国際特許分類[C08F220/18]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体 (4,622) | 9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体 (4,406) | エステル (3,361) | 一価のアルコールまたはフェノールのエステル (699) | フェノールまたは2個以上の炭素原子をもつアルコールのエステル (403) | アクリル酸またはメタクリル酸との (372)
国際特許分類[C08F220/18]に分類される特許
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感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
【課題】密着性と解像度が優れ、レジストの微少な欠損が少なく、断面形状が矩形に近いレジストパターンを形成可能な感光性エレメント、並びに、これを用いたレジストパターンの形成及びプリント配線板の製造方法の提供。
【解決手段】支持フィルム10と、その上に形成された感光層20と、保護フィルムを備える感光性エレメント1であって、支持フィルムのヘーズが、0.01〜1.5%であり、かつ、該支持フィルムに含まれる直径5μm以上の粒子及び直径5μm以上の凝集物の総数が5個/mm2以下であり、また、バインダーポリマーとエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物及び光重合開始剤を含有する感光層の厚さT(μm)と365nmにおける吸光度Aとが、0.005≦A/T≦0.020で表される関係を満足し、更に、保護フィルムの酸素透過率が、5×10−2m3/m2・日・MPa以下である感光性エレメント。
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感光性組成物およびそれを用いた平版印刷版用原版
【課題】1液処理が可能であり、耐刷性能が優れた感光層の形成を可能とする感光性組成物、サーマルネガ版用平版印刷版原版、および画像形成方法を提供すること。
【解決手段】下記式(I)〜(III)
で表される繰り返し単位を少なくとも含有し、式(I)、(II)および(III)で表される繰り返し単位の含有量が、それぞれ3〜20質量%、15〜45質量%、および15〜35質量%であるアルカリ可溶性樹脂を少なくとも含有する感光性組成物。
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感放射線性樹脂組成物、表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法
【課題】本発明は、良好な感度に加え、未露光部の膜厚変化量が少ない感放射線性樹脂組成物、この感放射線性樹脂組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜、並びにその形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、[A]同一又は異なる重合体分子中に、下記式(1)で表される基を有する構造単位(I)及びエポキシ基を有する構造単位(II)を含み、構造単位(I)の含有率が10モル%以上90モル%以下である重合体を含有する感放射線性樹脂組成物である。現像前の塗膜の膜厚T0に対する現像後の膜厚T1の膜厚変化率は、90%以上であることが好ましい。
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ポジ型感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、半導体装置及び電子デバイス
【課題】
塗布後及び現像後の樹脂膜の濁りを充分に抑制することが可能であり、かつ低温での硬化が可能で、アルカリ水溶液で現像可能であるポジ型感光性樹脂組成物、並びに、該ポジ型感光性樹脂組成物を用いたレジストパターンの製造方法、かかる方法により形成されたレジストパターンを有する半導体装置、及び該半導体装置を備える電子デバイスを提供すること。
【解決手段】
(A)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂と、(B)光により酸を生成する化合物と、(C)熱架橋剤と、(D)所定の構造単位を有するアクリル樹脂と、を含有するポジ型感光性樹脂組成物。
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感光性組成物およびそれを用いた平版印刷版用原版
【課題】 本発明の目的は、湿式現像処理工程を経ることなくネガ型画像を形成することを可能とする感光性組成物と、該感光性組成物用いた平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】 (A)下記式(I)
【化1】
(式中、R1は、水素原子又はメチル基を表す。)
の構造を有する繰り返し単位を共重合成分として60〜95モル%含有する高分子化合物を提供する。
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ポリマーの改良
【課題】石油源からの燃料油、植物源または動物源からの燃料油、およびこれらの燃料油の混合物の低温特性を改良すること。
【解決手段】式(I)の構造単位および式(II)の構造単位
を含む硫黄不含ポリマーであって、式中、R1は、C8−C22アルキル基、好ましくはC12−C16アルキル基を表し、R2は、水素またはメチルであり、R3は、−R5(OR6)nOR7を表し、R5およびR6は、同じまたは異なってもよく、独立して、直鎖または分岐鎖C1−C8アルキレン基を表し、nは、1〜20の整数であり、R7は、C1−C4アルキル基を表し、R4は、水素またはメチルであり、ポリマー中の構造単位(I):構造単位(II)のモル比は、100:1〜2:1の範囲内である、硫黄不含ポリマー。
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化合物、高分子化合物、酸発生剤、レジスト組成物、レジストパターン形成方法
【課題】新規化合物、高分子化合物、レジスト組成物、酸発生剤及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式(1−1)で表される化合物[式中、R1、R3はそれぞれ独立に、単結合又は2価の連結基であり、Aは2価の連結基であり、R2、R4はそれぞれ独立に、水酸基、置換基を有していてもよい炭化水素基、又は式(1−an1)、(1−an2)又は(1−an3)で表される基である。n0は0又は1である。Y1は単結合又は−SO2−であり、R5はフッ素原子で置換されていてもよい、炭素数1〜10の1価の炭化水素基、炭素数3〜20の環状の1価の炭化水素基、又は炭素数3〜20の環状の部分構造を有する1価の炭化水素基である。M+は有機カチオン又は金属カチオンである]。
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硬化性組成物
【課題】接着剤として特に有用で、有機ブチル錫化合物を使用しないため、環境負荷が少なく、硬化速度が速い硬化性組成物を提供する。
【解決手段】反応性ケイ素基を有するポリオキシアルキレン系重合体、および、特定構造の反応性ケイ素基を分子鎖末端および/または側鎖に有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体を含有し、さらに好ましくは、縮合触媒として、アミン化合物を含有する硬化性組成物を用いることにより、上記課題を解決することができる。
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ナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物及びパターン形成方法
【課題】 本発明のナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物は、ナノインプリントリソグラフィーによるパターン形成方法において、レジスト膜の剥がれが生じ難い形状転写層を形成することができるという効果を奏するものである。
【解決手段】 (A)重合性化合物と、(B)25℃、1atmの条件下においてASTM−D3539に準拠して測定される相対蒸発速度の値が、酢酸ブチルの値を1としたとき1〜15の範囲内にある有機溶媒とを含有し、(A)成分100重量部に対して(B)成分を0.01〜10重量部含有する、ナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物を提供する。
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接着剤組成物及びその製造方法
【課題】建築用途、工業用途及びコーティング用、特に化粧合板、複合パネルなどの建材用途に有用な水分散型接着剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)特定の分岐アルキル基を有するビニルエステル不飽和単量体;2〜15質量%及び、(B)ベンゼン環を有するエチレン性不飽和単量体;10〜40質量%、(C)カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体;1〜5質量%、(D)前記(A)〜(C)以外の単量体であって、且つエチレン、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル及び酪酸ビニルではない共重合可能なエチレン性不飽和単量体;40〜87質量%、を共重合した重合体と、ホルムアルデヒド捕捉剤として、硫酸ヒドロキシルアミン、ジシアンジアミド、塩酸ヒドロキシルアミン、アジピン酸ジヒドラジドから選ばれる少なくとも1種と、を有することを特徴とする水分散型接着剤組成物。
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