【課題】 ＥＢまたはＥＵＶ照射下で充分良好な感度、コントラスト、解像力、ラインエッジラフネスを実現できるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸の作用により分解して、アルカリ可溶性基を生じるとともに、特定構造を有する脱離基を生じる基を有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明は、生理学的に許容可能な媒体中に、光学的効果の性質をもつ少なくとも1種の新規なモノマー化合物を含む少なくとも1種のポリマーを含む化粧品組成物又は医薬組成物に関する。本発明はまた、このような化粧品組成物の1つをケラチン質(例えば、体若しくは顔の皮膚、唇、爪、睫毛、眉毛及び／又は毛髪)に適用することを含む、ケラチン質をメイクアップ又はケアする化粧方法にも関する。本発明はさらに、式(I)をもち光学的性質をもつ新規なモノマー化合物、それらを含むポリマー及び組成物に光学的効果(例えば、蛍光又は蛍光増白)をもたせるために組成物にそれらのポリマーを使用することに関する。
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電子デバイスに使用する有機高分子であって、この高分子は、式（ａ）および（ｂ）の反復単位を含む。式中、高分子内の少なくとも１個の反復単位がＲ⁴を含むことを条件として、各Ｒ¹が、独立してＨ、アリール基、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、または架橋可能な基を含む有機基であり、各Ｒ²が、独立してＨ、アリール基、またはＲ⁴であり、各Ｒ³が、独立してＨまたはメチルであり、各Ｒ⁵が、独立してアルキル基、ハロゲン、またはＲ⁴であり、各Ｒ⁴が、独立して、少なくとも１個のＣＮ基を含み、ＣＮ基あたり約３０〜約２００の分子量を有する有機基であり、ｎ＝０〜３である。これらの高分子は、有機薄膜トランジスタなどの電子デバイスに有用である。

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【課題】 相溶化剤等ヘの応用ができるポリスチレン型グラフト高分子の提供。
【解決手段】 一般式（Ｉ）
【化１】


〔式中、Ｒは置換又は無置換のアルキル基、Ｗは炭素原子数２〜10のメチレン鎖（Ｗが−CH₂CH₂CH₂−である場合を除く）を示す。m及びnはそれぞれ１〜50の整数、ｐは２〜50の整数を示す。〕で表される末端にシリルオキシ基を持つ、グリシジルエーテルとラクトンのブロック共重合体を側鎖に持つポリスチレン型グラフト高分子。 （もっと読む）