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国際特許分類[C03C3/14]の内容

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【課題】酸素バブリングといった大掛かりな設備の導入を行うことなく、高透過率かつ高分散で、かつ透過率に特に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】原料混合物を溶融することにより、Biを10〜90質量%含有する光学ガラスを製造するための方法であって、原料混合物中において、溶融により酸化性ガスとして放出される成分を3.1質量%以上含有することを特徴とする光学ガラスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にありながら、低い温度で軟化し易く、且つプレス成形時におけるガラスの失透や着色が低減された光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォーム及び光学素子を得る。
【解決手段】この光学ガラスは、必須成分としてSiO成分、Nb成分、ZrO成分及びLiO成分を含有し、1.78以上の屈折率(nd)と、30以下のアッベ数(ν)と、0.620以下の部分分散比(θg,F)と、を有する。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とするものである。 (もっと読む)


【課題】部分分散比の小さい高分散光学ガラス、及び、この光学ガラスを利用して得られるレンズ、プリズムなどの光学素子を提供する。
【解決手段】アッベ数(νd)および部分分散比(θg,F)の関係式が、νd≦25の範囲ではθg,F≦−0.0058×νd+0.7539、νd>25の範囲ではθg,F≦−0.0020×νd+0.6589の範囲の光学定数を有し、酸化物基準のmol%で、
23 29〜50%、
TeO2 20〜70%、
23/TeO2 0.4より多く0.75未満、
23、La23、Gd23の合計含有量が0〜5%未満
であることを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】部分分散比の小さい高分散光学ガラス、及び、この光学ガラスを利用して得られるレンズ、プリズムなどの光学素子を提供する。
【解決手段】アッベ数(νd)および部分分散比(θg,F)の関係式が、νd≦25の範囲ではθg,F≦−0.0058×νd+0.7539、νd>25の範囲ではθg,F≦−0.0020×νd+0.6589の範囲の光学定数を有し、酸化物基準のmol%で、
23 0%より多く8%未満、
TeO2 15〜63%未満、
23/TeO2 0より多く0.5未満、
であることを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】部分分散比の小さい高分散光学ガラス、及び、この光学ガラスを利用して得られるレンズ、プリズムなどの光学素子を提供する。
【解決手段】アッベ数(νd)および部分分散比(θg,F)の関係式が、νd≦25の範囲ではθg,F≦−0.0058×νd+0.7539、νd>25の範囲ではθg,F≦−0.0020×νd+0.6589の範囲の光学定数を有し、酸化物基準のmol%で、
23 8〜29%未満、
TeO2 15〜70%未満、
23/TeO2 0.01より多く2未満、
Ga23 0〜5%未満
であることを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】酸化物組成としてBiとBとを含有するビスマス含有ガラスのプレス成型方法であって、プレス成型工程においてガラス表面の変色や表面荒れが抑制されたプレス成型方法を提供する。
【解決手段】酸化物組成としてBiとBとを含有するビスマス含有ガラスのプレス成型方法であって、
(1)前記ビスマス含有ガラスを研磨又は切削加工することによりプリフォームガラスを作製する工程1及び
(2)前記プリフォームガラスを非酸化性雰囲気中、軟化温度未満で加熱し、更にプレス成型する工程2を有し、
前記工程1は、(イ)水分含有率が10重量%以下の研削液を用いて研磨又は切削加工することによりプリフォームガラスを作製するか、又は(ロ)水分含有率が10重量%を超える研削液を用いて研磨又は切削加工した後に酸化性雰囲気中で加熱処理することによりプリフォームガラスを作製する、
ことを特徴とするプレス成型方法。 (もっと読む)


【課題】プレス成形によって製造される光学素子において、非光学有効部分で融着等の不良を発生させることなく迷光防止用の黒塗りの被膜を簡単に形成する。
【解決手段】転写面を有する上型と下型の間にガラス素材を配置する第1工程と、前記上型、下型及びガラス素材を加熱する第2工程と、前記上型及び下型によって前記ガラス素材をプレス成形する第3工程とを少なくとも備えた、光学素子の製造方法において、前記ガラス素材は、Si、P及びBからなる群より選択される少なくとも1種のガラス網目形成成分と、Tiとを含み、かつ該ガラス網目形成成分に対するTiの比率がカチオニック%表示で29%以上100%以下であり、前記上型及び下型の転写面における非光学有効部分転写域の少なくとも1つの面の表層は、炭素を含む素材からなっており、前記第3工程において、前記ガラス素材の、前記上型及び下型の前記炭素を含む素材からなる非光学有効部分転写域と接触する部分が発泡することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】軟化点が低く、誘電率が低く、基板との熱膨張係数のマッチングが良い上に、ガラス転移温度が高く、黄変も生じ難い、信頼性の高いディスプレイパネルを作製することが可能な、ガラス組成物を提供する。
【解決手段】表示電極5が設けられた前面板1と、アドレス電極10が設けられた背面板8と、電極5,10を被覆する誘電体層6,11と、隔壁12と、が設けられている。誘電体層6,11および隔壁12から選ばれる少なくとも1つは、酸化物ガラスを含んでいる。この酸化物ガラスは本発明のガラス組成物であり、含まれる元素の内、酸素(O)を除く元素の比率が、56原子%≦B≦72原子%、0原子%≦Zn≦18原子%、8原子%≦R<12原子%、0原子%≦M≦5原子%、0原子%≦Si≦15原子%、である。なお、RはLi、NaおよびKの合計量を示し、Mは、Mg、Ca、SrおよびBaの合計量を示す。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)が所望の範囲内にありながら、高い熱的安定性を有し、着色が少ない光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でTeO成分を10.0〜95.0%、B成分を1.0〜50.0%、GeO成分を0〜20.0%、SiO成分を0〜20.0%、及びP成分を0〜20.0%含有する。また、精密プレス成形用プリフォームはこの光学ガラスからなるものであり、光学素子は、光学ガラスを精密プレス成形してなるものである。 (もっと読む)


【課題】ガラス中の異物欠陥・残留物欠陥が抑制されると共に、従来よりもSb酸化物の含有量がより少ない光学ガラスを提供すること。
【解決手段】屈折率ndが1.70以上2.20以下、アッベ数νdが15以上60以下であり、ガラス成分として、Bを1質量%以上45質量%以下、La、Gd、YおよびYbから選択される1種以上の酸化物を0質量%以上60質量%以下の割合で含むと共に、外割で、Sn酸化物、Ce酸化物およびSb酸化物が、下式(1)〜(3)を満たすように含む光学ガラス。
・式(1) 0<A(Sn)+A(Ce)+A(Sb)≦3.6
・式(2) 0<A(Sn)+A(Ce)≦3.5
・式(3) 0≦A(Sb)≦0.1
〔但し、上記式(1)〜(3)中、A(Sn)は、上記Sn酸化物の含有量(質量%)を表し、A(Ce)は、上記Ce酸化物の含有量(質量%)を表し、A(Sb)は、上記Sb酸化物の含有量(質量%)を表す。〕 (もっと読む)


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