【課題】高い酸素透過性および機械的強度を有し、残留する未重合モノマー量がきわめて少なく、かつ低吸水率で、レンズの形状安定性に優れたＣＬ材料を提供する。
【解決手段】特定のシリコーン含有モノマーを含む共重合成分を重合して得られる共重合体からなるコンタクトレンズ材料であって、該共重合体中に残留する未重合モノマー成分の、該共重合体に対する残留量の合計が、３．５重量％以下であり、該共重合体の酸素透過係数が、１３０×１０^-11（ｃｍ²／ｓｅｃ）・（ｍＬＯ₂／（ｍＬ・ｍｍＨｇ））以上であり、かつ該共重合体の吸水率が、０．３重量％以下であるコンタクトレンズ材料。 （もっと読む）

【課題】大環状構造を有する重合体を得ることができるラジカル重合性基含有環状ポリスルフィドおよびその製造方法、並びにこのラジカル重合性基含有環状ポリスルフィドを重合して得られる重合体を提供する。
【解決手段】ラジカル重合性基含有環状ポリスルフィドは、２，４−チアゾリンジオンとチイラン化合物とを反応させることにより得られる環状ポリスルフィドを４−クロロメチルスチレンに反応させることにより得られるものである。 （もっと読む）

【課題】高解像度且つ高感度で形状が良好なパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する、特定の構造を有するカリックスレゾルシンアレン誘導体（Ａ）と、波長２４８ｎｍ以下の活性エネルギー線を照射することで直接又は間接的に酸を発生する酸発生剤（Ｂ）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】アリロキシ基含有共重合体の光転位反応を利用して、電子写真の現像材、印刷用インク、建築用塗料等の構成材料としての用途が見込まれる高分子の集合体よりなるナノ粒子を提供すること、及び光記憶材料や光センサーなどへの応用展開が見込まれる光転位による新しいナノ粒子の製造技術の提供。
【解決手段】アリロキシ基含有のポリマーとポリスチレン誘導体からなる共重合体に高圧水銀ランプを用いて光照射することにより、アリロキシ基が光転位して該共重合体中に水酸基を形成し、その水酸基が水素結合により凝集することによって数十ナノメートルのナノ粒子が得られることを見出し、本発明を完成した。 （もっと読む）

【課題】遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においても、高解像性、大きなブリッジマージンを示すネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のジカルボニルメチレン構造を有する繰り返し単位を有するアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する化合物及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】圧電特性及び耐熱性に優れ、かつ低コストで容易に形成（製造）できる有機高分子材料及び有機複合材料を提供する。更に、それらの特徴を活かした有機圧電材料、有機圧電膜、超音波振動子、超音波探触子、及び超音波医用画像診断装置を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物を原料の一部もしくは全てとして重合反応により形成した有機高分子材料であって、当該一般式（１）における置換基Ｒが、電子吸引性基であり、かつ当該化合物の双極子モーメント量を増加させる作用を有する活性基であることを特徴とする有機高分子材料。
【化１】
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【課題】抗付着特性を示す化合物を提供すること。
【解決手段】これらの化合物は、単量体または重合体であり得る。本発明の化合物を使用してレセプタ媒介疾患を治療する方法が提供されている。穀物保護、医療用具および汚染防止用のさらに別の方法が提供されている。種々の生物製剤による付着の影響を受けやすい表面で使用する新規な抗付着化合物が開示されている。これらの化合物のうちには、クマル酸のエステル、クマル酸とゾステリン酸の混合エステル、および実施例で記述された数種の他の化合物が含まれる。このような「汚染防止」物質は、このような表面への生物製剤による損傷を防止するために、このような表面での生物膜の形成を防止するために、このような表面の生物製剤による感染を防止するために、このような表面の血栓形成性を抑制するために、また、当業者に容易に明らかな他の用途のために、使用され得る。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ベンゼン環上に、−ＣＨ_２−Ｙ−Ｚ¹で表される基（Ｙは、単結合または２価の連結基である。Ｚ¹は、非酸分解性基を表す）を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ベンゼン環上に、−ＣＨ_２−Ｙ−Ｚ¹で表される基（Ｙは、単結合または２価の連結基である。Ｚ¹は、任意の置換基を表す）を有する繰り返し単位と、特定の酸分解性繰り返し単位とを含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】金属元素の材料への組み込みを均質にでき、組み込むべき金属元素に特異な化学作用を開発する必要がない、金属元素がドープされたポリマー材料を調製するプロセスを提供すること。
【解決手段】本発明は、金属元素がドープされたポリマー材料を調製するプロセスに関し、少なくとも１つのエチレン性機能を含む少なくとも１つのモノマーを重合する工程を含み、このモノマーが金属元素と錯化している。
このプロセスによって得られた材料の、触媒、または発光材料もしくは磁性材料、またはレーザーターゲット用構成要素としての使用。
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