層の硬化処理を行なった後に、該硬化処理した積層体を加熱をして保護フィルムを収縮させて剥離させる脆性材料の切断方法 （もっと読む）

【課題】ガラス製品の品種毎に加工液の調整や交換を必要とすることなく、加工後に傷の少ない均一な研磨面を得る。
【解決手段】ホルダー３に保持されたガラス製品としての光学素子２の被加工面２ａに加工工具１の加工作用面１ａを相対的に摺動させ、加工液５を供給しつつ研磨加工行うガラス製品の製造方法において、被加工面２ａに選択的に吸着して保護する成分として、少なくとも１種類のエステル化合物を含有する加工液５用いることにより、光学素子２のガラスの種類に関係なく、加工中における被加工面２ａにおける傷の発生を防止する。 （もっと読む）

本発明は、電磁放射に対する反射防止特性が基板の表面に付与され得る表面処理方法に関する。５μｍ未満の寸法を有する複数のオブジェクトを層内に分散した状態で含有し、該電磁放射に対して透明なコーティングが、該表面上に積層される。該オブジェクトは、第一の屈折率ｎ_Ｃ を有するコアと、このコアの屈折率ｎ_Ｃ とは異なる第二の屈折率ｎ_Ｅ を有し、コアを囲むスキンと呼ぶ層とを備えている。また、コア／スキンのアッセンブリーの寸法に対するコアの寸法の比は、１：１．５〜１：５である。さらに、本発明は、この方法に従って得られるコーティングされた基板に関する。 （もっと読む）

【課題】塗布作業性、接着性、吸水性（防垂れ性）や乾燥塗膜の透明性に優れるのみならず、拭き取り性に優れるコーティング液を提供すること。
【解決手段】Ｉ群から選択される少なくとも１種の化合物０．５〜４．０重量部を水１００重量部で希釈して得られる（Ａ）液と、ＩＩ群から選択される少なくとも１種の化合物０．１〜７．０重量部と、III群から選択される少なくとも１種の化合物０．０５〜２．０重量部を水１００重量部で希釈して得られる（Ｂ）液とを、混合して得られるコーティング液。 （もっと読む）

幹細胞分化の改善を含む細胞増殖の改善を提供する、ナノパターン化された表面を提供する。パターン化された表面は、生物学的に活性な部分のフィールドのアレイを含むことができ、かつフィールド間のピッチおよびフィールドのサイズを含むパラメータによって制御することができる。ナノパターン化は、ディップペンナノリソグラフ印刷、マイクロコンタクトプリンティング、およびナノインプリントリソグラフィを使用して実施され得る。

（もっと読む）

【課題】ガラス管を用いた各種製品の製造工程全体にわたって表面傷を生じにくくすることによって、表面傷に起因するガラス管の強度低下や品質低下等を再現性よく抑制する。
【解決手段】ガラス管は、その外周面に形成された滑性層を備える。滑性層はカーボン系付着物および炭酸塩系付着物から選ばれる少なくとも１種の付着物を有する。このようなガラス管は、ポリエチレンワックスおよび変性ポリエチレンワックスから選ばれる少なくとも１種の固体滑剤を含有するコーティング液を、ガラス管の外周面に塗布して保護膜を形成する工程と、保護膜を有するガラス管を焼成し、ガラス管の外周面に滑性層を形成する工程とを具備する製造方法に基づいて作製される。 （もっと読む）