【課題】未露光残膜率が高く、比誘電率が低く、ドライエッチング耐性に優れ、かつ、ＩＴＯスパッタ耐性にも優れたフォトレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ｉ）酸不安定基を有するラジカル重合性化合物、および、（ｉｉ）一般式（１）で表される不飽和カルボン酸エステルを含むラジカル重合性化合物を共重合させて得られるフォトレジスト用共重合体において、主鎖末端に芳香族基を含む基を含む構造とする。 （もっと読む）

【課題】繰り返してパターン形成しても、パターン形成性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】重合性化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）および非重合性化合物（Ｃ）を含有するインプリント用硬化性組成物であって、該インプリント用硬化性組成物に対する前記非重合性化合物（Ｃ）の溶解が発熱的であることを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】スピンコート法の実施条件を変更することにより、膜厚が大きく異なる樹脂膜を形成することが可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸により解離して酸性官能基を生じる酸解離性官能基を有する構造単位を有する重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤、および（Ｃ）２０℃、１気圧での飽和蒸気圧が３．０ｍｍＨｇ以下のエチレングリコール系有機溶媒を含む有機溶媒類を含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】低温での離型性に優れ、フィルミングの発生が少なく、低温定着性と耐熱保存性とを両立し、長期使用においても高画質が得られる、小粒径かつ粒度分布の狭いトナー。
【解決手段】少なくともポリエステル樹脂とスチレン／アクリル樹脂とアクリル樹脂とを含むトナー粒子のトナーであって、前記樹脂のフローテスターにおけるダイ穴径およびダイ長さが１．０ｍｍ、せん断応力が７．３５５×１０^５Ｐａ、昇温速度が３．０℃／ｍｉｎでのＴ１／２法温度が下記式（１）乃至（３）を満たし、且つ、該トナー粒子は前記ポリエステル樹脂粒子の外側に前記スチレン／アクリル樹脂微粒子から成る層Ａと、前記アクリル樹脂微粒子から成る層Ｂを含み、前記樹脂微粒子層Ａが層Ｂの外側にあるトナー。７０℃≦ポリエステル樹脂≦１００℃・・・（１）１２０℃≦スチレン／アクリル樹脂≦２００℃・・・（２）１２０℃≦アクリル樹脂≦１５０℃・・・（３） （もっと読む）

【課題】弱溶剤に溶解させた場合において顔料分散性、色調安定性や色調経時安定性にも優れた調色塗料又は原色塗料を調製できる顔料分散用樹脂及びこれを用いた顔料分散体、並びに、この顔料分散体を用いて得られる調色塗料及び原色塗料を提供すること。
【解決手段】（変性）アクリル樹脂及び弱溶剤を含む顔料分散用樹脂溶液であって、（変性）アクリル樹脂は、数平均分子量２，０００〜１４，０００、酸価及びアミン価の少なくとも一方が０．１〜１５ｍｇＫＯＨ／ｇであり、かつ水酸基価０〜１５ｍｇＫＯＨ／ｇを有し、（変性）アクリル樹脂分に対して特定の重合性不飽和モノマー１０〜３５質量％及びホモポリマーのＳＰ値が９．２以下となる（メタ）アクリル酸エステル系モノマー１５質量％以上９０質量％未満を含有する顔料分散用樹脂溶液、この顔料分散用樹脂溶液及び顔料を含有する顔料分散体並びに前記顔料分散体を含有する調色塗料又は原色塗料。 （もっと読む）

【課題】流動性、耐熱性、機械強度および機械強度に優れたメタクリル系樹脂組成物を提供する。
【解決手段】メチルメタクリレートの単位（ａ）およびメチルメタクリレート以外のアルキル（メタ）アクリレートの単位（ｂ）を含み、重量平均分子量が５万〜２５万である共重合体（１）と、メチルメタクリレートの単位（ａ）およびメチルメタクリレート以外のアルキル（メタ）アクリレートの単位（ｂ）とを含み、重量平均分子量が０．６万〜４万である共重合体（２）とを含有し、分散安定剤および乳化剤のいずれも含有せず、前記共重合体（１）に含まれる単位（ｂ）の質量分率が、前記共重合体（２）に含まれる単位（ｂ）の質量分率より小さいメタクリル系樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性のレジストパターンを製造でき、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位と、式（ａｂ）で表される構造単位とを有する樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ａ^aa1及びＡ^ab1は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等；Ｒ^aa2は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基；Ｗ^１は、脂肪族環を含む２価の基；Ａ^ab2は脂肪族炭化水素基；Ｒ^ab2は、フッ化アルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】高解像性と共に、良好なパターン形状を与えることができるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を使用した、保護膜を形成して行う液浸リソグラフィーにおけるパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸不安定基として、３級炭素にアダマンチルを含むメタアクリル系繰り返し単位及び３級炭素が環状構造を形成してるメタアクリル系繰り返し単位を有し、酸によってアルカリ溶解性が向上する樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）下記一般式(３)で表される化合物、及び（Ｄ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。
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【課題】現像後のレジストの解像性及び金属めっき耐性が良好であり、かつレジスト剥離性の良好な光重合性樹脂組成物、光重合性樹脂積層体、レジストパターンの形成方法、並びに回路基板、リードフレーム及び半導体パッケージの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）カルボキシル基含有量が酸当量で１００〜６００であり、重量平均分子量が５０００〜５０００００であるバインダー用樹脂：１０〜９０質量％、（Ｂ）光重合性不飽和化合物：５〜７０質量％、及び（Ｃ）光重合開始剤：０．０１〜２０質量％を含有する光重合性樹脂組成物であって、該（Ａ）バインダー用樹脂が特定構造の化合物を含むモノマー成分の重合生成物である、光重合性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】成形流動性に優れ、成形体の表面硬度が高く、成形体を熱板溶着する際にも糸曳きが発生せず、さらには成形体の耐溶剤性や衝撃強度も高いメタクリル系樹脂組成物を得る。
【解決手段】メタクリル酸エステル単量体単位８０〜９８．５（質量％）と、
少なくとも１種のメタクリル酸エステルに共重合可能な他のビニル単量体単位１．５〜２０（質量％）と、を含み、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した重量平均分子量が６００００〜２５００００であり、ＧＰＣ溶出曲線から得られるピーク分子量（Ｍｐ）の１／５以下の分子量成分が７〜４０％含まれているメタクリル系樹脂（Ａ）と、
フッ素系樹脂（Ｂ）と、
を、含有するメタクリル系樹脂組成物。 （もっと読む）