【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が向上するベース樹脂となる高分子化合物と、高分子添加剤としてナフチル基を有する繰り返し単位とフッ素原子を有する繰り返し単位とを共重合した高分子化合物とを含むレジスト材料。
【効果】本発明のレジスト材料を用いて形成したフォトレジスト膜は、レジスト膜表面を親水性化することで、現像後レジスト膜上のブロッブ欠陥の発生を防止できる。また、液浸露光用のレジスト保護膜とのミキシングを防止することでパターン形状の劣化を防止でき、膜表面に残存する液滴が誘発するパターン形成不良を低減することもできる。
従って、本発明のレジスト材料を用いれば、液浸リソグラフィーにおけるコストを削減し、欠陥の少ない微細なパターンを高精度で形成できる。 （もっと読む）

【課題】高い光学特性を有し、硬化性に優れたペンダント位のビニル基を持ち、加工性に優れる制御された分子量分布と溶剤可溶性を兼ね備えた多官能ビニル芳香族共重合体を高効率に製造する方法を提供する。
【解決手段】２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン、チオール化合物及びチオエーテル化合物からなる群から選ばれる一種以上の連鎖移動剤（Ａ）の存在下で、ジビニル芳香族化合物（ａ）を１０〜９８モル％及びモノビニル芳香族化合物（ｂ）を９０〜２モル％含有してなる単量体成分を、５０〜２００℃の温度で重合させることにより溶剤可溶性多官能ビニル芳香族共重合体を製造する。 （もっと読む）

【課題】混合原子価錯体修飾ハイパーブランチポリマーを提供する。
【解決手段】ハイパーブランチポリマーに混合原子価錯体をイオン結合で固定化した高分子錯体を提供することで、スピンコート等による薄膜化が可能となり、混合原子価錯体の幅広い産業応用を可能とする。 （もっと読む）

【課題】透明性や耐熱性に優れるだけでなく、可撓性や耐折性などの機械的特性に優れ、かつ異物が少なく着色性が低いという望ましい特性を備えると共に、特に、光弾性係数が小さく延伸しても光学的等方性が高いという光学的特性に優れた偏光子保護フィルムおよびそれを用いた偏光板を提供すること。
【解決手段】本発明の偏光子保護フィルムは、正の位相差を与えるラクトン環構造単位と負の位相差を与える芳香族単量体由来の構造単位とを有するアクリル系共重合体を主成分として含有する。本発明の偏光板は、このような偏光子保護フィルムを偏光子の少なくとも片面に貼合してなる。 （もっと読む）

【課題】高感度の平版印刷版を経時保存した後においても露光部の耐刷性と非画像部の溶出性に優れた平版印刷版の処理方法。
【解決手段】支持体上にメタクリル酸および側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有する成分を含む重合体であって、該重合体中にアクリル酸を含まないか、アクリル酸のメタクリル酸に対するモル比が０．５以下である重合体を含有する感光層を有する平版印刷版を、一般式（I）で表される化合物を１種含む現像液を用いて処理する。


（式中、Ｘはアルキル基、アリール基、もしくは複素環基、Ｌは水素、炭素、窒素、酸素、硫黄から構成される原子群から選ばれる原子からなる連結基、Ａはアルキレン基、ｌは０または１であり、ｍは１以上の整数、ｎは１以上の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】ポリオレフィン樹脂用の接着剤として用いた際に、接着時の熱処理温度を低温にした場合でも優れた接着性が得られるビニル化合物共重合体、該ビニル化合物共重合体を有効成分とする接着剤、および、該ビニル化合物共重合体とポリオレフィン樹脂とが積層されてなる積層体を提供すること。
【解決手段】一般式ＣＨ₂＝ＣＨ−Ｒ［置換基Ｒは、脂環族炭化水素基または芳香族炭化水素基を表す。］で表されるビニル化合物に基づく単量体単位とα−オレフィンに基づく単量体単位とを有するビニル化合物共重合体であって、温度８０℃、せん断速度０．５ｒａｄ／ｓｅｃにおける溶融粘度（η^*）が１．０×１０〜６．０×１０⁴Ｐａ・ｓｅｃであり、示差走査熱量計により２００℃から−８０℃まで１０℃／分で降温しながら測定される示差走査熱量曲線での全発熱量に対する６０℃以下の発熱量の割合が８０％以上であるビニル化合物共重合体。 （もっと読む）

【課題】高度な耐候性を有するポリプロピレン系繊維（以下ＰＰ繊維）を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される、分子内にピペリジル基を持つエチレン性不飽和単量体（ａ）２０〜５０質量部と、アルキル基の炭素数が４〜１３であるアルキル（メタ）アクリレート及び芳香族ビニル系単量体から選ばれる少なくとも1種の単量体（ｂ）５０〜８０質量部と単量体（ａ）、（ｂ）以外の単量体（ｃ）を０〜５質量部からなる不飽和単量体混合物（ただし、単量体（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の合計は１００質量部）を重合することで得られる共重合体（Ａ）とポリプロピレン系樹脂とを含有する樹脂組成物からなるＰＰ繊維。（Ｒ_１、ＹはＨ又はアルキル基等、ＸはＨ又はイミノ基、ＺはＨ又はシアノ基を示す。）
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【課題】従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される置換可ヒドロキシスチレンの繰り返し単位および置換可ヒドロキシビニルナフタレンの繰り返し単位を有することを特徴とする高分子化合物。
【化６１】
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【課題】ルイス酸および／または遷移金属を実質的に含まない、イソブチレン型モノマーを含むコポリマーを作製すること。
【解決手段】コポリマーを含むコポリマー組成物は、ドナーモノマーおよびアクセプターモノマー由来の以下の交互残基を有する少なくとも３０モル％の残基から構成される。このコポリマーは、少なくとも１５モル％のイソブチレン型ドナーモノマーおよびアクセプターモノマーとしての少なくとも１５モル％のアクリル性モノマーを含有する。コポリマーは、マレエートモノマーセグメントおよびフマレートモノマーセグメントを実質的に含まず、コポリマー組成物は、ルイス酸および遷移金属を実質的に含まない。 （もっと読む）

【解決手段】下記式（１ｍ）、（１ｐ）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物。


（Ｒ¹、Ｒ²はＨ、Ｆ、又はアルキル基又はフッ素化されたアルキル基、Ｒ³はＦ、又は直鎖状、分岐状もしくは環状のフッ素化されたアルキル基、Ｒ⁴は炭素数６〜２０の少なくとも１つの環状構造を持つ酸不安定基である。）
【効果】レジスト材料は、高エネルギー線に感応し、２００ｎｍ以下の波長における感度が優れている上に、透明性が向上し、それと同時に優れたプラズマエッチング耐性を有する。 （もっと読む）