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国際特許分類[C04B35/657]の内容

国際特許分類[C04B35/657]に分類される特許

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【課題】本発明は、ガラス欠点の発生源を、数学シミュレーションを用いずに、直接的に特定することができるガラス欠点発生源の特定方法を提供する。
【解決手段】Cs2 O、SrO、BaO及びZnOから選ばれる少なくとも1種のトレーサ成分を含有した溶融鋳造耐火物を内張り炉材に用いてガラス溶融窯を構築する工程と、ガラス溶融窯によりガラス材料を溶融し、溶融されたガラス材料を、成型し、ガラス製品を製造する工程と、ガラス製品のうちガラス欠点を有するものを抽出し、成分組成を分析してガラス溶融窯のガラス欠点発生源の位置を求める工程と、を有するガラス欠点発生源特定方法。 (もっと読む)


【課題】セメントキルンの遷移帯部や、ガラス窯蓄熱室において使用された場合においてもサルファー、ボロン、バナジウムなどの外来成分との反応を抑制することができる耐火物を提供する。
【解決手段】MgOおよびAlを主たる構成成分とし、化学成分としてMgOの含有量が20〜40質量%、Alの含有量が60〜80質量%の範囲である耐火物において、主たる鉱物相がスピネルであり、かつ、該耐火物を構成するスピネルの全量もしくはその大部分が溶融法で製造された溶融スピネル原料を用いてなることを特徴とするスピネル質耐火物である。 (もっと読む)


【課題】レーザー光等による局所加熱を適正に実行可能な封着材料を創案することにより、アクティブ素子等の劣化を防止しつつ、有機ELディスプレイ等の気密性および信頼性を高めること。
【解決手段】本発明の耐火性フィラー粉末は、遷移金属酸化物が1質量%以上ドープされていることを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は、酸化物をベースとして、重量百分率で−Al:全体を100%にする量;−MgO:28%〜50%;−CuO:0.05%〜1.0%;−B:≦1.0%;−SiO:<0.5%;−NaO+KO<0.3%;−CaO:<1.0%;−Fe+TiO<0.55%;及び−他の酸化物:<0.5%の化学組成を有する、溶融されかつキャスト成形された耐火物に関する。 (もっと読む)


【課題】高温における電気抵抗率が大きく、昇温時に耐火物表面が部分的に欠落するチップオフ現象を示さず、かつ溶融した低アルカリガラスとの接触においても成分の抜け出しが少ないため、操業時に亀裂が発生しにくい、電気溶融窯用に適した高ジルコニア質耐火物を提供する。
【解決手段】化学成分として、質量%で、ZrOを内掛けで85〜95%、SiOを内掛けで3.0〜10%、Alを内掛けで0.85〜3.0%、NaOを実質的に含まず、KOを外掛けで0.01〜0.5%、SrOを内掛けで1.5〜3.0%、並びにNb及び/又はTaを「(Nbの含有量)+(Taの含有量/1.66)」で得られる値として内掛けで0.1〜2.0%含有する高ジルコニア質耐火物。 (もっと読む)


本発明は、酸化物に基づく重量百分率で、酸化物の合計を100%として
ZrO+HfO: 100%の残余
SiO: 7.0%〜11.0%;
AI: 0.2%〜0.7%;
NaO+KO: <0.10%;
: 0.3%〜1.5%;
CaO+SrO+MgO+ZnO+BaO: <0.4%;
: <0.15%;
Fe+TiO: <0.55%;
他の酸化物: <1.5%;
を含む、溶融されかつキャスト成形された耐火物において、該耐火物は、Nb,Ta、およびそれらの混合物から選択されるドーパントの重量含有量は1.0%以下であり、Al/Bの重量含有量の比「A/B」は2.0以下であり、ただし、溶融されかつ220×450×150mmのブロック又は30mmの直径及び30mmの高さの円柱状の棒の形でキャスト成形された耐火物であって、酸化物に基づく重量百分率で以下の化学組成を有するものを除いた耐火物に関する。


本発明はガラス溶融炉において使用されることができる。 (もっと読む)


【課題】ボイドの少ない再生ターゲットを、一軸方向に加圧する焼結法により製造する。
【解決手段】一軸方向に貫通した内空部12Aを有する外周治具12の内空部12Aに使用済みターゲット1を配置するとともに、内空部12Aにターゲット用原料粉末2を充填して、使用済みターゲット1のエロージョン部1A側の面をターゲット用原料粉末2で覆わせる粉末充填工程と、前記粉末充填工程で内空部12Aに充填したターゲット用原料粉末2を使用済みターゲット1との間に挟み込むように、変形可能な緩衝材3を配置する緩衝材配置工程と、内空部12Aに充填したターゲット用原料粉末2と使用済みターゲット1とを、前記緩衝材配置工程で配置した緩衝材3を介して一軸方向に加圧して焼結させる焼結工程と、を有する。 (もっと読む)


本発明は、酸化物に基づく重量%として、及び全体を100%とする以下の平均化学組成を有する溶融耐火生成物に関連している。ZrO:30%−46%、SiO:10%−16%、Al:100%までの残余、Y≧50/ZrO及びY≦5%、NaO+KO:0.5%−4%、CaO:≦0.5%、他の化学種:≦1.5%。本発明は、ガラス溶融炉のために利用されることができる。 (もっと読む)


一つの例の実施形態において、半導体性のカルコゲニドのフィルムを堆積させるためのスパッターのターゲットの構造は、記載される。スパッターのターゲットは、少なくともおおよそ2N7のカルコゲニドの合金の純度、個々に酸素(O)、窒素(N)、及び水素(H)について500ppmと比べてより少ない気体の不純物、並びに、500ppmと比べてより少ない炭素(C)の不純物を有する少なくとも一つのカルコゲニドの合金を備えるターゲットの本体を含む。特定の実施形態において、少なくとも一つのカルコゲニドの合金のカルコゲニドは、ターゲットの本体の組成物の少なくとも20原子パーセントを備えると共に、カルコゲニドの合金は、カルコゲニドの合金についての理論的な密度の少なくとも95%の密度を有する。
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【課題】本発明は、焼結特性及び耐食性の優れた製鉄/製鋼用設備の耐火性補修材原料の合成方法、及びこのように合成された原料を含む製鉄/製鋼用設備を保護するための不定形補修材を提供することを目的とする。
【解決手段】マグネシア(MgO)原とシリカ(SiO2)原を含んだ原料を粉末化して補修材原料のマグネシア(MgO)含量が50〜80重量%になるよう調合して混練、高温焼成するか溶融して原料を合成し、この合成原料を用いて対象物に対する付着強度、耐食性、及び焼結性の優れた製鋼、製鉄/製鋼用設備を保護する。 (もっと読む)


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