【課題】ＥＢ（電子線）等に有効に感応する化学増幅型のポジ型レジスト膜を成膜可能な感放射線性組成物に含まれる基材成分の原料として有用なフェノール性化合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物と、下記一般式（２）で表される化合物と、を縮合反応させて得られるフェノール性化合物である。
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【課題】１‐ナフトール誘導体の新たな利用を提供する。
【解決手段】本発明は、細胞内の微小管重合を阻害する作用を有する微小管重合阻害化合物であって、上記微小管重合阻害化合物が、１‐ナフトール誘導体である微小管重合阻害化合物を提供する。 （もっと読む）

【課題】特定の芳香族性を有する炭化水素基を付加置換基として有する多重付加フラーレン誘導体及びこれを用いたエステル溶媒に対して高い溶解性を有し、且つ優れた光学特性を持つフラーレン誘導体膜を提供する。
【解決手段】フラーレン骨格の下記式(Ｉ)で表される部分構造において、Ｃ^１が、水素原子又は任意の置換基と結合しており、Ｃ^６〜Ｃ^８が、各々独立に、−Ａｒ−（ＯＨ）_ｎ（式中Ａｒは炭素数８〜１８の芳香族性を有する炭化水素基を表し、ｎは１〜３の整数を表す。）で表される構造の有機基と結合していることを特徴とするフラーレン誘導体。（式(Ｉ)中、Ｃ^１〜Ｃ^１０は何れも、フラーレン骨格を構成する炭素原子を表す。）
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【課題】 高感度、高解像度、高エッチング耐性、低アウトガス量、及び得られるレジストパターン形状が良好な環状化合物、該化合物を含む感放射性組成物、および該感放射性組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記式（１）で示される、特定条件を満たす環状化合物、該化合物を含む感放射性組成物、および該感放射性組成物を用いるレジストパターン形成方法。
【化１】


（１） （もっと読む）

【課題】高分子材料の原料として有用なビスフェノール化合物、および該ビスフェノール化合物を効果的に製造する方法を提供する。
【解決手段】特定の化学構造式で表されるビスフェノール化合物。アセナフテン−１−オンと特定の化学構造式で表されるフェノール類とを酸性触媒下で反応させることを特徴とする特定の化学構造式で表されるビスフェノール化合物の製造方法。
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【課題】感放射線性組成物に含まれる基材成分の原料として有用な、有機溶剤に対する溶解性が高く、量産性に優れたフェノール性化合物の提供。
【解決手段】レゾルシノール化合物と、ビスアルデヒド化合物とを縮合反応させて得られるフェノール性化合物であり、例えば下記一般式（３Ａ）で表されるフェノール性化合物。


（Ｘは置換基を有していても良いＣ２〜８のアルキレン基、Ｙは置換基を有していても良いＣ１〜１０のアルキル基である） （もっと読む）

【課題】耐熱性などに優れ、樹脂原料や、自己組織化分子膜形成性化合物などとして有用な化合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される新規なフルオレン化合物。


式中、Ｘはアルキリデン基又はアルキレン基を示し、ＹはＯＨ基、ＳＨ基、ＣＯＯＨ基又はアミノ基等を示し、環Ｚは芳香族炭化水素環を示し、Ｒ^１およびＲ^２はアルキル基などの置換基を示し、ｋは０〜４の整数、ｍは０又は１以上の整数、ｎは１以上の整数を示す。 （もっと読む）

【課題】形成した硬化物が耐熱性等に優れるエポキシ樹脂用硬化剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物を含有するエポキシ樹脂用硬化剤。
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本発明は、一般式 (I) の非ステロイド化合物をエストロゲンとして記載する: 式中Aは式 (II) であり、式中X¹はフェニル環上の1または2以上の基であり、そして互いに独立して、ハロゲン、OH、(C₁-C₄) アルキル、(C₁-C₄) アルキル-O、(C₃-C₆) シクロアルキル-O、(C₁-C₁₄) アシル-O、(C₁-C₄) アルケニル、(C₁-C₄) アルキニル、ペルフルオロ (C₁-C₄) アルキル、-CHOまたはCN基であり、そしてX²はフェニル環上の1または2以上の基であり、そして互いに独立して、H、ハロゲン、OH、(C₁-C₄) アルキル、(C₁-C₄) アルキル-O、(C₁-C₄) アルケニル、(C₁-C₄) アルキニル、ペルフルオロ (C₁-C₄) アルキル、-CHOまたはCN基である。

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【課題】化学修飾が容易であるとともに、特徴的な立体構造を有し、かつ、包摂化合物等としての利用が期待される新規なアレーン系化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）（Ｘは炭素数１〜１０のアルキル基等を示し、ｍは０又は１を示す）で表される原料化合物（Ａ）と、下記一般式（２）（Ｙは一価の置換基等を示し、ｎは０又は１を示す）で表される原料化合物（Ｂ）とを反応させて得られるアレーン系化合物である。
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