感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
【課題】密着性と解像度が優れ、レジストの微少な欠損が少なく、断面形状が矩形に近いレジストパターンを形成可能な感光性エレメント、並びに、これを用いたレジストパターンの形成及びプリント配線板の製造方法の提供。
【解決手段】支持フィルム１０と、その上に形成された感光層２０と、保護フィルムを備える感光性エレメント１であって、支持フィルムのヘーズが、０．０１〜１．５％であり、かつ、該支持フィルムに含まれる直径５μｍ以上の粒子及び直径５μｍ以上の凝集物の総数が５個／ｍｍ２以下であり、また、バインダーポリマーとエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物及び光重合開始剤を含有する感光層の厚さＴ（μｍ）と３６５ｎｍにおける吸光度Ａとが、０．００５≦Ａ／Ｔ≦０．０２０で表される関係を満足し、更に、保護フィルムの酸素透過率が、５×１０−２ｍ３／ｍ２・日・ＭＰａ以下である感光性エレメント。
【解決手段】支持フィルム１０と、その上に形成された感光層２０と、保護フィルムを備える感光性エレメント１であって、支持フィルムのヘーズが、０．０１〜１．５％であり、かつ、該支持フィルムに含まれる直径５μｍ以上の粒子及び直径５μｍ以上の凝集物の総数が５個／ｍｍ２以下であり、また、バインダーポリマーとエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物及び光重合開始剤を含有する感光層の厚さＴ（μｍ）と３６５ｎｍにおける吸光度Ａとが、０．００５≦Ａ／Ｔ≦０．０２０で表される関係を満足し、更に、保護フィルムの酸素透過率が、５×１０−２ｍ３／ｍ２・日・ＭＰａ以下である感光性エレメント。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、プリント配線板の製造分野及び金属の精密加工分野において、エッチング、めっき等に用いられるレジスト材料としては、感光性樹脂組成物からなる層（以下「感光層」という）、支持フィルム及び保護フィルムで構成される感光性エレメントが広く用いられている。
【０００３】
プリント配線板は、例えば下記のようにして製造される。まず、感光性エレメントの保護フィルムを感光層から剥離した後、回路形成用基板の導電膜上に感光層をラミネートする。次いで、感光層にパターン露光を施した後、未露光部分を現像液で除去し、レジストパターンを形成する。そして、このレジストパターンに基づいて、導電膜をパターンニングすることによって、プリント配線板が形成される。
【０００４】
この未露光部分の除去に用いられる現像液としては、炭酸ナトリウム水溶液等のアルカリ現像型が主に用いられている。現像液は、通常、ある程度感光層を溶解する能力があればよく、現像時には感光層が現像液に溶解又は現像液中に分散される。
【０００５】
近年、プリント配線板の高密度化に伴い、回路形成用基板とレジスト材料である感光層との接触面積が小さくなっている。そのため、感光層には、エッチング又はめっき工程において優れた機械強度、耐薬品性、柔軟性が要求されると共に、回路形成用基板との優れた密着性やパターン形成における優れた解像度が要求されている。最近では、特にパッケージ基板用途としてライン幅及びスペース幅が共に１０μｍ以下のレジストパターンを形成し得る材料が望まれ、さらに、配線間の絶縁信頼性の向上のため、レジストパターンの形状を矩形に近づけることが必要とされている。
【０００６】
通常、感光性エレメントを用いてレジストを形成する際には、感光層を回路形成用基板上にラミネートした後、支持フィルムを剥離することなく露光を行う。このような露光処理に対応するためには、支持フィルムに光透過性の材料を採用すればよい。また、パターン形成における高い解像度を得るためには、支持フィルムをなるべく薄くする必要がある。その一方で、支持フィルム上に感光性樹脂組成物を均一な厚さで歩留り良く塗布するためには、支持フィルムにある程度の厚さ（一般に１０〜３０μｍ）が要求される。また、支持フィルムの生産性を向上するため、すなわち、支持フィルムの巻き取り性を向上させる目的で、一般に支持フィルムに、無機又は有機微粒子を含有させている。そのため、従来の支持フィルムは、ヘーズが増大し、支持フィルムが含有する微粒子により、露光時に光散乱が起こり、感光性フィルムの高解像度化の要求に応えられない傾向にある。また、プリント配線板の生産性を向上させるため、感光性フィルムの高感度化の要求がある。
【０００７】
高感度化を達成する方法としては、感光層に含有する光重合開始剤の添加量を増加させれば良いが、感光層の吸光度が高くなるため、露光及び現像後のレジスト形状が逆台形になり、密着性が低下する傾向がある。
【０００８】
高解像度化を達成する方法としては、露光前に、感光性エレメントに備えられた支持フィルムを剥離し、支持フィルムを介さずに露光する方法がある。この場合、感光層にフォトツールを直接密着させる場合もある。しかしながら、感光層は、通常ある程度の粘着性を有しているため、フォトツールを感光層に直接密着させて露光を行う場合、密着させたフォトツールの除去が困難となる。また、感光層によりフォトツールが汚染されたり、支持フィルムを剥離することにより感光層が大気中の酸素に曝されたりして、光感度が低下しやすくなる。
【０００９】
上述の点を改善するために、種々の手段が提案されている。例えば、特許文献１及び２には、二層以上の感光層を形成し、そのうちのフォトツールと直接密着する層を非粘着性とする方法が開示されている。また、特許文献３〜８では、支持フィルムと感光層との間に中間層を設ける方法が提案されている。また、特許文献９及び１０では、支持フィルムの片側の最表面に平均粒径０．０１〜５μｍ程度の無機又は有機微粒子を含有させることでヘーズを低くし、支持フィルムを介して露光しても高解像度化できる方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開平０１−２２１７３５号公報
【特許文献２】特開平０２−２３０１４９号公報
【特許文献３】特公昭５６−０４０８２４号公報
【特許文献４】特開昭５５−５０１０７２号公報
【特許文献５】特開昭４７−０００４６９号公報
【特許文献６】特開昭５９−０９７１３８号公報
【特許文献７】特開昭５９−２１６１４１号公報
【特許文献８】特開昭６３−１９７９４２号公報
【特許文献９】特開平０７−３３３８５３号公報
【特許文献１０】国際公開第００／０７９３４４号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、上記特許文献１〜８に記載の手段では、中間層を設けたり、複数の感光層を設けたりするための余計な塗布工程が必要となり、その製造工程の数が増加する。また、特許文献１及び２に記載の手段では、回路形成用基板に設置した際に感光層は大気中の酸素に曝されるため、その光感度を高く維持することは困難である。さらに、特許文献３〜８に記載の手段では、中間層が薄いために、感光性エレメントの取扱いが容易ではない。
【００１２】
さらに、本発明者らが検討した結果、特許文献９及び１０に記載の手段では、高解像化はできるものの、感光層の膜厚を薄膜化するに従い、レジストパターンに欠けが生じ、プリント配線板の製造歩留りが低下する傾向があることが判明した。
【００１３】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、薄膜の感光性樹脂組成物からなる層を備える感光性エレメントにおいて、光感度を高くし、密着性及び解像度が良好であり、レジストの微少な欠損を十分に低減し、断面形状がより矩形に近いレジストパターンを形成可能である感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、支持フィルムと、該支持フィルム上に形成された感光性樹脂組成物に由来する感光層と、保護フィルムを備える感光性エレメントであって、前記支持フィルムのヘーズが、０．０１〜１．５％であり、かつ、該支持フィルムに含まれる直径５μｍ以上の粒子及び直径５μｍ以上の凝集物の総数が５個／ｍｍ２以下であり、前記感光層が、バインダーポリマー、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物及び光重合開始剤を含有し、前記感光層の厚さＴ（μｍ）と前記感光層の３６５ｎｍにおける吸光度Ａとが、下記式（Ｉ）で表される関係を満足し、
０．００５≦Ａ／Ｔ≦０．０２０ （Ｉ）
前記保護フィルムの酸素透過率が、５×１０−２ｍ３／ｍ２・日・ＭＰａ以下である、感光性エレメントに関する。
【００１５】
従来の感光性エレメントを用いてレジストパターンを形成した場合、感光層の吸光度が高いため、線幅が１０μｍ以下のレジストパターンの断面は、極端な逆台形の形状となる傾向がある。そのため、このようなレジストパターンを用いて作製される配線パターンの断面は極端な逆台形となり、プリント配線板の高密度化には限界がある。また、酸素透過率の高い従来の保護フィルムを使用した場合、光感度が低くなり、プリント配線板の生産性を向上させるには限界がある。
【００１６】
そこで、まず、本発明者らは、支持フィルムに着目し、ヘーズを十分に低減し、かつ、フィルムに含まれる直径５μｍ以上の粒子及び直径５μｍ以上の凝集物の総数が少ない支持フィルムを採用することで、露光時に照射した活性光線の光散乱が発生し難く、現像後のレジストパターンの欠損を少なくすることが可能となることを見出した。次いで、本発明者らは、感光層の３６５ｎｍにおける吸光度と膜厚の関係に着目して検討した結果、レジストパターンの断面形状を矩形に近づけることができることを見出した。次いで、本発明者らは、保護フィルムの酸素透過率と光感度の関係に着目して検討した結果、光感度を高くすることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１７】
また、本発明の感光性エレメントにおいて、光重合開始剤が２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含有することで、高い光感度を維持しつつ、密着性及び解像度をより向上させ、極細線のレジストパターンが形成可能となる。
また、本発明の感光性エレメントにおいて、感光層の厚さが、２〜３０μｍであることが好ましい。
【００１８】
上記光重合開始剤が、下記一般式（ＸＩ）又は（ＸＩＩ）でそれぞれ表されるピラゾリン化合物を含有することが好ましい。
【００１９】
【化１】
【００２０】
【化２】
【００２１】
式中、Ｒは炭素数１〜３の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、炭素数１〜３の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基又はハロゲン原子を示し、ａ、ｂ及びｃの総和は１〜６であり、ａ、ｂ及びｃの総和が２以上のとき、複数存在するＲは互いに同一でも異なっていてもよい。
【００２２】
光重合開始剤として上記ピラゾリン化合物を配合することにより、感光層の吸光度を一定の範囲内で維持しつつ、光感度をより高くすることができるため、プリント配線板の生産性を向上することが可能となる。
【００２３】
溶剤への溶解性の観点から、上記式（ＸＩ）及び（ＸＩＩ）におけるＲのうち少なくとも一つがイソプロピル基、メトキシ基又はエトキシ基であることが好ましい。
【００２４】
本発明の感光性エレメントにおいて、光重合性化合物が下記一般式（ＩＩ）で表される化合物を含むと、密着性，解像度及び耐薬品性のバランスが良好となり、極細線のレジストパターンを形成することが可能となる。
【００２５】
【化３】
【００２６】
式中、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｙは炭素数２〜６のアルキレン基を示し、ｎ１及びｎ２はそれぞれ独立に正の整数を示し、ｎ１＋ｎ２は４〜４０であり、ｎ１＋ｎ２が４以上のとき、複数存在するＹは互いに同一でも異なっていてもよい。
【００２７】
また、本発明の感光性エレメントにおいて、バインダーポリマーが下記一般式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（Ｖ）で表される２価の基を有すると、密着性、解像度、及び剥離性とのバランスがより良好となり、極細線のレジストパターンが形成可能となる。
【００２８】
【化４】
【００２９】
【化５】
【００３０】
【化６】
【００３１】
式中、Ｒ７、Ｒ８及びＲ１０はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｒ９は炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、水酸基又はハロゲン原子を示し、Ｒ１１は炭素数１〜６のアルキル基を示し、ｐは０〜５の整数を示し、ｐが２以上のとき、複数存在するＲ９は互いに同一でも異なっていてもよい。
【００３２】
また、バインダーポリマーが、上記一般式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（Ｖ）で表される２価の基と共に、下記一般式（ＶＩ）で表される２価の基を更に有することにより、密着性、解像度及び剥離性のバランスをさらに向上することができる。
【００３３】
【化７】
【００３４】
式中、Ｒ１２は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ１３は炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、水酸基又はハロゲン原子を示す。ｑは０〜５の整数を示し、ｑが２以上のとき、複数存在するＲ１３は互いに同一でも異なっていてもよい。
【００３５】
また、本発明は、上記感光性エレメントを、保護フィルムを除去後、感光層、支持フィルムの順に回路形成用基板上に積層する積層工程と、活性光線を、支持フィルムを通して感光層の所定部分に照射して、感光層に光硬化部を形成させる露光工程と、光硬化部以外の感光層を除去する現像工程と、を含む、レジストパターンの形成方法に関する。
【００３６】
本発明のレジストパターンの形成方法によれば、上記本発明の感光性エレメントを用いるため、極細線のレジストパターンを効率よく得ることができる。
【００３７】
また、本発明は、レジストパターンが形成された回路形成用基板に対し、エッチング又はめっきを施す、プリント配線板の製造方法に関する。本発明のプリント配線板の製造方法によれば、上記本発明の感光性エレメントを用いたレジストパターンの形成方法を採用しているため、極細線の配線パターンを有する高密度のプリント配線板が得られる。
【発明の効果】
【００３８】
本発明の感光性エレメントによれば、感光性樹脂組成物からなる層を備える感光性エレメントにおいて、光感度が高く、密着性及び解像度が良好であり、レジストの微少な欠損を十分に低減し、断面形状がより矩形に近いレジストパターンを形成可能である感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の感光性エレメントの好適な実施形態を示す模式断面図である。
【図２】直径５μｍ以上の粒子等を有する支持フィルムの表面を観察した偏光顕微鏡写真である。
【図３】直径５μｍ以上の粒子等を多数有する支持フィルム上に感光層を備える感光性エレメントを用いて形成したレジストパターンの走査型顕微鏡写真である。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一要素には同一符号を付すこととし、重複する説明は省略する。また、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。更に、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。また、本明細書における「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート」及びそれに対応する「メタクリレート」を意味する。同様に「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」及びそれに対応する「メタクリル」を意味し、「（メタ）アクリロイル」とは「アクリロイル」及びそれに対応する「メタクリロイル」を意味する。
【００４１】
図１は、本発明の感光性エレメント１の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図１に示した感光性エレメント１は、支持フィルム１０と、感光層２０とで構成される。感光層２０は支持フィルム１０の第１の主面１２上に設けられている。また、支持フィルム１０は、第１の主面１２とは反対側に第２の主面１４を有している。
【００４２】
（支持フィルム）
支持フィルム１０は、ヘーズが０．０１〜１．５％であり、かつ支持フィルム１０に含まれる直径５μｍ以上の粒子及び凝集物（以下、単に「粒子等」という）の総数が５個／ｍｍ２以下のものである。ここで、支持フィルム１０に含まれる直径５μｍ以上の粒子等には、支持フィルム１０の主面から突出しているもの及びフィルム内部に存在するものの両方が含まれる。また、直径５μｍ以上の粒子等には、直径５μｍ以上の一次粒子及び直径５μｍ未満の一次粒子の凝集物が含まれる。
【００４３】
支持フィルム１０のヘーズは、０．０１〜１．５％であり、０．０１〜１．３％であることが好ましく、０．０１〜１．０％であることがより好ましく、０．０１〜０．５％であることが更に好ましい。このヘーズが０．０１％未満では支持フィルム１０自体の製造が容易でなくなる傾向があり、１．５％を超えると感度及び解像度が低下する傾向がある。ここで、「ヘーズ」とは曇り度を意味する。本発明におけるヘーズは、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に規定される方法に準拠して、市販の曇り度計（濁度計）を用いて測定された値をいう。ヘーズは、例えば、ＮＤＨ−１００１ＤＰ（日本電色工業株式会社製、商品名）等の市販の濁度計で測定が可能である。
【００４４】
上記直径５μｍ以上の粒子等は、５個／ｍｍ２以下であり、３個／ｍｍ２以下であることが好ましく、１個／ｍｍ２以下であることがより好ましい。この粒子等の数が５個／ｍｍ２を超えると、露光及び現像後のレジストの一部欠損（レジスト微小欠損）が生じ易くなる。そして、このような感光性エレメント１をプリント配線板に使用すると、エッチング時のオープン不良発生や、めっき時のショート不良発生の一因になり、プリント配線板の製造歩留りが低下する傾向がある。
【００４５】
なお、直径５μｍ未満の粒子が支持フィルム１０に数多く含まれていても、光散乱に対する影響は大きくない。その要因は、露光工程において、感光層２０に光を照射した場合、感光層２０の光硬化反応は光照射部のみでなく、若干であるが光が直接照射されていない横方向（光照射方向に対し垂直方向）へも進行する。このため粒子径が小さい場合は、粒子直下部の光硬化反応が十分に進行するが、粒子径が大きくなるに伴い、粒子直下部の光硬化反応が十分に進行しないため、レジスト微小欠損が発生すると考えられる。
【００４６】
ここで、支持フィルム１０に含まれる直径５μｍ以上の粒子等とは、支持フィルム１０を構成する成分、例えば、ポリマーのゲル状物、原料であるモノマー、製造時に使用される触媒、必要に応じて含まれる無機又は有機微粒子がフィルム作製時に凝集し形成される凝集物、滑剤含有層をフィルム上に塗布した際に発生する滑剤と接着剤による膨らみ、フィルム中に含有する直径５μｍ以上の粒子等に起因して生じたものである。直径５μｍ以上の粒子等を５個／ｍｍ２以下にするには、これらの粒子等のうち、粒径の小さなもの又は分散性に優れたものを選択的に用いればよい。
【００４７】
上記直径５μｍ以上の粒子等の数は、偏光顕微鏡を用いて測定することができる。なお、直径５μｍ以上の一次粒子と直径５μｍ未満の一次粒子とが凝集して形成される凝集物は、１個として数える。図２は、直径５μｍ以上の粒子等を有する支持フィルム１０の表面を観察した偏光顕微鏡写真である。図２中、丸で囲まれている部分は、直径５μｍ以上の粒子等に相当する部分の一例を示している。そして、図３は、直径５μｍ以上の粒子等を多数有する支持フィルム１０上に感光層２０を備える感光性エレメント１を用いて形成したレジストパターンの走査型顕微鏡写真である。このように、支持フィルム１０の表面に直径５μｍ以上の粒子等が多数あるとレジスト欠損を生じる。
【００４８】
支持フィルム１０の材料は、直径５μｍ以上の粒子等が５個／ｍｍ２以下となるようなものであれば、特に制限されない。支持フィルム１０としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（以下、「ＰＥＴ」と表記する）等のポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィンからなる群より選ばれる１種以上の樹脂材料を含むフィルムが挙げられる。
【００４９】
また支持フィルム１０は、単層であっても多層であってもよい。例えば、２層からなる２層支持フィルムを用いる場合、二軸配向ポリエステルフィルムの一方の面に、微粒子を含有する樹脂層を積層してなる２層フィルムを支持フィルム１０として使用し、上記微粒子を含有する樹脂層を形成した面とは反対側の面に感光層２０を形成することが好ましい。また、支持フィルム１０として、３層からなる多層支持フィルム（例えば、Ａ層／Ｂ層／Ａ層）を用いることもできる。多層支持フィルムの構成は特に制限されないが、最外層（上記３層からなるものの場合はＡ層）はいずれも微粒子を含有する樹脂層であることが、フィルムの滑り性等の見地から好ましい。
【００５０】
従来の２層支持フィルムは、微粒子を有する樹脂層を二軸配向ポリエステルフィルムに塗布して製造しているため、感光性フィルムのラミネート時に微粒子を含有する樹脂層が剥がれやすく、剥がれた樹脂層が感光性樹脂層に付着して不良の原因になる可能性がある。そのため、本発明においては、微粒子を有する樹脂層と二軸配向ポリエステルフィルム射出成形された３層からなる多層支持フィルムを用いることが好ましい。
【００５１】
本発明においては、支持フィルム１０のヘーズが０．０１〜１．５％であり、支持フィルム１０中に含まれる直径５μｍ以上の粒子等を５個／ｍｍ２以下に調整すると同時に、このような微粒子を含有する樹脂層を備えた多層支持フィルムであると特に好適である。これにより、フィルムの滑り性が良くなると共に、露光時の光散乱の抑制をバランスよく、より高いレベルで成し遂げることができる。微粒子の平均粒子径は、微粒子を含有する樹脂層の層厚の０．１〜１０倍であることが好ましく、０．２〜５倍であることがより好ましい。平均粒子径が０．１倍未満では滑り性が劣る傾向があり、１０倍を超えると感光層２０に特に凹凸が生じ易い傾向がある。
【００５２】
上記微粒子は、微粒子を含有する樹脂層中に０．０１〜５０質量％含有されていることが好ましい。そして、上記微粒子としては、例えば、各種核剤により重合時に生成した微粒子、凝集体、二酸化珪素微粒子（凝集シリカ等）、炭酸カルシウム微粒子、アルミナ微粒子、酸化チタン微粒子、硫酸バリウム微粒子等の無機微粒子、架橋ポリスチレン微粒子、アクリル微粒子、イミド微粒子等の有機微粒子又はこれらの混合体を用いることができる。
【００５３】
３層以上の多層支持フィルムにおいて、微粒子を含有する最外層で挟まれた１以上の中間層は、上記微粒子を含有するものであっても含有しないものであってもよいが、解像度の見地からは、上記微粒子を含有していないことが好ましい。中間層が上記微粒子を含有する場合は、中間層における含有量は最外層の含有量の１／３以下であることが好ましく、１／５以下であることがより好ましい。
【００５４】
解像度の見地からは、また、上記微粒子を含有する樹脂層の層厚は０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜３μｍであることがより好ましく、０．１〜２μｍであることが特に好ましい。そして、最外層の中間層に対向しない面は、１．２以下の静摩擦係数を有することが好ましい。静摩擦係数が１．２を超えるとフィルム製造時及び感光性エレメント製造時にしわが入りやすく、また、静電気を生じ易くなるためごみが付着しやすくなる傾向がある。本発明において、静摩擦係数は、ＡＳＴＭＤ１８９４に準じて測定することができる。
【００５５】
なお、支持フィルム１０に含まれる直径５μｍ以上の粒子等が一主面当たり５個／ｍｍ２以下とするためには、微粒子を含有する樹脂層が含有する微粒子の粒径は５μｍ未満であることが好ましい。そして、露光時の光散乱をより一層低減するために、微粒子の粒径に合わせて微粒子を含有する樹脂層の層厚を適宜調整することが好ましい。
【００５６】
なお、支持フィルム１０は、その感光特性を損なわない範囲で、必要に応じて、帯電防止剤等を含んでいてもよい。
【００５７】
支持フィルム１０の厚さは５〜４０μｍであることが好ましく、８〜３５μｍであることがより好ましく、１０〜３０μｍであることが更に好ましく、１２〜２５μｍであることが特に好ましい。厚さが５μｍ未満であると、感光性エレメント１から支持フィルム１０を剥離する際に、支持フィルム１０が破れやすくなる傾向がある。また、厚さが４０μｍを超えると、解像度が低下する傾向があると共に、廉価性に劣る傾向がある。
【００５８】
また、支持フィルム１０は、市販の一般工業用フィルムの中から、感光性エレメント１の支持フィルム１０として使用可能なものを入手し、適宜加工して用いられてもよい。支持フィルム１０として使用可能な市販の一般工業用フィルムとしては、例えば、最外層が微粒子を含有する３層構造のＰＥＴフィルムである「ＦＢ−４０」（東レ株式会社製、商品名）が挙げられる。
【００５９】
（感光層）
感光層２０は感光性樹脂組成物からなる層である。感光層２０の厚さＴ（μｍ）と感光層２０の３６５ｎｍにおける吸光度Ａとは、下記式（Ｉ）で表される関係を満足する。
０．００５≦Ａ／Ｔ≦０．０２０ （Ｉ）
【００６０】
感光層２０の吸光度は、ＵＶ分光光度計（株式会社日立製作所製、商品名「Ｕ−３３１０」）を用いて測定することができる。吸光度は、装置の測定側に支持フィルム１０及び感光層２０からなる感光性エレメント１を配置し、リファレンス側に支持フィルム１０のみを配置し、吸光度モードにより５５０〜３００ｎｍまでの連続的に測定することができる。
【００６１】
感光層２０の３６５ｎｍにおける吸光度Ａと、感光層２０の膜さＴ（μｍ）との比であるＡ／Ｔ（以下、「Ｙ値」という）は、０．００５〜０．０２０であり、０．０１０〜０．０２０であることが好ましく、０．０１２〜０．０１８であることがより好ましく、０．０１４〜０．０１６であることが更に好ましい。このＹ値が０．００５未満では、感光層２０にほとんど光吸収されないため、感度が低下し、プリント配線板の生産性が低下する傾向があり、また、回路形成用基板から反射される光の量が多くなるため、ハレーション効果による解像度が低下する傾向がある。一方、Ｙ値が０．０２０を超えると、露光部の上部で吸収される光の量が多くなり、露光部の底部での光硬化反応が十分に進行しないため、現像後のレジスト形状が逆台形になる傾向がある。
【００６２】
感光層２０を構成する感光性樹脂組成物は、（ａ）バインダーポリマー（以下、「（ａ）成分」という）、（ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物（以下、「（ｂ）成分」という）及び（ｃ）光重合開始剤（以下、「（ｃ）成分」という）を含有する。以下、上記各成分について詳細に説明する。
【００６３】
（ａ）成分であるバインダーポリマーとしては、従来の感光性樹脂組成物に用いられているものであれば特に限定はされず、例えば、アクリル樹脂、スチレン樹脂、エポキシ樹脂、アミド樹脂、アミドエポキシ樹脂、アルキド樹脂及びフェノール樹脂が挙げられる。これらの中で、アルカリ現像性の見地からは、アクリル樹脂が好ましい。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【００６４】
バインダーポリマーは、重合性単量体をラジカル重合させることにより製造することができる。重合性単量体としては、スチレン及びビニルトルエン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−クロロスチレン等の重合可能なスチレン誘導体、α−メチルスチレン及びα−メチルスチレン誘導体、アクリルアミド、アクリロニトリル、ビニル−ｎ−ブチルエステル等のビニルアルコールのエステル類、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、α−ブロモ（メタ）アクリル酸、α−クロル（メタ）アクリル酸、β−フリル（メタ）アクリル酸、β−スチリル（メタ）アクリル酸、マレイン酸、マレイン酸無水物、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノイソプロピル等のマレイン酸モノエステル、フマール酸、ケイ皮酸、α−シアノケイ皮酸、イタコン酸、クロトン酸及びプロピオール酸が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【００６５】
バインダーポリマーは、アルカリ現像性の見地から、分子内にカルボキシル基を含有するものが好ましい。カルボキシル基を有するバインダーポリマーは、カルボキシル基を有する重合性単量体とその他の重合性単量体とをラジカル重合させることにより製造することができる。
【００６６】
バインダーポリマーは、現像液耐性と剥離性とのバランスの見地から、下記一般式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（Ｖ）で表される２価の基を構造単位として含むことが好ましい。なお、現像液耐性の向上に起因して、密着性及び解像度が向上する傾向にある。
【００６７】
【化８】
【００６８】
【化９】
【００６９】
【化１０】
【００７０】
式中、Ｒ７、Ｒ８及びＲ１０はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｒ９は炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、水酸基又はハロゲン原子を示し、Ｒ１１は炭素数１〜６のアルキル基を示し、ｐは０〜５の整数を示し、ｐが２以上のとき、複数存在するＲ９は互いに同一でも異なっていてもよい。
【００７１】
上記一般式（ＩＩＩ）で表される構造単位は、（メタ）アクリル酸に基づく構造単位であり、メタクリル酸に基づく構造単位（Ｒ７＝メチル基）であることが好ましい。
【００７２】
上記一般式（ＩＩＩ）で表される構造単位の含有割合は、共重合体である（ａ）バインダーポリマーの固形分全量を基準として、１０〜５０質量％であることが好ましく、１５〜４０質量％であることがより好ましく、２０〜３５質量％であることが更に好ましい。この割合が１０質量％未満では現像液及び剥離液に一般的に使用されているアルカリ水溶液に対する耐性が向上し、現像及び剥離が困難となる傾向があり、この割合が５０質量％を超えると、現像液耐性が悪くなり、密着性及び解像度が低下する傾向がある。
【００７３】
上記一般式（ＩＶ）で表される構造単位は、スチレン（Ｒ８＝水素原子）、スチレン誘導体、α−メチルスチレン（Ｒ８＝メチル基）及び、α−メチルスチレン誘導体に基づく構造単位である。本発明において、「スチレン誘導体」及び「α−メチルスチレン誘導体」とは、スチレン及びα−メチルスチレンのベンゼン環における水素原子が置換基Ｒ９（炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、ＯＨ基、ハロゲン原子）で置換されたものをいう。上記スチレン誘導体としては、例えば、メチルスチレン、エチルスチレン、ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、メトキシスチレン、エトキシスチレン、ヒドロキシスチレン及びクロロスチレンが挙げられ、ｐ−位にＲ９が置換した構造単位であることが、より好ましい。α−メチルスチレン誘導体としては、上記スチレン誘導体において、ビニル基のα−位の水素原子がメチル基で置換されたものが挙げられる。
【００７４】
上記一般式（ＩＶ）で表される構造単位の含有割合は、共重合体である（ａ）バインダーポリマーの固形分全量を基準として、３〜６０質量％であることが好ましく、１０〜５５質量％であることがより好ましく、１５〜５０質量％であることがより好ましく、２０〜４５質量％であることが特に好ましい。この含有量が３質量％未満では密着性及び解像度が低下する傾向があり、６０質量％を超えると剥離片が大きくなり、剥離時間が長くなる傾向があり、更に硬化後のレジストの柔軟性が低下する傾向がある。
【００７５】
上記一般式（Ｖ）で表される構造単位は、（メタ）アクリル酸アルキルエステルに基づく構造単位である。上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、一般式（Ｖ）中、Ｒ１１が炭素数１〜１２のアルキル基であるものが挙げられる。炭素数１〜１２のアルキル基は、直鎖状でも分岐状でもよく、水酸基、エポキシ基、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。かかる（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ｔｅｒｔブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸オクチル及び（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、並びに、これらの構造異性体が挙げられる。解像度の向上及び剥離時間の短縮の観点から、中でも、Ｒ１１は炭素数１〜６のアルキル基であることが好ましく、置換基を有さない炭素数１〜６のアルキル基であることがより好ましく、メチル基であることがさらに好ましい。
【００７６】
上記一般式（Ｖ）で表される構造単位の含有割合は、共重合体である（ａ）バインダーポリマーの固形分全量を基準として、１〜６０質量％であることが好ましく、２〜５５質量％であることがより好ましく、４〜５０質量％であることが更に好ましく、５〜５０質量％であることが特に好ましい。この含有量が１質量％未満ではレジストの剥離性が低下する傾向があり、６０質量％を超えると解像度が低下する傾向がある。
【００７７】
また、バインダーポリマーは、密着性及び解像度と、剥離性とのバランスの見地から、さらに下記一般式（ＶＩ）で表される２価の基を構造単位として含むことができる。
【００７８】
【化１１】
【００７９】
式中、Ｒ１２は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ１３は炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、水酸基又はハロゲン原子を示す。ｑは０〜５の整数を示し、ｑが２以上のとき、複数存在するＲ１３は互いに同一でも異なっていてもよい。
【００８０】
上記一般式（ＶＩ）で表される構造単位は、ベンジル（メタ）アクリレート又はベンジル（メタ）アクリレート誘導体に基づく構造単位である。ベンジル（メタ）アクリレート誘導体としては、例えば、４−メチルベンジル（メタ）アクリレート、４−エチルベンジル（メタ）アクリレート、４−ｔｅｒｔブチルベンジル（メタ）アクリレート、４−メトキシベンジル（メタ）アクリレート、４−エトキシベンジル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシルベンジル（メタ）アクリレート及び４−クロロベンジル（メタ）アクリレートが挙げられる。上記一般式（ＶＩ）で表される構造単位は、現像性、エッチング耐性、めっき耐性及び硬化膜の可とう性を保持する観点から、中でもベンジル（メタ）アクリレート（ｑ＝０のとき）に基づく構造単位であることが好ましい。
【００８１】
上記一般式（ＶＩ）で表される構造単位の含有割合は、共重合体である（ａ）バインダーポリマーの固形分全量を基準として、５〜６０質量％含むことが好ましく、１０〜５５質量％であることがより好ましく、１５〜５０質量％であることが更に好ましく、２０〜４５質量％であることが特に好ましい。この含有量が５質量％未満では密着性が低下する傾向があり、６０質量％を超えると剥離時間が長くなり、更に紫外線硬化後のレジストの柔軟性が低下する傾向がある。
【００８２】
バインダーポリマーの重量平均分子量は、３００００〜１０００００であることが好ましく、３５０００〜８００００であることがより好ましく、４００００〜６００００であることが最も好ましい。この重量平均分子量が３００００未満では、感光層２０が脆くなる傾向があり、１０００００を超えると糸状現像残りが発生し、解像度が低下する傾向がある。なお、上記重量平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」と表記する）により測定し、標準ポリスチレン換算した値を使用したものである。
【００８３】
バインダーポリマーの酸価は、３０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、５０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましい。この酸価が３０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満では現像時間が長くなる傾向があり、３００ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると光硬化したレジストのアルカリ現像液に対する酸性が低下する傾向がある。
【００８４】
これらのバインダーポリマーは、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。２種以上を組み合わせて使用する場合のバインダーポリマーの組み合わせとしては、例えば、異なる共重合成分からなる（異なる繰り返し単位を構成成分として含む）２種類以上のバインダーポリマー、異なる重量平均分子量の２種類以上のバインダーポリマー、異なる分散度を有する２種類以上のバインダーポリマー等が挙げられる。また、特開平１１−３２７１３７号公報に記載のマルチモード分子量分布を有するポリマーを使用することもできる。
【００８５】
なお、現像工程として有機溶剤での現像を行う場合は、カルボキシル基を有する重合性単量体を少量に調製することが好ましい。また、必要に応じてバインダーポリマーは感光性基を有していてもよい。
【００８６】
（ｂ）成分であるエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物としては、炭素数２〜６のオキシアルキレン単位（アルキレングリコールユニット）を分子内に４〜４０有する化合物を含むことが好ましい。（ｂ）成分としてこのような化合物を含有することによって、（ａ）バインダーポリマーとの相溶性を向上することができる。
【００８７】
これらの光重合性化合物の中でも、本発明の効果をより確実に得ることができる傾向があることから、（ｂ）成分であるエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物は、下記一般式（ＩＩ）で表されるビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましい。
【００８８】
【化１２】
【００８９】
上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、メチル基であることが好ましい。Ｙは炭素数２〜６のアルキレン基を示す。ｎ１及びｎ２はそれぞれ正の整数を示し、ｎ１＋ｎ２は２〜４０の整数であり、６〜３４の整数であることが好ましく、８〜３０の整数であることがより好ましく、８〜２８の整数であることがさらに好ましく、８〜２０の整数であることが特に好ましく、８〜１６の整数であることが極めて好ましく、８〜１２の整数であることが最も好ましい。ｎ１＋ｎ２の値が２未満ではバインダーポリマーとの相溶性が低下し、回路形成用基板に感光性エレメント１をラミネートした際に剥がれやすい傾向があり、ｎ１＋ｎ２の値が４０を超えると、親水性が増加し、現像時にレジストが剥がれやすく、耐めっき性が低下する傾向がある。なお、分子内に複数存在するＹは、互いに同一でも異なっていてもよい。
【００９０】
上記炭素数２〜６のアルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基及びへキシレン基が挙げられる。これらの中では、解像度及び耐めっき性を向上させる観点から、エチレン基又はイソプロピレン基が好ましく、エチレン基がより好ましい。
【００９１】
また、上記一般式（ＩＩ）中の芳香環は置換基を有していてもよい。それら置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、炭素数６〜１８のアリール基、フェナシル基、アミノ基、炭素数１〜１０のアルキルアミノ基、炭素数２〜２０のジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボニル基、メルカプト基、炭素数１〜１０のアルキルメルカプト基、アリル基、水酸基、炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、アルキル基の炭素数が１〜１０のカルボキシアルキル基、アルキル基の炭素数が１〜１０のアシル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数２〜１０のＮ−アルキルカルバモイル基又は複素環を含む基、あるいは、これらの置換基で置換されたアリール基が挙げられる。上記置換基は、縮合環を形成していてもよく、また、これらの置換基中の水素原子がハロゲン原子等の上記置換基などに置換されていてもよい。なお、置換基の数がそれぞれ２以上の場合、２以上の置換基はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
【００９２】
上記一般式（ＩＩ）で表される化合物としては、例えば、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリブトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン等のビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
【００９３】
２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシトリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシテトラエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘキサエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘプタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシオクタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシノナエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシウンデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシドデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシトリデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシテトラデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパン及び２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘキサデカエトキシ）フェニル）プロパンが挙げられる。これらのうち、２，２−ビス（４−（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパンが好ましく、ＢＰＥ−２００（新中村化学工業株式会社製、商品名）として商業的に入手可能である。さらに２，２−ビス（４−（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパンがより好ましく、ＢＰＥ−５００（新中村化学工業株式会社製、商品名）として商業的に入手可能である。また、２，２−ビス（４−（メタクリロキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパンは、ＢＰＥ−１３００（新中村化学工業株式会社製、商品名）として商業的に入手可能である。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【００９４】
２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリプロポキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシジプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシトリプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシテトラプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシペンタプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘキサプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘプタプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシオクタプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシノナプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシデカプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシウンデカプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシドデカプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシトリデカプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシテトラデカプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシペンタデカプロポキシ）フェニル）プロパン及び２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘキサデカプロポキシ）フェニル）プロパンが挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用される。
【００９５】
２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシジエトキシオクタプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシテトラエトキシテトラプロポキシ）フェニル）プロパン及び２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘキサエトキシヘキサプロポキシ）フェニル）プロパンが挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用される。
【００９６】
また（ｂ）成分としては、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートも好ましく使用できる。ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、下記一般式（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）又は（ＩＸ）で表される化合物が好ましい。
【００９７】
【化１３】
（式中、Ｒ１４及びＲ１５はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、ＥＯはオキシエチレン基を示し、ＰＯはプロピレンオキシ基を示し、Ｓ１は１〜３０の整数を示し、ｒ１及びｒ２はそれぞれ０〜３０の整数を示し、ｒ１＋ｒ２（平均値）は１〜３０の整数である。）
【００９８】
【化１４】
（式中、Ｒ１６及びＲ１７はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。ＥＯはオキシエチレン基を示し、ＰＯはオキシプロピレン基を示し、ｒ３は１〜３０の整数を示し、ｓ２及びｓ３はそれぞれ０〜３０の整数を示し、ｓ２＋ｓ３（平均値）は１〜３０の整数である。）
【００９９】
【化１５】
（式中、Ｒ１８及びＲ１９はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、メチル基であることが好ましい。ＥＯはオキシエチレン基を示し、ＰＯはオキシプロピレン基を示す。ｒ４は１〜３０の整数を示し、ｓ４は１〜３０の整数を示す。）
【０１００】
上記一般式（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）及び（ＩＸ）において、オキシエチレン単位（ＥＯ）及びオキシプロピレン単位（ＰＯ）が複数存在する場合、複数のオキシエチレン単位及びオキシプロピレン単位はそれぞれ連続してブロック的に存在してもよいし、ランダムに存在してもよい。
【０１０１】
さらに、オキシプロピレン単位がオキシイソプロピレン単位である場合、プロピレン基の２級炭素が酸素原子に結合していてもよく、１級炭素が酸素原子に結合していてもよい。
【０１０２】
上記一般式（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）及び（ＩＸ）におけるオキシエチレン単位の繰り返し数の総数（ｒ１＋ｒ２、ｒ３及びｒ４）は、それぞれ独立に１〜３０の整数であることが好ましく、１〜１０の整数であることがより好ましく、４〜９の整数であることがさらに好ましく、５〜８の整数であることが特に好ましい。この繰り返し数が３０を超えるとテント信頼性及びレジスト形状が悪化する傾向がある。
【０１０３】
上記一般式（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）及び（ＩＸ）におけるオキシプロピレン単位の繰り返し数の総数（ｓ１、ｓ２＋ｓ３及びｓ４）はそれぞれ独立に１〜３０の整数であることが好ましく、５〜２０の整数であることがより好ましく、８〜１６の整数であることがさらに好ましく、１０〜１４の整数であることが特に好ましい。この繰り返し数が３０を超えると解像度が低下し、現像時にスラッジが発生する傾向がある。
【０１０４】
上記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物の具体例としては、例えば、Ｒ１４及びＲ１５がメチル基、ｒ１＋ｒ２＝４（平均値）、ｓ１＝１２（平均値）であるビニル化合物（日立化成工業株式会社製、商品名：ＦＡ−０２３Ｍ）等が挙げられる。
【０１０５】
上記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物の具体例としては、例えば、Ｒ１６及びＲ１７がメチル基、ｒ３＝６（平均値）、ｓ２＋ｓ３＝１２（平均値）であるビニル化合物（日立化成工業株式会社製、商品名：ＦＡ−０２４Ｍ）等が挙げられる。
【０１０６】
上記一般式（ＩＸ）で表される化合物の具体例としては、例えば、Ｒ１８及びＲ１９が水素原子、ｒ４＝１（平均値）、ｓ４＝９（平均値）であるビニル化合物（新中村化学工業株式会社製、サンプル名：ＮＫエステルＨＥＭＡ−９Ｐ）等が挙げられる。
【０１０７】
なお、これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【０１０８】
（ｂ）成分には、密着性、解像性等の現像性及び剥離性を向上させる見地から、更に、エチレン性不飽和結合を一つ有する光重合性化合物を含有させてもよい。エチレン性不飽和結合を一つ有する光重合性化合物としては、下記一般式（Ｘ）で表される化合物を含有させることが好ましい。
【０１０９】
【化１６】
【０１１０】
式（Ｘ）中、Ｒ２０は水素原子又はメチル基であり、水素原子であることが好ましい。Ｚは上述した一般式（ＩＩ）中のＹと同義であり、エチレン基であることが好ましい。ｋは４〜２０の正の整数を示し、現像性の見地から、５〜１８の整数であることが好ましく、６〜１２の整数であることがより好ましく、６〜１０の整数であることがさらに好ましい。
【０１１１】
また、上記一般式（Ｘ）中の芳香環は置換基を有していてもよく、それら置換基としては、上述した一般式（ＩＩ）中の芳香環と同様の置換基が挙げられる。
【０１１２】
上記一般式（Ｘ）で表される化合物としては具体的には、例えば、ノニルフェノキシポリエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシポリエチレンオキシ（メタ）アクリレート及びブチルフェノキシポリプロピレンオキシ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【０１１３】
上記ノニルフェノキシポリエチレンオキシ（メタ）アクリレートとしては、例えば、ノニルフェノキシテトラエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシペンタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシヘキサエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシヘプタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシオクタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシノナエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシデカエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシウンデカエチレンオキシ（メタ）アクリレート及びノニルフェノキシドデカエチレンオキシ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【０１１４】
上記ブチルフェノキシポリエチレンオキシ（メタ）アクリレートとしては、例えば、ブチルフェノキシテトラエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシペンタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシヘキサエチレンオクシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシヘプタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシオクタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシノナエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシデカエチレンオキシ（メタ）アクリレート及びブチルフェノキシウンデカエチレンオキシ（メタ）アクリレートが挙げられる。なお、これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【０１１５】
（ｂ）成分には、テンティング性等を向上する見地から、ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物等のウレタンモノマーを含有させてもよい。
【０１１６】
上記ウレタンモノマーとしては、例えば、β位に水酸基を有する（メタ）アクリルモノマーとイソホロンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、２，４−トルエンジイソシアネート及び１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物との付加反応物、トリス（（メタ）アクリロキシテトラエチレングリコールイソシアネート）ヘキサメチレンイソシアヌレート、ＥＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート並びにＥＯ，ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレートが挙げられる。なお、ＥＯはエチレンオキサイドを示し、ＥＯ変性された化合物はエチレンオキサイド基のブロック構造を有する。また、ＰＯはプロピレンオキサイドを示し、ＰＯ変性された化合物はプロピレンオキサイド基のブロック構造を有する。ＥＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、新中村化学工業株式会社製、商品名「ＵＡ−１１」等が挙げられる。また、ＥＯ，ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、新中村化学工業株式会社製、商品名「ＵＡ−１３」等が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【０１１７】
（ｂ）成分には、上述した以外のエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物を含んでいてもよい。その他の（ｂ）光重合性化合物としては、例えば、多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、グリシジル基含有化合物にα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、フタル酸系化合物、（メタ）アクリル酸アルキルエステル等が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【０１１８】
上記多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物としては、例えば、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ，ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが挙げられる。これらは１種を単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【０１１９】
上記フタル酸系化合物としては、例えば、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β′−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート及びβ−ヒドロキシアルキル−β′−（メタ）アクリロルオキシアルキル−ｏ−フタレート等が挙げられる。これらは１種を単独で、または２種類以上を任意に組み合わせて使用される。
【０１２０】
（ｃ）成分である光重合開始剤は、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含むことが好ましい。２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体としては、例えば、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４′，５′−テトラフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−ブロモフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−クロロフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−フルオロフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−クロロ−ｐ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｏ，ｐ−ジブロモフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−クロロナフチル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ，ｍ−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−クロロナフチル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ，ｍ−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルイミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルイミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メチルメルカプトフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｐ−プロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルイミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−プロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）イミダゾール二量休、２，２′−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−ヨードフェニル）イミダゾール二量休、２，２′−ビス（ｍ−ブロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルイミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｍ，ｐ−ジブロモフェニル）−４，４′，５，５−テトラフェニルイミダゾール二量体、２，２′−ビス（２，６−ジクロロフェニル）−４−５−ジフェニルイミダゾール二畳体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−フルオロフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−ヨードフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−クロロナフチル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−クロロフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−クロロ−ｐ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｏ，ｐ−ジブロモフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）イミダゾール二量体及び２，２′−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）イミダゾール二量体が挙げられる。これらの中でも、密着性及び感度をより向上させる観点から、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体が好ましい。
【０１２１】
また、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体において、２つの２，４，５−トリアリールイミダゾールのアリール基の置換基は同一で対称な化合物を与えてもよいし、相違して非対称な化合物を与えてもよい。
【０１２２】
なお、（ｃ）成分が、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含む場合の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体の含有割合は、（ｃ）成分の総量を基準として、７０〜１００質量％であることが好ましく、８５〜１００質量％であることがより好ましく、９０〜１００質量％であることがさらに好ましく、９３〜１００質量％であることが特に好ましい。２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体をこの割合で含有することにより、本発明の感光性エレメント１は、より優れた密着性及び感度を有するものとなる。
【０１２３】
また、（ｃ）成分である光重合性化合物は、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体と共に、下記一般式（ＸＩ）又は（ＸＩＩ）で示されるピラゾリン化合物を含むことが好ましい。（ｃ）成分に、これらピラゾリン系化合物を使用することにより、レジストの吸光度を一定の範囲内で維持しつつ、光感度を高くすることが可能となり、プリント配線板の生産性を向上可能な感光性エレメント１になる。
【０１２４】
【化１７】
【０１２５】
【化１８】
【０１２６】
式（ＸＩ）及び（ＸＩＩ）中、Ｒは炭素数１〜３の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、炭素数１〜３の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基又はハロゲン原子を示し、ａ、ｂ及びｃの総和は１〜６である。ａ、ｂ及びｃの総和が２以上のとき、複数存在するＲは互いに同一でも異なっていてもよい。
【０１２７】
ピラゾリン化合物として、具体的には、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−スチリル−５−フェニル−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ビス−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−フェニル）−３−スチリル−５−フェニル−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−スチリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ビス−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−フェニル）−３−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−スチリル）−ピラゾリン、１−（４−ドデシル−フェニル）−３−スチリル−５−フェニル−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−ドデシル−スチリル）−５−（４−ドデシル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−ドデシル−フェニル）−３−（４−ドデシル−スチリル）−５−（４−ドデシル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−フェニル）−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−スチリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−ドデシル−フェニル）−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（４−ドデシル−スチリル）−５−（４−ドデシル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−ドデシル−フェニル）−３−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−スチリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−フェニル）−３−（４−ドデシル−スチリル）−５−（４−ドデシル−フェニル）−ピラゾリン、１−（２，４−ジブチル−フェニル）−３−（４−ドデシル−スチリル）−５−（４−ドデシル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−５−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−５−（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−５−（２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（２，６−ジ−ｎ−ブチル−スチリル）−５−（２，６−ジ−ｎ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−（３，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−スチリル−５−フェニル−ピラゾリン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−スチリル−５−フェニル−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−５−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン及び１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−５−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリンが挙げられる。
【０１２８】
また、ピラゾリン化合物として、１−（４−メトキシフェニル）−３−スチリル−５−フェニル−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−メトキシスチリル）−５−（４−メトキシフェニル）−ピラゾリン、１，５−ビス−（４−メトキシフェニル）−３−（４−メトキシスチリル）−ピラゾリン、１−（４−イソプロピルフェニル）−３−スチリル−５−フェニル−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−イソプロピルスチリル）−５−（４−イソプロピルフェニル）−ピラゾリン、１，５−ビス−（４−イソプロピルフェニル）−３−（４−イソプロピルスチリル）−ピラゾリン、１−（４−メトキシフェニル）−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（４−メトキシスチリル）−５−（４−メトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−イソプロピル−フェニル）−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（４−イソプロピル−スチリル）−５−（４−イソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−メトキシフェニル）−３−（４−イソプロピルスチリル）−５−（４−イソプロピルフェニル）−ピラゾリン、１−（４−イソプロピル−フェニル）−３−（４−メトキシスチリル）−５−（４−メトキシフェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（３，５−ジメトキシスチリル）−５−（３，５−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（３，４−ジメトキシスチリル）−５−（３，４−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（２，６−ジメトキシスチリル）−５−（２，６−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（２，５−ジメトキシスチリル）−５−（２，５−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（２，３−ジメトキシスチリル）−５−（２，３−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（２，４−ジメトキシスチリル）−５−（２，４−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−メトキシフェニル）−３−（３，５−ジメトキシスチリル）−５−（３，５−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−メトキシフェニル）−３−（３，４−ジメトキシスチリル）−５−（３，４−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−メトキシフェニル）−３−（２，６−ジメトキシスチリル）−５−（２，６−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−メトキシフェニル）−３−（２，５−ジメトキシスチリル）−５−（２，５−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−メトキシフェニル）−３−（２，３−ジメトキシスチリル）−５−（２，３−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−メトキシフェニル）−３−（２，４−ジメトキシスチリル）−５−（２，４−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（３，５−ジメトキシスチリル）−５−（３，５−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（３，４−ジメトキシスチリル）−５−（３，４−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（２，６−ジメトキシスチリル）−５−（２，６−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（２，５−ジメトキシスチリル）−５−（２，５−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（２，３−ジメトキシスチリル）−５−（２，３−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（２，４−ジメトキシスチリル）−５−（２，４−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−イソプロピル−フェニル）−３−（３，５−ジメトキシスチリル）−５−（３，５−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−イソプロピル−フェニル）−３−（３，４−ジメトキシスチリル）−５−（３，４−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−イソプロピル−フェニル）−３−（２，６−ジメトキシスチリル）−５−（２，６−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−イソプロピル−フェニル）−３−（２，５−ジメトキシスチリル）−５−（２，５−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−イソプロピル−フェニル）−３−（２，３−ジメトキシスチリル）−５−（２，３−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン及び１−（４−イソプロピル−フェニル）−３−（２，４−ジメトキシスチリル）−５−（２，４−ジメトキシフェニル）−ピラゾリンが挙げられる。
【０１２９】
さらに、ピラゾリン化合物として、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３，５−ジフェニル−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−イソプロピル−フェニル）−３，５−ジフェニル−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（４−イソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（４−イソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−メトキシ−フェニル）−３，５−ジフェニル−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（４−メトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（４−メトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−５−フェニル−ピラゾリン、１，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−フェニル−ピラゾリン、１−フェニル−３，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３，５−トリ（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ビス（４−イソプロピル−フェニル）−５−フェニル−ピラゾリン、１，５−ビス（４−イソプロピル−フェニル）−３−フェニル−ピラゾリン、１−フェニル−３，５−ビス（４−イソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，３，５−トリ（４−イソプロピル−フェニル）−ピラゾリン１，３−ビス（４−メトキシ−フェニル）−５−フェニル−ピラゾリン、１，５−ビス（４−メトキシ−フェニル）−３−フェニル−ピラゾリン、１−フェニル−３，５−ビス（４−メトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１，３，５−トリ（４−メトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−メトキシ−フェニル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−５−（４−メトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−イソプロピル−フェニル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−５−（４−イソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−メトキシ−フェニル）−５−（４−イソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−イソプロピル−フェニル）−５−（４−メトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３、５−ジフェニル−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（３，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（２，３−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（３，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，３−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（３，５−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（３，４−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（２，６−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（２，５−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（２，４−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（２，３−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（３，５−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（３，４−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，６−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，５−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，４−ジイソプロピルル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，３−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（３，５−ジメトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（３，４−ジメトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，６−ジメトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，５−ジメトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，４−ジメトキシ−フェニル）−ピラゾリン及び１，５−ジフェニル−３−（２，３−ジメトキシ−フェニル）−ピラゾリンが挙げられる。
【０１３０】
これらのピラゾリン化合物は、市販品として日本化学工業所から入手可能であり、また、特許第２９３１６９３号公報、特許第２７５７５２８号公報、特許第２９７２３７３号公報、特許第３２１５７１８号公報、特許第３３１２７５６号公報等に記載の方法で合成することができる。
【０１３１】
（ｃ）成分が、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体と共に、下記一般式（ＸＩ）又は（ＸＩＩ）で示されるピラゾリン化合物を含む場合、その含有量は（ｃ）成分の総量を基準として、０．５〜６．０質量％であることが好ましく、１．０〜５．０質量％であることがより好ましく、１．０〜４．０質量％であることが更に好ましい。
【０１３２】
また、（ｃ）成分である光重合開始剤としては、上記２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体及びピラゾリン化合物の他に、その他の光重合開始剤を用いてもよい。その他の光重合性化合物としては、例えば、芳香族ケトン類、ｐ−アミノフェニルケトン類、キノン類、ベンゾインエーテル化合物、ベンゾイン化合物、ベンジル誘導体、アクリジン誘導体、クマリン系化合物、オキシムエステル類、Ｎ−アリール−α−アミノ酸化合物、脂肪族多官能チオール化合物、アシルホスフィンオキサイド類、チオキサントン類、３級アミン化合物類等が挙げられ、これら化合物を組み合わせて使用してもよい。
【０１３３】
上記芳香族ケトン類としては、例えば、アセトフェノン、ベンゾフェノン、メチルベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパノン−１及び４，４′−ジクロロベンゾフェノンが挙げられる。
【０１３４】
上記ｐ−アミノフェニルケトン類としては、例えば、アミノベンゾフェノン、ブチルアミノアセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、α，α−ジメトキシ−α−モルホリノ−メチルチオフェニルアセトフェノン、ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４′−ビス（エチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４′−ビス（ジブチルアミノ）ベンゾフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、４，４′−ジアミノベンゾフェノン及び２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノンが挙げられる。
【０１３５】
上記キノン類としては、例えば、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−クロロアントラキノン、３−クロロ−２−メチルアントラキノン、９，１０−フェナンタラキノン、１，２−ナフトキノン、１，４−ナフトキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、１，４−ジメチルアントラキノン、２，３−ジメチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン及び２−アミノアントラキノンが挙げられる。
【０１３６】
上記ベンゾインエーテル化合物としては、例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等が挙げられる。
【０１３７】
上記ベンゾイン化合物としては、例えば、ベンゾイン、メチルベンゾイン及びエチルベンゾインが挙げられる。
【０１３８】
上記ベンジル誘導体としては、例えば、ベンジルメチルケタール、ベンジルジエチルケタール、ベンジルジプロピンケタール及びベンジルジフェニルケタールが挙げられる。
【０１３９】
上記アクリジン誘導体としては、例えば、１，２−ビス（９−アクリジニル）エタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロパン、１，４−ビス（９−アクリジニル）ブタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，６−ビス（９−アクリジニル）ヘキサン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，８−ビス（９−アクリジニル）オクタン、１，９−ビス（９−アクリジニル）ノナン、１，１０−ビス（９−アクリジニル）デカン、１，１１−ビス（９−アクリジニル）ウンデカン、１，１２−ビス（９−アクリジニル）ドデカン等のビス（９−アクリジニル）アルカン、１，３−ビス（９−アクリジニル）−２−オキサプロパン、１，３−ビス（９−アクリジニル）−２−チアプロパン、１，５−ビス（９−アクリジニル）−３−チアペンタン、９−ピリジルアクリジン、９−ピラジニルアクリジン、９−モノペンチルアミノアクリジン、９−フェニルアクリジン、９−（ｐ−メチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−エチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ｎ−プロピルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ｎ−ブチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−メトキシフェニル）アクリジン、９−（ｐ−エトキシフェニル）アクリジン、９−（ｐ−アセチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）アクリジン、９−（ｐ−シアノフェニル）アクリジン、９−（ｐ−クロロフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ブロモフェニル）アクリジン、９−（ｍ−メチルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ｎ−プロピルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ｎ−ブチルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−メトキシフェニル）アクリジン、９−（ｍ−エトキシフェニル）アクリジン、９−（ｍ−アセチルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ジメチルアミノフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ジエチルアミノフェニル）アクリジン、９−（ｍ−シアノフェニル）アクリジン、９−（ｍ−クロロフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ブロモフェニル）アクリジン、９−シアノエチルアクリジン、９−ヒドロキシエチルアクリジン、９−クロロエチルアクリジン、９−ｎ−プロポキシアクリジン及び９−クロロエトキシアクリジンが挙げられる。
【０１４０】
上記クマリン系化合物としては、例えば、７−アミノ−４−メチルクマリン、７−ジメチルアミノ−４−メチルクマリン、７−ジエチルアミノ−４−メチルクマリン、７−メチルアミノ−４−メチルクマリン、７−エチルアミノ−４−メチルクマリン、７−ジメチルアミノシクロペンタ［ｃ］クマリン、７−アミノシクロペンタ［ｃ］クマリン、７−ジエチルアミノシクロペンタ［ｃ］クマリン、４，６−ジメチル−７−エチルアミノクマリン、４，６−ジエチル−７−エチルアミノクマリン、４，６−ジメチル−７−ジエチルアミノクマリン、４，６−ジメチル−７−ジメチルアミノクマリン、４，６−ジエチル−７−エチルアミノクマリン、４，６−ジエチル−７−ジメチルアミノクマリン、２，３，６，７，１０，１１−ヘキサンヒドロ−１Ｈ，５Ｈ−シクロペンタ［３，４］［１］ベンゾピラノ−［６，７，８−ｉｊ］キノリジン１２（９Ｈ）−オン、７−ジエチルアミノ−５′，７′−ジメトキシ−３，３′−カルボニルビスクマリン、３，３′−カルボニルビス［７−（ジエチルアミノ）クマリン］及び７−ジエチルアミノ−３−チエノキシルクマリンが挙げられる。
【０１４１】
上記オキシムエステル類としては、例えば、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−ｏ−ベンゾイルオキシム及び１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシムが挙げられる。
【０１４２】
上記Ｎ−アリール−α−アミノ酸化合物としては、例えば、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−（ｎ−ブチル）−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−（メトキシエチル）−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアラニン、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアラニン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−フェニルアラニン、Ｎ−（ｎ−ブチル）−Ｎ−フェニルアラニン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルバリン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルロイシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、Ｎ−（ｎ−ブチル）−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）グリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）グリシン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−プロモフェニル）グリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−プロモフェニル）グリシン、Ｎ−（ｎ−ブチル）−Ｎ−（ｐ−プロモフェニル）グリシン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニルグリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−ヨードフェニル）グリシン、Ｎ−（ｐ−ブロモフェニル）グリシン、Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）グリシン及びＮ−（ｏ−クロロフェニル）グリシンが挙げられる。
【０１４３】
上記脂肪族多官能チオール化合物としては、例えば、ヘキサンチオール、デカンチオール、１，４−ジメチルメルカプトベンゼン、ブタンジオールビスチオプロピオネート、ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、トリスヒドロキシエチルトリスチオプロピオネート、及びその他の多価ヒドロキシ化合物のチオグリコレート、チオプロピオネートが挙げられる。
【０１４４】
上記アシルホスフィンオキサイド類としては、例えば、（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−ペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド及び２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドが挙げられる。
【０１４５】
上記チオキサントン類としては、例えば、チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２−フルオロチオキサントン、４−フルオロチオキサントン、２−クロロチオキサントン、４−クロロチオキサントン及び１−クロロ−４−プロポキシチオキサントンが挙げられる。
【０１４６】
その他の光重合開始剤としては、例えば、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネイト、２，３−ジオキソ−３−フェニルプロピオン酸エチル−２−（ｏ−ベンゾイルカルボニル）−オキシム、ｐ−ニトロジフェニル、ｍ−ニトロアニリン、ｐ−ニトロアニリン及び２，６−ジニトロアニリンが挙げられる。また、ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン系化合物と３級アミン化合物とを組み合わせてもよい。
【０１４７】
上記３級アミン化合物としては、例えば、ジメチルアミノ安息香酸、ジエチルアミノ安息香酸及びジイソプロピルアミノ安息香酸が挙げられる。
【０１４８】
（ｃ）光重合開始剤としては、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体又はピラゾリン化合物の他に、上記芳香族ケトン類を含有することが好ましく、中でもＮ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）を含有することが好ましい。
【０１４９】
（ａ）成分であるバインダーポリマーの配合量は、（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００質量部を基準として、４０〜７０質量部であることが好ましく、４５〜６５質量部であることがより好ましく、５０〜６０質量部であることがさらに好ましい。この配合量が４０質量部未満では光硬化物が脆くなる傾向にあり、７０質量部を超えると、解像度及び光感度が不十分となる傾向にある。
【０１５０】
（ｂ）成分であるエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物の配合量は、（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００質量部を基準として、３０〜６０質量部であることが好ましく、３５〜５５質量部であることがより好ましく、４０〜５０質量部であることがさらに好ましい。この配合量が３０質量部未満では、解像度及び光感度が不十分となる傾向があり、６０質量部を超えると光硬化物が脆くなる傾向がある。
【０１５１】
（ｃ）成分である光重合開始剤の配合量は、（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．１〜２０質量部であることが好ましく、０．２〜１０質量部であることがより好ましく、０．５〜５質量部であることが特に好ましい。この配合量が０．１質量部未満では光感度が不十分となる傾向があり、２０質量部を超えると、露光の際に感光性樹脂組成物の表面での光吸収が増大して内部の光硬化が不十分となる傾向がある。
【０１５２】
また、感光性樹脂組成物には、必要に応じて、分子内に少なくとも１つのカチオン重合可能な環状エーテル基を有する光重合性化合物（オキセタン化合物等）、カチオン重合開始剤、マラカイトグリーン等の染料、トリブロモフェニルスルホン、ロイコクリスタルバイオレット等の光発色剤、熱発色防止剤、ｐ−トルエンスルホンアミド等の可塑剤、顔料、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、禁止剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、イメージング剤、熱架橋剤等の添加剤を含有させてもよい。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用される。これらの添加剤は、本発明の目的を阻害しない限りにおいて、（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００質量部を基準にしてそれぞれ０．０００１〜２０質量部程度含有してもよい。
【０１５３】
感光性樹脂組成物は、必要に応じて、メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等の溶剤又はこれらの混合溶剤に溶解して、固形分３０〜６０質量％程度の溶液として調製することができる。
【０１５４】
本発明の感光性エレメント１における感光層２０は、上述の感光性樹脂組成物を支持フィルム１０上に塗布し、溶剤を除去することにより形成することができる。ここで、塗布方法としては、例えば、ロールコート、コンマコート、グラビアコート、エアーナイフコート、ダイコート、バーコート等の公知の方法を採用することができる。また、溶剤の除去は、例えば、７０〜１５０℃の温度で５〜３０分間程度処理することで行うことができる。なお、感光層２０中の残存有機溶剤量は、後の工程での有機溶剤の拡散を防止する点から、２質量％以下とすることが好ましい。
【０１５５】
このようにして形成される感光層２０の厚さ（Ｔ）は、特に限定されないが、現在幅広く使用されている感光層２０の乾燥後の厚さは２〜３０μｍであり、５〜２５μｍであることが好ましく、７〜２０μｍであることがより好ましく、１０〜２０μｍであることが更に好ましい。この厚さが２μｍ未満であると、回路形成用基板に感光層２０を積層する際に不具合が発生しやすくなる、又はテンティング性が劣り、現像及びエッチング工程中でレジストが破損し、オープン不良の一因になる可能性があり、プリント配線板の製造歩留りが低下する傾向がある。一方、厚さが３０μｍを超えると、感光層２０の解像度が悪化する、又はエッチング液の液まわりが悪化するため、サイドエッチングの影響が大きくなり、高密度なプリント配線板の製造が困難になる傾向がある。
【０１５６】
感光層２０の３６５ｎｍにおける吸光度（ａ）は、０．０１〜０．６０であることが好ましく、０．０５〜０．５５であることがより好ましく、０．１０〜０．５０であることが更に好ましい。吸光度が０．０１未満では十分な感度を得ることができずレジストパターンの形成が困難となり、０．６０を超えると露光部の上部で吸収される光の量が多くなり、露光部の底部での光硬化反応が十分に進行しないため、現像後のレジスト形状が逆台形になる傾向がある。
【０１５７】
また、感光性エレメント１は、感光層２０の支持フィルム１０に接する第１の主面１２とは反対側の主面上に酸素透過率が、５×１０−２ｍ３／ｍ２・日・ＭＰａ以下である保護フィルムを備える。酸素透過率が５×１０−２ｍ３／ｍ２・日・ＭＰａを超えると、感光層２０に含有する酸素量が増加するため、露光時において酸素阻害の影響が大きくなり、光感度が低下する傾向がある。また保護フィルムとしては、感光層２０と支持フィルム１０との間の接着力よりも、感光層２０と保護フィルムとの間の接着力が小さくなるようなフィルムを用いることが好ましく、また、低フィッシュアイのフィルムを用いることが好ましい。具体的には、ポリプロピレンフィルム及びポリプロピレンテレフタレートフィルムが挙げられる。感光層２０からの剥離性の見地から、ポリプロピレンフィルムが好ましい。保護フィルムの厚さは、用途により異なるが１〜１００μｍ程度であることが好ましい。
【０１５８】
感光性エレメント１は、支持フィルム１０、感光層２０及び保護フィルムの他に、クッション層、接着層、光吸収層、ガスバリア層等の中間層又は保護層を更に備えていてもよい。
【０１５９】
本実施形態の感光性エレメント１は、例えば、そのままの状態で又は感光層２０上に保護フィルムを更に積層したものを、円筒状の巻芯に巻き取った状態で貯蔵されてもよい。この際、支持フィルム１０が再外層になるようにロール状に巻き取られることが好ましい。また、ロール状に巻き取った感光性エレメント１の端面には、端面保護の見地から端面セパレータを設置することが好ましく、耐エッジフュージョンの見地から防湿端面セパレータを設置することが好ましい。また、梱包方法として、透湿性の低いブラックシートに包んで包装することが好ましい。
【０１６０】
巻芯の材料としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂及びＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体）等のプラスチックが挙げられる。
【０１６１】
（レジストパターンの形成方法）
本実施形態のレジストパターンの形成方法は、上記感光性エレメント１を、感光層２０、支持フィルム１０の順に回路形成用基板上に積層する積層工程と、活性光線を、上記支持フィルム１０を通して感光層２０の所定部分に照射して、感光層２０に光硬化部を形成させる露光工程と、上記光硬化部以外の感光層２０の部分を除去する現像工程と、を含む方法である。
【０１６２】
積層工程において、感光層２０を回路形成用基板上に積層する方法としては、感光層２０上に保護フィルムが存在している場合には、該保護フィルムを除去した後、感光層２０を７０〜１３０℃程度に加熱しながら回路形成用基板に０．１〜１ＭＰａ程度の圧力で圧着することにより積層する方法等が挙げられる。この積層工程において、減圧下で積層することも可能である。なお、回路形成用基板の積層される表面は通常金属面であるが、特に制限されない。また、積層性を更に向上させるために、回路形成用基板の予熱処理を行ってもよい。
【０１６３】
次に、上記積層工程で積層が完了した感光層２０に対して、ネガ又はポジマスクパターンを有するフォトマスクを支持フィルム１０の第２の主面１４に位置合わせをして密着させる。その後、露光工程では、感光層２０に対して、支持フィルム１０を通して活性光線が画像状に照射し、感光層２０に光硬化部が形成される。上記活性光線の光源としては、公知の光源、例えば、カーボンアーク灯、水銀蒸気アーク灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等の紫外線や可視光等を有効に放射するものが用いられる。なお、レーザー直接描画露光法を用いて、感光層２０に光硬化部を形成することもできる。
【０１６４】
次いで、上記露光工程後、フォトマスクを支持フィルム１０から剥離する。更に、支持フィルム１０を感光層２０から剥離除去する。次に露光工程において、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤等の現像液によるウエット現像、ドライ現像等で感光層２０の未露光部（未光硬化部）を除去して現像し、レジストパターンを製造することができる。
【０１６５】
アルカリ性水溶液としては、例えば、０．１〜５質量％炭酸ナトリウムの希薄溶液、０．１〜５質量％炭酸カリウムの希薄溶液、０．１〜５質量％水酸化ナトリウムの希薄溶液が挙げられる。上記アルカリ性水溶液のｐＨは９〜１１の範囲とすることが好ましく、その温度は、感光層２０の現像性に合わせて調節される。また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、有機溶剤等を混入させてもよい。また、現像の方式としては、例えば、ディップ方式、スプレー方式、ブラッシング及びスラッピングが挙げられる。
【０１６６】
また、現像工程後の処理として、必要に応じて６０〜２５０℃程度の加熱又は０．２〜１０Ｊ／ｃｍ２程度の露光量にて露光を行うことにより、レジストパターンを更に硬化させてもよい。
【０１６７】
（プリント配線板の製造方法）
本実施形態のプリント配線板の製造方法は、上記レジストパターンの形成方法によりレジストパターンの形成された回路形成用基板に対し、エッチング又はめっきすることによって行われる。ここで、回路形成用基板のエッチング又はめっきは、現像されたレジストパターンをマスクとして、回路形成用基板の表面を公知の方法によりエッチング又はめっきすることによって行われる。
【０１６８】
エッチングに用いられるエッチング液としては、例えば、塩化第二銅溶液、塩化第二鉄溶液、アルカリエッチング溶液等を用いることができる。
【０１６９】
めっきとしては、例えば、銅めっき、はんだめっき、ニッケルめっき、金めっき等が挙げられる。
【０１７０】
エッチング又はめっきを行った後、レジストパターンは、例えば、現像に用いたアルカリ性水溶液より更に強アルカリ性の水溶液で剥離することができる。この強アルカリ性の水溶液としては、例えば、１〜１０質量％水酸化ナトリウム水溶液、１〜１０質量％水酸化カリウム水溶液等が用いられる。また、剥離方式としては、例えば、浸漬方式、スプレー方式等が挙げられる。なお、レジストパターンが形成されたプリント配線板は、多層プリント配線板でもよく、小径スルーホールを有していてもよい。
【０１７１】
また、めっきが絶縁層と絶縁層上に形成された導体層とを備えた回路形成用基板に対して行われた場合には、パターン以外の導体層を除去する必要がある。この除去方法としては、例えば、レジストパターンを剥離した後に軽くエッチングする方法や、上記めっきに続いてはんだめっき等を行い、その後レジストパターンを剥離することで配線部分をはんだでマスクし、次いで導体層のみをエッチング可能なエッチング液を用いて処理する方法が挙げられる。
【０１７２】
（半導体パッケージ基板の製造方法）
本発明の感光性エレメント１は、リジット基板と、そのリジット基板上に形成された絶縁膜とを備える半導体パッケージ基板に用いることもできる。この場合、感光層２０の光硬化部を絶縁膜として用いればよい。感光層２０の光硬化部を、例えば半導体パッケージ用のソルダーレジストとして用いる場合は、上述のレジストパターンの形成方法における現像終了後、はんだ耐熱性、耐薬品性等を向上させる目的で、高圧水銀ランプによる紫外線照射や加熱を行うことが好ましい。紫外線を照射させる場合は必要に応じてその照射量を調整することができ、例えば０．２〜１０Ｊ／ｃｍ２程度の照射量で照射を行うこともできる。また、レジストパターンを加熱する場合は、１００〜１７０℃程度の範囲で１５〜９０分程行われることが好ましい。さらに紫外線照射と加熱とを同時に行うこともでき、いずれか一方を実施した後、他方を実施することもできる。紫外線の照射と加熱とを同時に行う場合、はんだ耐熱性、耐薬品性等を効果的に付与する観点から、６０〜１５０℃に加熱することがより好ましい。
【０１７３】
このソルダーレジストは、半導体パッケージ基板にはんだ付けを施した後の配線の保護膜を兼ね、引張強度や伸び率等の物理特性及び耐熱衝撃性に優れているので、半導体パッケージ用の永久マスクとして有効である。
【０１７４】
このようにしてレジストパターンを備えた半導体パッケージ基板は、その後、半導体素子などの実装（例えば、ワイヤーボンディング、はんだ接続）がなされ、そして、パソコン等の電子機器へ装着される。
【０１７５】
以上、本発明をその実施形態に基づいて詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形態様が可能である。
【実施例】
【０１７６】
以下に、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１７７】
（感光性樹脂組成物の基本溶液の作製）
まず、表１に示す組成のバインダーポリマーを下記合成例にしたがって合成した。
【０１７８】
（合成例１；ａ―１成分）
撹拌機、還流冷却器、温度計、滴下ロート及び窒素ガス導入管を備えたフラスコに、質量比６：４であるトルエン及びメチルセロソルブの配合物４２０ｇを加え、窒素ガスを吹き込みながら撹拌して、８０℃まで加熱した。一方、共重合単量体としてメタクリル酸１３２ｇ、メタクリル酸メチル２４ｇ、スチレン２２２ｇ及びメタクリル酸ベンジル２２２ｇと、アゾビスイソブチロニトリル５．４ｇとを混合した溶液（以下、「溶液ａ」という）を用意し、８０℃に加熱された質量比６：４であるトルエン及びメチルセロソルブの上記配合物に溶液ａを４時間かけて滴下した。その後、質量比６：４であるトルエン及びメチルセロソルブの配合物４０ｇを用い滴下ロートを洗浄し、フラスコ内に加え、８０℃で撹拌しながら２時間保温した。さらに、質量比６：４であるメチルセロソルブ及びトルエンの配合物４０ｇにアゾビスイソブチロニトリル１．０ｇを溶解した溶液を、３０分かけてフラスコ内に滴下した。そして、質量比６：４であるトルエン及びメチルセロソルブの配合物１２０ｇを用い滴下ロートを洗浄し、フラスコ内に加えた。滴下後の溶液を撹拌しながら８０℃で３時間保温した後、３０分間かけて９０℃に加温した。９０℃で２時間保温した後、冷却して（ａ）成分であるバインダーポリマー溶液を得た。このバインダーポリマー溶液に、トルエンを加えて不揮発成分濃度（固形分濃度）が４０質量％になるように調製した。バインダーポリマーの重量平均分子量は、バインダーポリマーの重量平均分子量は、４５０００であった。なお、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより算出した。ＧＰＣの条件を以下に示す。また、バインダーポリマーの酸価を下記測定手順に従い測定した結果、酸価は１０７ｍｇＫＯＨであった。
【０１７９】
（合成例２；ａ―２成分）
共重合単量体としてメタクリル酸１５０ｇ、メタクリル酸メチル３００ｇ及びスチレン１５０ｇと、アゾビスイソブチロニトリル５．４ｇとを混合した溶液（以下、「溶液ｂ」という）を用意した以外は、合成例１と同様の操作をして（ａ）成分であるバインダーポリマー溶液を得た。このバインダーポリマー溶液に、トルエンを加えて不揮発成分濃度（固形分濃度）が４０質量％になるように調製した。バインダーポリマーの重量平均分子量は、バインダーポリマーの重量平均分子量は、４５０００であった。また、バインダーポリマーの酸価は１２１ｍｇＫＯＨであった。
【０１８０】
（ＧＰＣ条件）
ポンプ：日立 Ｌ−６０００型（株式会社日立製作所製、商品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４２０＋Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４３０＋Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４４０（計３本）（以上、日立化成工業株式会社製、商品名）
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：日立 Ｌ−３３００型ＲＩ（株式会社日立製作所製、商品名）
【０１８１】
（酸価測定）
三角フラスコに合成したバインダーポリマーを秤量し、混合溶剤（質量比：トルエン／メタノール＝７０／３０）を加え溶解後、指示薬としてフェノールフタレイン溶液を添加し、Ｎ／１０水酸化カリウムアルコール溶液で滴定し、酸価を測定した。
【０１８２】
【表１】
【０１８３】
下記表２及び３に示す配合量（ｇ）で各成分を配合して、実施例１〜９及び比較例１〜６の感光性樹脂組成物の溶液を調製した。なお、（ａ）成分の配合量のうち、（）内の数値は固形分量を示す。
【０１８４】
【表２】
【０１８５】
【表３】
【０１８６】
ｂ−１：ＦＡ−３２１Ｍ（ＥＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート、日立化成工業株式会社製、商品名）
ｂ−２：ＢＰＥ−２００（ＥＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート、新中村工業株式会社製、商品名）
ｂ−３：ＦＡ−ＭＥＣＨ（γ−クロロ−２−ヒロドキシプロピル−β′−メタクリロイルオキシエリル−ｏ−フタレート、日立化成工業株式会社製、商品名）
ｃ−１：２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体
ｃ−２：１−フェニル−３−（４−メトキシスチリル）−５−（４−メトキシフェニル）ピラゾリン
ｃ−３：１−フェニル−３−（４−メトキシフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）ピラゾリン
ｃ−４：１−フェニル−３−フェニル−５−（４−イソプロピルフェニル）ピラゾリン
ｃ−５：Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン
ｃ−６：４−ｔ−ブチルカテコール
【０１８７】
（感光性エレメントの作製）
感光性エレメント１の支持フィルム１０として、下記ＰＥＴフィルム及び保護フィルム用意した。各ＰＥＴフィルムに含まれる５μｍ以上の粒子等の個数及びヘーズ及び各保護フィルムの酸素透過率を測定した結果を表４及び５に示す。
＜支持フィルム＞
微粒子を含有する層を表裏に有する３層構造の二軸配向ＰＥＴフィルム：ＦＢ４０（東レ株式会社製、商品名）
微粒子が片側にのみ存在する２層構造の二軸配向ＰＥＴフィルム：Ａ−１５１７（東洋紡績株式会社製、商品名）
微粒子を含有する層を表裏に有する３層構造の二軸配向ＰＥＴフィルム：ＨＴＲ−０２（帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名）
【０１８８】
上記粒子等の個数は、１ｍｍ２単位に存在する５μｍ以上の粒子等の数を偏光顕微鏡を用いて測定した値である。その際のｎ数は５とした。また、ヘーズは、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠して測定した値である。これらの支持フィルム１０の厚さは、いずれも１６μｍであった。
【０１８９】
＜保護フィルム＞
ポリエチレンテレフタレートフィルム：ＦＢ４０（東レ株式会社製、商品名、厚さ１６μｍ）
ポリプロピレンフィルム：Ｅ−２００Ｃ（王子製紙株式会社製、商品名、厚さ２０μｍ）
ポリエチレンフィルム：ＮＦ−１５Ａ（タマポリ株式会社製、商品名、厚さ２８μｍ）
【０１９０】
上記保護フィルムの酸素透過率は、ＪＩＳ Ｚ １７０２に準拠して測定した値である。
【０１９１】
次に、それぞれのＰＥＴフィルム上に上記感光性樹脂組成物の溶液を厚さが均一になるようにして塗布し、１００℃の熱風対流乾燥機で５分間乾燥して溶媒を除去した。乾燥後、それぞれの保護フィルムで感光層２０を被覆して感光性エレメント１を得た。なお、乾燥後の感光層２０の厚さが、表４及び表５に示す厚さＴとなるように感光性樹脂組成物の溶液の塗布量を調整した。
【０１９２】
（積層体の作製）
銅箔（厚さ：３５μｍ）を両面に積層したガラスエポキシ材である銅張積層板（日立化成工業株式会社製、商品名「ＭＬＣ−Ｅ−６７９」）の銅表面を、表面粗化処理液「メックエッチボンド ＣＺ−８１００」（メック株式会社製、商品名）を用い表面処理し、酸洗及び水洗後、空気流で乾燥した。得られた銅張積層板を８０℃に加温し、保護フィルムを剥離しながら、感光層２０が銅表面に接するように感光性エレメント１をラミネートした。こうして、銅張積層板、感光層２０、支持フィルム１０の順に積層された積層体を得た。ラミネートは、１２０℃のヒートロールを用いて、０．４ＭＰａの圧着圧力、１．５ｍ／分のロール速度で行なった。これらの積層体は、以下に示す試験における試験片として用いた。
【０１９３】
（最少現像時間の測定）
上記試験片を１２５ｍｍ×２００ｍｍのサイズにカットし、支持フィルム１０を剥離した後、３０℃の１質量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて、未露光状態の感光層２０をスプレー現像し、未露光部が完全に除去される時間を測定し、最少現像時間とした。測定結果を表４及び表５に示す。
【０１９４】
（光感度測定試験）
試験片の支持フィルム１０上に、ネガとして４１段ステップタブレット（日立化成工業株式会社製）を載置し、高圧水銀灯ランプを有する露光機（株式会社オーク製作所製、商品名「ＥＸＭ−１２０１」）及びｉ線バンドバスフィルターを用いて、現像後のレジスト硬化段数が１１段になる所定の照射エネルギー量となるように感光層２０を露光した。次に、支持フィルム１０を剥離し、３０℃の１質量％炭酸ナトリウム水溶液を最少現像時間の２倍の時間でスプレー現像し、未露光部分を除去して現像を行った。そして、銅張積層板上に形成された光硬化膜のステップタブレットの段数が１１段になっていることを確認し、このときの露光量を各感光層２０の所定の照射エネルギー量とした。結果を表４及び５に示す。
【０１９５】
（解像度測定試験）
解像度を調べるため、４１段ステップタブレットを有するフォトツールと、解像度評価用ネガとしてライン幅／スペース幅が２／２〜３０／３０（単位：μｍ）の配線パターンを有するガラスクロムタイプのフォトツールとを試験片の支持フィルム１０上に密着させ、高圧水銀灯ランプを有する露光機（株式会社オーク製作所製、商品名「ＥＸＭ−１２０１」）及びｉ線バンドパスフィルターを用いて、４１段ステップタブレットの現像後の残存ステップ段数が１１段となる照射エネルギー量で露光を行った。次に、支持フィルム１０を剥離し、３０℃で１質量％炭酸ナトリウム水溶液を最少現像時間の２倍の時間でスプレー現像し、未露光部分を除去して現像を行った。ここで、解像度は、現像処理後に光学顕微鏡を用いてレジストパターンを観察したとき、未露光部を完全に除去することができたライン幅間のスペース幅の最も小さい幅（単位：μｍ）を測定することにより評価した。なお、解像度の評価は数値が小さいほど良好な値である。結果を表４及び５に示す。
【０１９６】
（密着性測定試験）
密着性を調べるため、４１段ステップタブレットを有するフォトツールと、密着性評価用ネガとしてライン幅／スペース幅が２／６〜３０／９０（単位：μｍ）の配線パターンを有するガラスクロムタイプのフォトツールとを試験片の支持フィルム１０上に密着させ、高圧水銀灯ランプを有する露光機（株式会社オーク製作所製、商品名「ＥＸＭ−１２０１」）を用いて、４１段ステップタブレットの現像後の残存ステップ段数が１１．０となる照射エネルギー量で露光を行った。次に、支持フィルム１０を剥離し、３０℃で１質量％炭酸ナトリウム水溶液を最少現像時間の２倍の時間でスプレー現像し、未露光部分を除去して現像を行った。ここで、密着性は、現像処理によって未露光部をきれいに除去することができ、現像処理後に光学顕微鏡を用いてレジストパターンを観察したとき、剥がれ及びよれがなく残ったライン幅のうち最も小さい幅（単位：μｍ）を測定することにより評価した。なお、密着性の評価は数値が小さいほど良好な値である。結果を表４及び５に示す。
【０１９７】
（レジストラインの断面形状評価）
上記解像度測定試験で評価した回路形成用基板において、ライン幅／スペース幅が１０／１０（単位：μｍ）の配線パターンのレジストラインの断面形状を観察した。観察手法として、タングステンを用いてレジストの保護膜を形成した後、集束イオンビーム加工観察装置（株式会社日立製作所製、商品名「ＦＢ−２０００Ａ」、イオン種：Ｇａイオン、加速電圧：３０ｋＶ、観察条件：ビームアパーチャー直径５００μｍ）を用い、レジストパターン中心部のレジスト断面を露出させた。次いで、走査型電子顕微鏡（株式会社日立製作所製、商品名「ＦＥ−ＳＥＭ Ｓ−４７００」）により観察し、レジスト上面とレジスト底面の線幅の差を測定し、以下のように評価した。結果を表４及び５に示す。
Ａ：線幅の差が１．０μｍ未満である。
Ｂ：線幅の差が１．０〜１．５μｍである。
Ｃ：線幅の差が１．５μｍを超える。
【０１９８】
（レジストラインの側面形状評価）
上記解像度測定試験で評価した基板において、レジストラインの側面形状を走査型電子顕微鏡（株式会社日立製作所製、商品名「ＳＵ−１５００」）により観察し、以下のように評価した。結果を表３に示す。
Ａ：滑らかな形状
Ｂ：やや粗い形状
Ｃ：粗い形状
【０１９９】
（レジスト欠損部発生性測定試験）
レジストの微小欠損部発生性を調べるため、４１段ステップタブレットを有するフォトツールと、ライン幅／スペース幅が１０／３０（単位：μｍ）の配線パターンを有するガラスクロムタイプのフォトツールとを試験片の支持フィルム１０上に密着させ、高圧水銀灯ランプを有する露光機及びｉ線バンドパスフィルターを用いて、４１段ステップタブレットの現像後の残存ステップ段数が８．０となる照射エネルギー量で露光を行った。次に、支持フィルム１０を剥離し、３０℃の１質量％炭酸ナトリウム水溶液を最少現像時間の４倍の時間スプレーし、未露光部分を除去した。次いで、顕微鏡を用いて、レジスト欠損部の個数を数えた。ライン長さが１ｍｍでライン本数が１０本を観察単位とし、ｎ数を５とした時の平均値をレジスト微小欠損部発生数とした。その結果を表４、５に示す。
【０２００】
【表４】
【０２０１】
【表５】
【０２０２】
表５に示すように、感光層２０のＹ値（Ａ／Ｔ）が、０．０２０を超える、比較例３及び４は、レジストラインの断面形状にやや問題があり、支持フィルム１０に含まれる粒子等が多数の比較例５及び６は、レジストラインの側面形状に問題があり、また、レジスト欠損部発生数も多いことがわかる。また、保護フィルムの酸素透過率が、５×１０−２ｍ３／ｍ２・日・ＭＰａを超える、比較例１及び比較例２は、照射エネルギー量が、保護フィルムの酸素透過率が、５×１０−２ｍ３／ｍ２・日・ＭＰａ未満の保護フィルムを使用した場合に比較し、光感度が低くなり、生産性が低下する傾向がある。
それに対し、表４の実施例１〜９に示すように、本発明の感光性エレメント１を用いた場合、光感度も高く、密着性及び解像度とも良好であり、レジストの微少な欠損を十分に低減し、断面形状がより矩形に近いレジストパターンを形成可能である。保護フィルムの変更のみで、光感度が向上することは、生産性向上に有効であり、且つ、レジストの組成設計の幅ができ、効果は大きい。
【符号の説明】
【０２０３】
１…感光性エレメント、１０…支持フィルム、１２…第１の主面、１４…第２の主面、２０…感光層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、プリント配線板の製造分野及び金属の精密加工分野において、エッチング、めっき等に用いられるレジスト材料としては、感光性樹脂組成物からなる層（以下「感光層」という）、支持フィルム及び保護フィルムで構成される感光性エレメントが広く用いられている。
【０００３】
プリント配線板は、例えば下記のようにして製造される。まず、感光性エレメントの保護フィルムを感光層から剥離した後、回路形成用基板の導電膜上に感光層をラミネートする。次いで、感光層にパターン露光を施した後、未露光部分を現像液で除去し、レジストパターンを形成する。そして、このレジストパターンに基づいて、導電膜をパターンニングすることによって、プリント配線板が形成される。
【０００４】
この未露光部分の除去に用いられる現像液としては、炭酸ナトリウム水溶液等のアルカリ現像型が主に用いられている。現像液は、通常、ある程度感光層を溶解する能力があればよく、現像時には感光層が現像液に溶解又は現像液中に分散される。
【０００５】
近年、プリント配線板の高密度化に伴い、回路形成用基板とレジスト材料である感光層との接触面積が小さくなっている。そのため、感光層には、エッチング又はめっき工程において優れた機械強度、耐薬品性、柔軟性が要求されると共に、回路形成用基板との優れた密着性やパターン形成における優れた解像度が要求されている。最近では、特にパッケージ基板用途としてライン幅及びスペース幅が共に１０μｍ以下のレジストパターンを形成し得る材料が望まれ、さらに、配線間の絶縁信頼性の向上のため、レジストパターンの形状を矩形に近づけることが必要とされている。
【０００６】
通常、感光性エレメントを用いてレジストを形成する際には、感光層を回路形成用基板上にラミネートした後、支持フィルムを剥離することなく露光を行う。このような露光処理に対応するためには、支持フィルムに光透過性の材料を採用すればよい。また、パターン形成における高い解像度を得るためには、支持フィルムをなるべく薄くする必要がある。その一方で、支持フィルム上に感光性樹脂組成物を均一な厚さで歩留り良く塗布するためには、支持フィルムにある程度の厚さ（一般に１０〜３０μｍ）が要求される。また、支持フィルムの生産性を向上するため、すなわち、支持フィルムの巻き取り性を向上させる目的で、一般に支持フィルムに、無機又は有機微粒子を含有させている。そのため、従来の支持フィルムは、ヘーズが増大し、支持フィルムが含有する微粒子により、露光時に光散乱が起こり、感光性フィルムの高解像度化の要求に応えられない傾向にある。また、プリント配線板の生産性を向上させるため、感光性フィルムの高感度化の要求がある。
【０００７】
高感度化を達成する方法としては、感光層に含有する光重合開始剤の添加量を増加させれば良いが、感光層の吸光度が高くなるため、露光及び現像後のレジスト形状が逆台形になり、密着性が低下する傾向がある。
【０００８】
高解像度化を達成する方法としては、露光前に、感光性エレメントに備えられた支持フィルムを剥離し、支持フィルムを介さずに露光する方法がある。この場合、感光層にフォトツールを直接密着させる場合もある。しかしながら、感光層は、通常ある程度の粘着性を有しているため、フォトツールを感光層に直接密着させて露光を行う場合、密着させたフォトツールの除去が困難となる。また、感光層によりフォトツールが汚染されたり、支持フィルムを剥離することにより感光層が大気中の酸素に曝されたりして、光感度が低下しやすくなる。
【０００９】
上述の点を改善するために、種々の手段が提案されている。例えば、特許文献１及び２には、二層以上の感光層を形成し、そのうちのフォトツールと直接密着する層を非粘着性とする方法が開示されている。また、特許文献３〜８では、支持フィルムと感光層との間に中間層を設ける方法が提案されている。また、特許文献９及び１０では、支持フィルムの片側の最表面に平均粒径０．０１〜５μｍ程度の無機又は有機微粒子を含有させることでヘーズを低くし、支持フィルムを介して露光しても高解像度化できる方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開平０１−２２１７３５号公報
【特許文献２】特開平０２−２３０１４９号公報
【特許文献３】特公昭５６−０４０８２４号公報
【特許文献４】特開昭５５−５０１０７２号公報
【特許文献５】特開昭４７−０００４６９号公報
【特許文献６】特開昭５９−０９７１３８号公報
【特許文献７】特開昭５９−２１６１４１号公報
【特許文献８】特開昭６３−１９７９４２号公報
【特許文献９】特開平０７−３３３８５３号公報
【特許文献１０】国際公開第００／０７９３４４号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、上記特許文献１〜８に記載の手段では、中間層を設けたり、複数の感光層を設けたりするための余計な塗布工程が必要となり、その製造工程の数が増加する。また、特許文献１及び２に記載の手段では、回路形成用基板に設置した際に感光層は大気中の酸素に曝されるため、その光感度を高く維持することは困難である。さらに、特許文献３〜８に記載の手段では、中間層が薄いために、感光性エレメントの取扱いが容易ではない。
【００１２】
さらに、本発明者らが検討した結果、特許文献９及び１０に記載の手段では、高解像化はできるものの、感光層の膜厚を薄膜化するに従い、レジストパターンに欠けが生じ、プリント配線板の製造歩留りが低下する傾向があることが判明した。
【００１３】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、薄膜の感光性樹脂組成物からなる層を備える感光性エレメントにおいて、光感度を高くし、密着性及び解像度が良好であり、レジストの微少な欠損を十分に低減し、断面形状がより矩形に近いレジストパターンを形成可能である感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、支持フィルムと、該支持フィルム上に形成された感光性樹脂組成物に由来する感光層と、保護フィルムを備える感光性エレメントであって、前記支持フィルムのヘーズが、０．０１〜１．５％であり、かつ、該支持フィルムに含まれる直径５μｍ以上の粒子及び直径５μｍ以上の凝集物の総数が５個／ｍｍ２以下であり、前記感光層が、バインダーポリマー、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物及び光重合開始剤を含有し、前記感光層の厚さＴ（μｍ）と前記感光層の３６５ｎｍにおける吸光度Ａとが、下記式（Ｉ）で表される関係を満足し、
０．００５≦Ａ／Ｔ≦０．０２０ （Ｉ）
前記保護フィルムの酸素透過率が、５×１０−２ｍ３／ｍ２・日・ＭＰａ以下である、感光性エレメントに関する。
【００１５】
従来の感光性エレメントを用いてレジストパターンを形成した場合、感光層の吸光度が高いため、線幅が１０μｍ以下のレジストパターンの断面は、極端な逆台形の形状となる傾向がある。そのため、このようなレジストパターンを用いて作製される配線パターンの断面は極端な逆台形となり、プリント配線板の高密度化には限界がある。また、酸素透過率の高い従来の保護フィルムを使用した場合、光感度が低くなり、プリント配線板の生産性を向上させるには限界がある。
【００１６】
そこで、まず、本発明者らは、支持フィルムに着目し、ヘーズを十分に低減し、かつ、フィルムに含まれる直径５μｍ以上の粒子及び直径５μｍ以上の凝集物の総数が少ない支持フィルムを採用することで、露光時に照射した活性光線の光散乱が発生し難く、現像後のレジストパターンの欠損を少なくすることが可能となることを見出した。次いで、本発明者らは、感光層の３６５ｎｍにおける吸光度と膜厚の関係に着目して検討した結果、レジストパターンの断面形状を矩形に近づけることができることを見出した。次いで、本発明者らは、保護フィルムの酸素透過率と光感度の関係に着目して検討した結果、光感度を高くすることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１７】
また、本発明の感光性エレメントにおいて、光重合開始剤が２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含有することで、高い光感度を維持しつつ、密着性及び解像度をより向上させ、極細線のレジストパターンが形成可能となる。
また、本発明の感光性エレメントにおいて、感光層の厚さが、２〜３０μｍであることが好ましい。
【００１８】
上記光重合開始剤が、下記一般式（ＸＩ）又は（ＸＩＩ）でそれぞれ表されるピラゾリン化合物を含有することが好ましい。
【００１９】
【化１】
【００２０】
【化２】
【００２１】
式中、Ｒは炭素数１〜３の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、炭素数１〜３の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基又はハロゲン原子を示し、ａ、ｂ及びｃの総和は１〜６であり、ａ、ｂ及びｃの総和が２以上のとき、複数存在するＲは互いに同一でも異なっていてもよい。
【００２２】
光重合開始剤として上記ピラゾリン化合物を配合することにより、感光層の吸光度を一定の範囲内で維持しつつ、光感度をより高くすることができるため、プリント配線板の生産性を向上することが可能となる。
【００２３】
溶剤への溶解性の観点から、上記式（ＸＩ）及び（ＸＩＩ）におけるＲのうち少なくとも一つがイソプロピル基、メトキシ基又はエトキシ基であることが好ましい。
【００２４】
本発明の感光性エレメントにおいて、光重合性化合物が下記一般式（ＩＩ）で表される化合物を含むと、密着性，解像度及び耐薬品性のバランスが良好となり、極細線のレジストパターンを形成することが可能となる。
【００２５】
【化３】
【００２６】
式中、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｙは炭素数２〜６のアルキレン基を示し、ｎ１及びｎ２はそれぞれ独立に正の整数を示し、ｎ１＋ｎ２は４〜４０であり、ｎ１＋ｎ２が４以上のとき、複数存在するＹは互いに同一でも異なっていてもよい。
【００２７】
また、本発明の感光性エレメントにおいて、バインダーポリマーが下記一般式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（Ｖ）で表される２価の基を有すると、密着性、解像度、及び剥離性とのバランスがより良好となり、極細線のレジストパターンが形成可能となる。
【００２８】
【化４】
【００２９】
【化５】
【００３０】
【化６】
【００３１】
式中、Ｒ７、Ｒ８及びＲ１０はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｒ９は炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、水酸基又はハロゲン原子を示し、Ｒ１１は炭素数１〜６のアルキル基を示し、ｐは０〜５の整数を示し、ｐが２以上のとき、複数存在するＲ９は互いに同一でも異なっていてもよい。
【００３２】
また、バインダーポリマーが、上記一般式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（Ｖ）で表される２価の基と共に、下記一般式（ＶＩ）で表される２価の基を更に有することにより、密着性、解像度及び剥離性のバランスをさらに向上することができる。
【００３３】
【化７】
【００３４】
式中、Ｒ１２は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ１３は炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、水酸基又はハロゲン原子を示す。ｑは０〜５の整数を示し、ｑが２以上のとき、複数存在するＲ１３は互いに同一でも異なっていてもよい。
【００３５】
また、本発明は、上記感光性エレメントを、保護フィルムを除去後、感光層、支持フィルムの順に回路形成用基板上に積層する積層工程と、活性光線を、支持フィルムを通して感光層の所定部分に照射して、感光層に光硬化部を形成させる露光工程と、光硬化部以外の感光層を除去する現像工程と、を含む、レジストパターンの形成方法に関する。
【００３６】
本発明のレジストパターンの形成方法によれば、上記本発明の感光性エレメントを用いるため、極細線のレジストパターンを効率よく得ることができる。
【００３７】
また、本発明は、レジストパターンが形成された回路形成用基板に対し、エッチング又はめっきを施す、プリント配線板の製造方法に関する。本発明のプリント配線板の製造方法によれば、上記本発明の感光性エレメントを用いたレジストパターンの形成方法を採用しているため、極細線の配線パターンを有する高密度のプリント配線板が得られる。
【発明の効果】
【００３８】
本発明の感光性エレメントによれば、感光性樹脂組成物からなる層を備える感光性エレメントにおいて、光感度が高く、密着性及び解像度が良好であり、レジストの微少な欠損を十分に低減し、断面形状がより矩形に近いレジストパターンを形成可能である感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の感光性エレメントの好適な実施形態を示す模式断面図である。
【図２】直径５μｍ以上の粒子等を有する支持フィルムの表面を観察した偏光顕微鏡写真である。
【図３】直径５μｍ以上の粒子等を多数有する支持フィルム上に感光層を備える感光性エレメントを用いて形成したレジストパターンの走査型顕微鏡写真である。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一要素には同一符号を付すこととし、重複する説明は省略する。また、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。更に、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。また、本明細書における「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート」及びそれに対応する「メタクリレート」を意味する。同様に「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」及びそれに対応する「メタクリル」を意味し、「（メタ）アクリロイル」とは「アクリロイル」及びそれに対応する「メタクリロイル」を意味する。
【００４１】
図１は、本発明の感光性エレメント１の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図１に示した感光性エレメント１は、支持フィルム１０と、感光層２０とで構成される。感光層２０は支持フィルム１０の第１の主面１２上に設けられている。また、支持フィルム１０は、第１の主面１２とは反対側に第２の主面１４を有している。
【００４２】
（支持フィルム）
支持フィルム１０は、ヘーズが０．０１〜１．５％であり、かつ支持フィルム１０に含まれる直径５μｍ以上の粒子及び凝集物（以下、単に「粒子等」という）の総数が５個／ｍｍ２以下のものである。ここで、支持フィルム１０に含まれる直径５μｍ以上の粒子等には、支持フィルム１０の主面から突出しているもの及びフィルム内部に存在するものの両方が含まれる。また、直径５μｍ以上の粒子等には、直径５μｍ以上の一次粒子及び直径５μｍ未満の一次粒子の凝集物が含まれる。
【００４３】
支持フィルム１０のヘーズは、０．０１〜１．５％であり、０．０１〜１．３％であることが好ましく、０．０１〜１．０％であることがより好ましく、０．０１〜０．５％であることが更に好ましい。このヘーズが０．０１％未満では支持フィルム１０自体の製造が容易でなくなる傾向があり、１．５％を超えると感度及び解像度が低下する傾向がある。ここで、「ヘーズ」とは曇り度を意味する。本発明におけるヘーズは、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に規定される方法に準拠して、市販の曇り度計（濁度計）を用いて測定された値をいう。ヘーズは、例えば、ＮＤＨ−１００１ＤＰ（日本電色工業株式会社製、商品名）等の市販の濁度計で測定が可能である。
【００４４】
上記直径５μｍ以上の粒子等は、５個／ｍｍ２以下であり、３個／ｍｍ２以下であることが好ましく、１個／ｍｍ２以下であることがより好ましい。この粒子等の数が５個／ｍｍ２を超えると、露光及び現像後のレジストの一部欠損（レジスト微小欠損）が生じ易くなる。そして、このような感光性エレメント１をプリント配線板に使用すると、エッチング時のオープン不良発生や、めっき時のショート不良発生の一因になり、プリント配線板の製造歩留りが低下する傾向がある。
【００４５】
なお、直径５μｍ未満の粒子が支持フィルム１０に数多く含まれていても、光散乱に対する影響は大きくない。その要因は、露光工程において、感光層２０に光を照射した場合、感光層２０の光硬化反応は光照射部のみでなく、若干であるが光が直接照射されていない横方向（光照射方向に対し垂直方向）へも進行する。このため粒子径が小さい場合は、粒子直下部の光硬化反応が十分に進行するが、粒子径が大きくなるに伴い、粒子直下部の光硬化反応が十分に進行しないため、レジスト微小欠損が発生すると考えられる。
【００４６】
ここで、支持フィルム１０に含まれる直径５μｍ以上の粒子等とは、支持フィルム１０を構成する成分、例えば、ポリマーのゲル状物、原料であるモノマー、製造時に使用される触媒、必要に応じて含まれる無機又は有機微粒子がフィルム作製時に凝集し形成される凝集物、滑剤含有層をフィルム上に塗布した際に発生する滑剤と接着剤による膨らみ、フィルム中に含有する直径５μｍ以上の粒子等に起因して生じたものである。直径５μｍ以上の粒子等を５個／ｍｍ２以下にするには、これらの粒子等のうち、粒径の小さなもの又は分散性に優れたものを選択的に用いればよい。
【００４７】
上記直径５μｍ以上の粒子等の数は、偏光顕微鏡を用いて測定することができる。なお、直径５μｍ以上の一次粒子と直径５μｍ未満の一次粒子とが凝集して形成される凝集物は、１個として数える。図２は、直径５μｍ以上の粒子等を有する支持フィルム１０の表面を観察した偏光顕微鏡写真である。図２中、丸で囲まれている部分は、直径５μｍ以上の粒子等に相当する部分の一例を示している。そして、図３は、直径５μｍ以上の粒子等を多数有する支持フィルム１０上に感光層２０を備える感光性エレメント１を用いて形成したレジストパターンの走査型顕微鏡写真である。このように、支持フィルム１０の表面に直径５μｍ以上の粒子等が多数あるとレジスト欠損を生じる。
【００４８】
支持フィルム１０の材料は、直径５μｍ以上の粒子等が５個／ｍｍ２以下となるようなものであれば、特に制限されない。支持フィルム１０としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（以下、「ＰＥＴ」と表記する）等のポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィンからなる群より選ばれる１種以上の樹脂材料を含むフィルムが挙げられる。
【００４９】
また支持フィルム１０は、単層であっても多層であってもよい。例えば、２層からなる２層支持フィルムを用いる場合、二軸配向ポリエステルフィルムの一方の面に、微粒子を含有する樹脂層を積層してなる２層フィルムを支持フィルム１０として使用し、上記微粒子を含有する樹脂層を形成した面とは反対側の面に感光層２０を形成することが好ましい。また、支持フィルム１０として、３層からなる多層支持フィルム（例えば、Ａ層／Ｂ層／Ａ層）を用いることもできる。多層支持フィルムの構成は特に制限されないが、最外層（上記３層からなるものの場合はＡ層）はいずれも微粒子を含有する樹脂層であることが、フィルムの滑り性等の見地から好ましい。
【００５０】
従来の２層支持フィルムは、微粒子を有する樹脂層を二軸配向ポリエステルフィルムに塗布して製造しているため、感光性フィルムのラミネート時に微粒子を含有する樹脂層が剥がれやすく、剥がれた樹脂層が感光性樹脂層に付着して不良の原因になる可能性がある。そのため、本発明においては、微粒子を有する樹脂層と二軸配向ポリエステルフィルム射出成形された３層からなる多層支持フィルムを用いることが好ましい。
【００５１】
本発明においては、支持フィルム１０のヘーズが０．０１〜１．５％であり、支持フィルム１０中に含まれる直径５μｍ以上の粒子等を５個／ｍｍ２以下に調整すると同時に、このような微粒子を含有する樹脂層を備えた多層支持フィルムであると特に好適である。これにより、フィルムの滑り性が良くなると共に、露光時の光散乱の抑制をバランスよく、より高いレベルで成し遂げることができる。微粒子の平均粒子径は、微粒子を含有する樹脂層の層厚の０．１〜１０倍であることが好ましく、０．２〜５倍であることがより好ましい。平均粒子径が０．１倍未満では滑り性が劣る傾向があり、１０倍を超えると感光層２０に特に凹凸が生じ易い傾向がある。
【００５２】
上記微粒子は、微粒子を含有する樹脂層中に０．０１〜５０質量％含有されていることが好ましい。そして、上記微粒子としては、例えば、各種核剤により重合時に生成した微粒子、凝集体、二酸化珪素微粒子（凝集シリカ等）、炭酸カルシウム微粒子、アルミナ微粒子、酸化チタン微粒子、硫酸バリウム微粒子等の無機微粒子、架橋ポリスチレン微粒子、アクリル微粒子、イミド微粒子等の有機微粒子又はこれらの混合体を用いることができる。
【００５３】
３層以上の多層支持フィルムにおいて、微粒子を含有する最外層で挟まれた１以上の中間層は、上記微粒子を含有するものであっても含有しないものであってもよいが、解像度の見地からは、上記微粒子を含有していないことが好ましい。中間層が上記微粒子を含有する場合は、中間層における含有量は最外層の含有量の１／３以下であることが好ましく、１／５以下であることがより好ましい。
【００５４】
解像度の見地からは、また、上記微粒子を含有する樹脂層の層厚は０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜３μｍであることがより好ましく、０．１〜２μｍであることが特に好ましい。そして、最外層の中間層に対向しない面は、１．２以下の静摩擦係数を有することが好ましい。静摩擦係数が１．２を超えるとフィルム製造時及び感光性エレメント製造時にしわが入りやすく、また、静電気を生じ易くなるためごみが付着しやすくなる傾向がある。本発明において、静摩擦係数は、ＡＳＴＭＤ１８９４に準じて測定することができる。
【００５５】
なお、支持フィルム１０に含まれる直径５μｍ以上の粒子等が一主面当たり５個／ｍｍ２以下とするためには、微粒子を含有する樹脂層が含有する微粒子の粒径は５μｍ未満であることが好ましい。そして、露光時の光散乱をより一層低減するために、微粒子の粒径に合わせて微粒子を含有する樹脂層の層厚を適宜調整することが好ましい。
【００５６】
なお、支持フィルム１０は、その感光特性を損なわない範囲で、必要に応じて、帯電防止剤等を含んでいてもよい。
【００５７】
支持フィルム１０の厚さは５〜４０μｍであることが好ましく、８〜３５μｍであることがより好ましく、１０〜３０μｍであることが更に好ましく、１２〜２５μｍであることが特に好ましい。厚さが５μｍ未満であると、感光性エレメント１から支持フィルム１０を剥離する際に、支持フィルム１０が破れやすくなる傾向がある。また、厚さが４０μｍを超えると、解像度が低下する傾向があると共に、廉価性に劣る傾向がある。
【００５８】
また、支持フィルム１０は、市販の一般工業用フィルムの中から、感光性エレメント１の支持フィルム１０として使用可能なものを入手し、適宜加工して用いられてもよい。支持フィルム１０として使用可能な市販の一般工業用フィルムとしては、例えば、最外層が微粒子を含有する３層構造のＰＥＴフィルムである「ＦＢ−４０」（東レ株式会社製、商品名）が挙げられる。
【００５９】
（感光層）
感光層２０は感光性樹脂組成物からなる層である。感光層２０の厚さＴ（μｍ）と感光層２０の３６５ｎｍにおける吸光度Ａとは、下記式（Ｉ）で表される関係を満足する。
０．００５≦Ａ／Ｔ≦０．０２０ （Ｉ）
【００６０】
感光層２０の吸光度は、ＵＶ分光光度計（株式会社日立製作所製、商品名「Ｕ−３３１０」）を用いて測定することができる。吸光度は、装置の測定側に支持フィルム１０及び感光層２０からなる感光性エレメント１を配置し、リファレンス側に支持フィルム１０のみを配置し、吸光度モードにより５５０〜３００ｎｍまでの連続的に測定することができる。
【００６１】
感光層２０の３６５ｎｍにおける吸光度Ａと、感光層２０の膜さＴ（μｍ）との比であるＡ／Ｔ（以下、「Ｙ値」という）は、０．００５〜０．０２０であり、０．０１０〜０．０２０であることが好ましく、０．０１２〜０．０１８であることがより好ましく、０．０１４〜０．０１６であることが更に好ましい。このＹ値が０．００５未満では、感光層２０にほとんど光吸収されないため、感度が低下し、プリント配線板の生産性が低下する傾向があり、また、回路形成用基板から反射される光の量が多くなるため、ハレーション効果による解像度が低下する傾向がある。一方、Ｙ値が０．０２０を超えると、露光部の上部で吸収される光の量が多くなり、露光部の底部での光硬化反応が十分に進行しないため、現像後のレジスト形状が逆台形になる傾向がある。
【００６２】
感光層２０を構成する感光性樹脂組成物は、（ａ）バインダーポリマー（以下、「（ａ）成分」という）、（ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物（以下、「（ｂ）成分」という）及び（ｃ）光重合開始剤（以下、「（ｃ）成分」という）を含有する。以下、上記各成分について詳細に説明する。
【００６３】
（ａ）成分であるバインダーポリマーとしては、従来の感光性樹脂組成物に用いられているものであれば特に限定はされず、例えば、アクリル樹脂、スチレン樹脂、エポキシ樹脂、アミド樹脂、アミドエポキシ樹脂、アルキド樹脂及びフェノール樹脂が挙げられる。これらの中で、アルカリ現像性の見地からは、アクリル樹脂が好ましい。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【００６４】
バインダーポリマーは、重合性単量体をラジカル重合させることにより製造することができる。重合性単量体としては、スチレン及びビニルトルエン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−クロロスチレン等の重合可能なスチレン誘導体、α−メチルスチレン及びα−メチルスチレン誘導体、アクリルアミド、アクリロニトリル、ビニル−ｎ−ブチルエステル等のビニルアルコールのエステル類、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、α−ブロモ（メタ）アクリル酸、α−クロル（メタ）アクリル酸、β−フリル（メタ）アクリル酸、β−スチリル（メタ）アクリル酸、マレイン酸、マレイン酸無水物、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノイソプロピル等のマレイン酸モノエステル、フマール酸、ケイ皮酸、α−シアノケイ皮酸、イタコン酸、クロトン酸及びプロピオール酸が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【００６５】
バインダーポリマーは、アルカリ現像性の見地から、分子内にカルボキシル基を含有するものが好ましい。カルボキシル基を有するバインダーポリマーは、カルボキシル基を有する重合性単量体とその他の重合性単量体とをラジカル重合させることにより製造することができる。
【００６６】
バインダーポリマーは、現像液耐性と剥離性とのバランスの見地から、下記一般式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（Ｖ）で表される２価の基を構造単位として含むことが好ましい。なお、現像液耐性の向上に起因して、密着性及び解像度が向上する傾向にある。
【００６７】
【化８】
【００６８】
【化９】
【００６９】
【化１０】
【００７０】
式中、Ｒ７、Ｒ８及びＲ１０はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｒ９は炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、水酸基又はハロゲン原子を示し、Ｒ１１は炭素数１〜６のアルキル基を示し、ｐは０〜５の整数を示し、ｐが２以上のとき、複数存在するＲ９は互いに同一でも異なっていてもよい。
【００７１】
上記一般式（ＩＩＩ）で表される構造単位は、（メタ）アクリル酸に基づく構造単位であり、メタクリル酸に基づく構造単位（Ｒ７＝メチル基）であることが好ましい。
【００７２】
上記一般式（ＩＩＩ）で表される構造単位の含有割合は、共重合体である（ａ）バインダーポリマーの固形分全量を基準として、１０〜５０質量％であることが好ましく、１５〜４０質量％であることがより好ましく、２０〜３５質量％であることが更に好ましい。この割合が１０質量％未満では現像液及び剥離液に一般的に使用されているアルカリ水溶液に対する耐性が向上し、現像及び剥離が困難となる傾向があり、この割合が５０質量％を超えると、現像液耐性が悪くなり、密着性及び解像度が低下する傾向がある。
【００７３】
上記一般式（ＩＶ）で表される構造単位は、スチレン（Ｒ８＝水素原子）、スチレン誘導体、α−メチルスチレン（Ｒ８＝メチル基）及び、α−メチルスチレン誘導体に基づく構造単位である。本発明において、「スチレン誘導体」及び「α−メチルスチレン誘導体」とは、スチレン及びα−メチルスチレンのベンゼン環における水素原子が置換基Ｒ９（炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、ＯＨ基、ハロゲン原子）で置換されたものをいう。上記スチレン誘導体としては、例えば、メチルスチレン、エチルスチレン、ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、メトキシスチレン、エトキシスチレン、ヒドロキシスチレン及びクロロスチレンが挙げられ、ｐ−位にＲ９が置換した構造単位であることが、より好ましい。α−メチルスチレン誘導体としては、上記スチレン誘導体において、ビニル基のα−位の水素原子がメチル基で置換されたものが挙げられる。
【００７４】
上記一般式（ＩＶ）で表される構造単位の含有割合は、共重合体である（ａ）バインダーポリマーの固形分全量を基準として、３〜６０質量％であることが好ましく、１０〜５５質量％であることがより好ましく、１５〜５０質量％であることがより好ましく、２０〜４５質量％であることが特に好ましい。この含有量が３質量％未満では密着性及び解像度が低下する傾向があり、６０質量％を超えると剥離片が大きくなり、剥離時間が長くなる傾向があり、更に硬化後のレジストの柔軟性が低下する傾向がある。
【００７５】
上記一般式（Ｖ）で表される構造単位は、（メタ）アクリル酸アルキルエステルに基づく構造単位である。上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、一般式（Ｖ）中、Ｒ１１が炭素数１〜１２のアルキル基であるものが挙げられる。炭素数１〜１２のアルキル基は、直鎖状でも分岐状でもよく、水酸基、エポキシ基、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。かかる（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ｔｅｒｔブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸オクチル及び（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、並びに、これらの構造異性体が挙げられる。解像度の向上及び剥離時間の短縮の観点から、中でも、Ｒ１１は炭素数１〜６のアルキル基であることが好ましく、置換基を有さない炭素数１〜６のアルキル基であることがより好ましく、メチル基であることがさらに好ましい。
【００７６】
上記一般式（Ｖ）で表される構造単位の含有割合は、共重合体である（ａ）バインダーポリマーの固形分全量を基準として、１〜６０質量％であることが好ましく、２〜５５質量％であることがより好ましく、４〜５０質量％であることが更に好ましく、５〜５０質量％であることが特に好ましい。この含有量が１質量％未満ではレジストの剥離性が低下する傾向があり、６０質量％を超えると解像度が低下する傾向がある。
【００７７】
また、バインダーポリマーは、密着性及び解像度と、剥離性とのバランスの見地から、さらに下記一般式（ＶＩ）で表される２価の基を構造単位として含むことができる。
【００７８】
【化１１】
【００７９】
式中、Ｒ１２は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ１３は炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、水酸基又はハロゲン原子を示す。ｑは０〜５の整数を示し、ｑが２以上のとき、複数存在するＲ１３は互いに同一でも異なっていてもよい。
【００８０】
上記一般式（ＶＩ）で表される構造単位は、ベンジル（メタ）アクリレート又はベンジル（メタ）アクリレート誘導体に基づく構造単位である。ベンジル（メタ）アクリレート誘導体としては、例えば、４−メチルベンジル（メタ）アクリレート、４−エチルベンジル（メタ）アクリレート、４−ｔｅｒｔブチルベンジル（メタ）アクリレート、４−メトキシベンジル（メタ）アクリレート、４−エトキシベンジル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシルベンジル（メタ）アクリレート及び４−クロロベンジル（メタ）アクリレートが挙げられる。上記一般式（ＶＩ）で表される構造単位は、現像性、エッチング耐性、めっき耐性及び硬化膜の可とう性を保持する観点から、中でもベンジル（メタ）アクリレート（ｑ＝０のとき）に基づく構造単位であることが好ましい。
【００８１】
上記一般式（ＶＩ）で表される構造単位の含有割合は、共重合体である（ａ）バインダーポリマーの固形分全量を基準として、５〜６０質量％含むことが好ましく、１０〜５５質量％であることがより好ましく、１５〜５０質量％であることが更に好ましく、２０〜４５質量％であることが特に好ましい。この含有量が５質量％未満では密着性が低下する傾向があり、６０質量％を超えると剥離時間が長くなり、更に紫外線硬化後のレジストの柔軟性が低下する傾向がある。
【００８２】
バインダーポリマーの重量平均分子量は、３００００〜１０００００であることが好ましく、３５０００〜８００００であることがより好ましく、４００００〜６００００であることが最も好ましい。この重量平均分子量が３００００未満では、感光層２０が脆くなる傾向があり、１０００００を超えると糸状現像残りが発生し、解像度が低下する傾向がある。なお、上記重量平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」と表記する）により測定し、標準ポリスチレン換算した値を使用したものである。
【００８３】
バインダーポリマーの酸価は、３０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、５０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましい。この酸価が３０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満では現像時間が長くなる傾向があり、３００ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると光硬化したレジストのアルカリ現像液に対する酸性が低下する傾向がある。
【００８４】
これらのバインダーポリマーは、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。２種以上を組み合わせて使用する場合のバインダーポリマーの組み合わせとしては、例えば、異なる共重合成分からなる（異なる繰り返し単位を構成成分として含む）２種類以上のバインダーポリマー、異なる重量平均分子量の２種類以上のバインダーポリマー、異なる分散度を有する２種類以上のバインダーポリマー等が挙げられる。また、特開平１１−３２７１３７号公報に記載のマルチモード分子量分布を有するポリマーを使用することもできる。
【００８５】
なお、現像工程として有機溶剤での現像を行う場合は、カルボキシル基を有する重合性単量体を少量に調製することが好ましい。また、必要に応じてバインダーポリマーは感光性基を有していてもよい。
【００８６】
（ｂ）成分であるエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物としては、炭素数２〜６のオキシアルキレン単位（アルキレングリコールユニット）を分子内に４〜４０有する化合物を含むことが好ましい。（ｂ）成分としてこのような化合物を含有することによって、（ａ）バインダーポリマーとの相溶性を向上することができる。
【００８７】
これらの光重合性化合物の中でも、本発明の効果をより確実に得ることができる傾向があることから、（ｂ）成分であるエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物は、下記一般式（ＩＩ）で表されるビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましい。
【００８８】
【化１２】
【００８９】
上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、メチル基であることが好ましい。Ｙは炭素数２〜６のアルキレン基を示す。ｎ１及びｎ２はそれぞれ正の整数を示し、ｎ１＋ｎ２は２〜４０の整数であり、６〜３４の整数であることが好ましく、８〜３０の整数であることがより好ましく、８〜２８の整数であることがさらに好ましく、８〜２０の整数であることが特に好ましく、８〜１６の整数であることが極めて好ましく、８〜１２の整数であることが最も好ましい。ｎ１＋ｎ２の値が２未満ではバインダーポリマーとの相溶性が低下し、回路形成用基板に感光性エレメント１をラミネートした際に剥がれやすい傾向があり、ｎ１＋ｎ２の値が４０を超えると、親水性が増加し、現像時にレジストが剥がれやすく、耐めっき性が低下する傾向がある。なお、分子内に複数存在するＹは、互いに同一でも異なっていてもよい。
【００９０】
上記炭素数２〜６のアルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基及びへキシレン基が挙げられる。これらの中では、解像度及び耐めっき性を向上させる観点から、エチレン基又はイソプロピレン基が好ましく、エチレン基がより好ましい。
【００９１】
また、上記一般式（ＩＩ）中の芳香環は置換基を有していてもよい。それら置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、炭素数６〜１８のアリール基、フェナシル基、アミノ基、炭素数１〜１０のアルキルアミノ基、炭素数２〜２０のジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボニル基、メルカプト基、炭素数１〜１０のアルキルメルカプト基、アリル基、水酸基、炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、アルキル基の炭素数が１〜１０のカルボキシアルキル基、アルキル基の炭素数が１〜１０のアシル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数２〜１０のＮ−アルキルカルバモイル基又は複素環を含む基、あるいは、これらの置換基で置換されたアリール基が挙げられる。上記置換基は、縮合環を形成していてもよく、また、これらの置換基中の水素原子がハロゲン原子等の上記置換基などに置換されていてもよい。なお、置換基の数がそれぞれ２以上の場合、２以上の置換基はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
【００９２】
上記一般式（ＩＩ）で表される化合物としては、例えば、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリブトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン等のビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
【００９３】
２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシトリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシテトラエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘキサエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘプタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシオクタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシノナエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシウンデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシドデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシトリデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシテトラデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパン及び２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘキサデカエトキシ）フェニル）プロパンが挙げられる。これらのうち、２，２−ビス（４−（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパンが好ましく、ＢＰＥ−２００（新中村化学工業株式会社製、商品名）として商業的に入手可能である。さらに２，２−ビス（４−（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパンがより好ましく、ＢＰＥ−５００（新中村化学工業株式会社製、商品名）として商業的に入手可能である。また、２，２−ビス（４−（メタクリロキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパンは、ＢＰＥ−１３００（新中村化学工業株式会社製、商品名）として商業的に入手可能である。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【００９４】
２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリプロポキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシジプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシトリプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシテトラプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシペンタプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘキサプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘプタプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシオクタプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシノナプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシデカプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシウンデカプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシドデカプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシトリデカプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシテトラデカプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシペンタデカプロポキシ）フェニル）プロパン及び２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘキサデカプロポキシ）フェニル）プロパンが挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用される。
【００９５】
２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシジエトキシオクタプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシテトラエトキシテトラプロポキシ）フェニル）プロパン及び２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘキサエトキシヘキサプロポキシ）フェニル）プロパンが挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用される。
【００９６】
また（ｂ）成分としては、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートも好ましく使用できる。ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、下記一般式（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）又は（ＩＸ）で表される化合物が好ましい。
【００９７】
【化１３】
（式中、Ｒ１４及びＲ１５はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、ＥＯはオキシエチレン基を示し、ＰＯはプロピレンオキシ基を示し、Ｓ１は１〜３０の整数を示し、ｒ１及びｒ２はそれぞれ０〜３０の整数を示し、ｒ１＋ｒ２（平均値）は１〜３０の整数である。）
【００９８】
【化１４】
（式中、Ｒ１６及びＲ１７はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。ＥＯはオキシエチレン基を示し、ＰＯはオキシプロピレン基を示し、ｒ３は１〜３０の整数を示し、ｓ２及びｓ３はそれぞれ０〜３０の整数を示し、ｓ２＋ｓ３（平均値）は１〜３０の整数である。）
【００９９】
【化１５】
（式中、Ｒ１８及びＲ１９はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、メチル基であることが好ましい。ＥＯはオキシエチレン基を示し、ＰＯはオキシプロピレン基を示す。ｒ４は１〜３０の整数を示し、ｓ４は１〜３０の整数を示す。）
【０１００】
上記一般式（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）及び（ＩＸ）において、オキシエチレン単位（ＥＯ）及びオキシプロピレン単位（ＰＯ）が複数存在する場合、複数のオキシエチレン単位及びオキシプロピレン単位はそれぞれ連続してブロック的に存在してもよいし、ランダムに存在してもよい。
【０１０１】
さらに、オキシプロピレン単位がオキシイソプロピレン単位である場合、プロピレン基の２級炭素が酸素原子に結合していてもよく、１級炭素が酸素原子に結合していてもよい。
【０１０２】
上記一般式（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）及び（ＩＸ）におけるオキシエチレン単位の繰り返し数の総数（ｒ１＋ｒ２、ｒ３及びｒ４）は、それぞれ独立に１〜３０の整数であることが好ましく、１〜１０の整数であることがより好ましく、４〜９の整数であることがさらに好ましく、５〜８の整数であることが特に好ましい。この繰り返し数が３０を超えるとテント信頼性及びレジスト形状が悪化する傾向がある。
【０１０３】
上記一般式（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）及び（ＩＸ）におけるオキシプロピレン単位の繰り返し数の総数（ｓ１、ｓ２＋ｓ３及びｓ４）はそれぞれ独立に１〜３０の整数であることが好ましく、５〜２０の整数であることがより好ましく、８〜１６の整数であることがさらに好ましく、１０〜１４の整数であることが特に好ましい。この繰り返し数が３０を超えると解像度が低下し、現像時にスラッジが発生する傾向がある。
【０１０４】
上記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物の具体例としては、例えば、Ｒ１４及びＲ１５がメチル基、ｒ１＋ｒ２＝４（平均値）、ｓ１＝１２（平均値）であるビニル化合物（日立化成工業株式会社製、商品名：ＦＡ−０２３Ｍ）等が挙げられる。
【０１０５】
上記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物の具体例としては、例えば、Ｒ１６及びＲ１７がメチル基、ｒ３＝６（平均値）、ｓ２＋ｓ３＝１２（平均値）であるビニル化合物（日立化成工業株式会社製、商品名：ＦＡ−０２４Ｍ）等が挙げられる。
【０１０６】
上記一般式（ＩＸ）で表される化合物の具体例としては、例えば、Ｒ１８及びＲ１９が水素原子、ｒ４＝１（平均値）、ｓ４＝９（平均値）であるビニル化合物（新中村化学工業株式会社製、サンプル名：ＮＫエステルＨＥＭＡ−９Ｐ）等が挙げられる。
【０１０７】
なお、これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【０１０８】
（ｂ）成分には、密着性、解像性等の現像性及び剥離性を向上させる見地から、更に、エチレン性不飽和結合を一つ有する光重合性化合物を含有させてもよい。エチレン性不飽和結合を一つ有する光重合性化合物としては、下記一般式（Ｘ）で表される化合物を含有させることが好ましい。
【０１０９】
【化１６】
【０１１０】
式（Ｘ）中、Ｒ２０は水素原子又はメチル基であり、水素原子であることが好ましい。Ｚは上述した一般式（ＩＩ）中のＹと同義であり、エチレン基であることが好ましい。ｋは４〜２０の正の整数を示し、現像性の見地から、５〜１８の整数であることが好ましく、６〜１２の整数であることがより好ましく、６〜１０の整数であることがさらに好ましい。
【０１１１】
また、上記一般式（Ｘ）中の芳香環は置換基を有していてもよく、それら置換基としては、上述した一般式（ＩＩ）中の芳香環と同様の置換基が挙げられる。
【０１１２】
上記一般式（Ｘ）で表される化合物としては具体的には、例えば、ノニルフェノキシポリエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシポリエチレンオキシ（メタ）アクリレート及びブチルフェノキシポリプロピレンオキシ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【０１１３】
上記ノニルフェノキシポリエチレンオキシ（メタ）アクリレートとしては、例えば、ノニルフェノキシテトラエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシペンタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシヘキサエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシヘプタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシオクタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシノナエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシデカエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシウンデカエチレンオキシ（メタ）アクリレート及びノニルフェノキシドデカエチレンオキシ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【０１１４】
上記ブチルフェノキシポリエチレンオキシ（メタ）アクリレートとしては、例えば、ブチルフェノキシテトラエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシペンタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシヘキサエチレンオクシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシヘプタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシオクタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシノナエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシデカエチレンオキシ（メタ）アクリレート及びブチルフェノキシウンデカエチレンオキシ（メタ）アクリレートが挙げられる。なお、これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【０１１５】
（ｂ）成分には、テンティング性等を向上する見地から、ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物等のウレタンモノマーを含有させてもよい。
【０１１６】
上記ウレタンモノマーとしては、例えば、β位に水酸基を有する（メタ）アクリルモノマーとイソホロンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、２，４−トルエンジイソシアネート及び１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物との付加反応物、トリス（（メタ）アクリロキシテトラエチレングリコールイソシアネート）ヘキサメチレンイソシアヌレート、ＥＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート並びにＥＯ，ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレートが挙げられる。なお、ＥＯはエチレンオキサイドを示し、ＥＯ変性された化合物はエチレンオキサイド基のブロック構造を有する。また、ＰＯはプロピレンオキサイドを示し、ＰＯ変性された化合物はプロピレンオキサイド基のブロック構造を有する。ＥＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、新中村化学工業株式会社製、商品名「ＵＡ−１１」等が挙げられる。また、ＥＯ，ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、新中村化学工業株式会社製、商品名「ＵＡ−１３」等が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【０１１７】
（ｂ）成分には、上述した以外のエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物を含んでいてもよい。その他の（ｂ）光重合性化合物としては、例えば、多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、グリシジル基含有化合物にα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、フタル酸系化合物、（メタ）アクリル酸アルキルエステル等が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【０１１８】
上記多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物としては、例えば、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ，ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが挙げられる。これらは１種を単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【０１１９】
上記フタル酸系化合物としては、例えば、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β′−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート及びβ−ヒドロキシアルキル−β′−（メタ）アクリロルオキシアルキル−ｏ−フタレート等が挙げられる。これらは１種を単独で、または２種類以上を任意に組み合わせて使用される。
【０１２０】
（ｃ）成分である光重合開始剤は、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含むことが好ましい。２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体としては、例えば、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４′，５′−テトラフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−ブロモフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−クロロフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−フルオロフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−クロロ−ｐ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｏ，ｐ−ジブロモフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−クロロナフチル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ，ｍ−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−クロロナフチル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ，ｍ−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルイミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルイミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メチルメルカプトフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｐ−プロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルイミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−プロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）イミダゾール二量休、２，２′−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−ヨードフェニル）イミダゾール二量休、２，２′−ビス（ｍ−ブロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルイミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｍ，ｐ−ジブロモフェニル）−４，４′，５，５−テトラフェニルイミダゾール二量体、２，２′−ビス（２，６−ジクロロフェニル）−４−５−ジフェニルイミダゾール二畳体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−フルオロフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−ヨードフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−クロロナフチル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−クロロフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−クロロ−ｐ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｏ，ｐ−ジブロモフェニル）イミダゾール二量体、２，２′−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）イミダゾール二量体及び２，２′−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）イミダゾール二量体が挙げられる。これらの中でも、密着性及び感度をより向上させる観点から、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体が好ましい。
【０１２１】
また、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体において、２つの２，４，５−トリアリールイミダゾールのアリール基の置換基は同一で対称な化合物を与えてもよいし、相違して非対称な化合物を与えてもよい。
【０１２２】
なお、（ｃ）成分が、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含む場合の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体の含有割合は、（ｃ）成分の総量を基準として、７０〜１００質量％であることが好ましく、８５〜１００質量％であることがより好ましく、９０〜１００質量％であることがさらに好ましく、９３〜１００質量％であることが特に好ましい。２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体をこの割合で含有することにより、本発明の感光性エレメント１は、より優れた密着性及び感度を有するものとなる。
【０１２３】
また、（ｃ）成分である光重合性化合物は、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体と共に、下記一般式（ＸＩ）又は（ＸＩＩ）で示されるピラゾリン化合物を含むことが好ましい。（ｃ）成分に、これらピラゾリン系化合物を使用することにより、レジストの吸光度を一定の範囲内で維持しつつ、光感度を高くすることが可能となり、プリント配線板の生産性を向上可能な感光性エレメント１になる。
【０１２４】
【化１７】
【０１２５】
【化１８】
【０１２６】
式（ＸＩ）及び（ＸＩＩ）中、Ｒは炭素数１〜３の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、炭素数１〜３の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基又はハロゲン原子を示し、ａ、ｂ及びｃの総和は１〜６である。ａ、ｂ及びｃの総和が２以上のとき、複数存在するＲは互いに同一でも異なっていてもよい。
【０１２７】
ピラゾリン化合物として、具体的には、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−スチリル−５−フェニル−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ビス−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−フェニル）−３−スチリル−５−フェニル−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−スチリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ビス−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−フェニル）−３−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−スチリル）−ピラゾリン、１−（４−ドデシル−フェニル）−３−スチリル−５−フェニル−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−ドデシル−スチリル）−５−（４−ドデシル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−ドデシル−フェニル）−３−（４−ドデシル−スチリル）−５−（４−ドデシル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−フェニル）−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−スチリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−ドデシル−フェニル）−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（４−ドデシル−スチリル）−５−（４−ドデシル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−ドデシル−フェニル）−３−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−スチリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−フェニル）−３−（４−ドデシル−スチリル）−５−（４−ドデシル−フェニル）−ピラゾリン、１−（２，４−ジブチル−フェニル）−３−（４−ドデシル−スチリル）−５−（４−ドデシル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−５−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−５−（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−５−（２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（２，６−ジ−ｎ−ブチル−スチリル）−５−（２，６−ジ−ｎ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−（３，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−スチリル−５−フェニル−ピラゾリン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−スチリル−５−フェニル−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−５−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン及び１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−５−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリンが挙げられる。
【０１２８】
また、ピラゾリン化合物として、１−（４−メトキシフェニル）−３−スチリル−５−フェニル−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−メトキシスチリル）−５−（４−メトキシフェニル）−ピラゾリン、１，５−ビス−（４−メトキシフェニル）−３−（４−メトキシスチリル）−ピラゾリン、１−（４−イソプロピルフェニル）−３−スチリル−５−フェニル−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−イソプロピルスチリル）−５−（４−イソプロピルフェニル）−ピラゾリン、１，５−ビス−（４−イソプロピルフェニル）−３−（４−イソプロピルスチリル）−ピラゾリン、１−（４−メトキシフェニル）−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（４−メトキシスチリル）−５−（４−メトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−イソプロピル−フェニル）−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（４−イソプロピル−スチリル）−５−（４−イソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−メトキシフェニル）−３−（４−イソプロピルスチリル）−５−（４−イソプロピルフェニル）−ピラゾリン、１−（４−イソプロピル−フェニル）−３−（４−メトキシスチリル）−５−（４−メトキシフェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（３，５−ジメトキシスチリル）−５−（３，５−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（３，４−ジメトキシスチリル）−５−（３，４−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（２，６−ジメトキシスチリル）−５−（２，６−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（２，５−ジメトキシスチリル）−５−（２，５−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（２，３−ジメトキシスチリル）−５−（２，３−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（２，４−ジメトキシスチリル）−５−（２，４−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−メトキシフェニル）−３−（３，５−ジメトキシスチリル）−５−（３，５−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−メトキシフェニル）−３−（３，４−ジメトキシスチリル）−５−（３，４−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−メトキシフェニル）−３−（２，６−ジメトキシスチリル）−５−（２，６−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−メトキシフェニル）−３−（２，５−ジメトキシスチリル）−５−（２，５−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−メトキシフェニル）−３−（２，３−ジメトキシスチリル）−５−（２，３−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−メトキシフェニル）−３−（２，４−ジメトキシスチリル）−５−（２，４−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（３，５−ジメトキシスチリル）−５−（３，５−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（３，４−ジメトキシスチリル）−５−（３，４−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（２，６−ジメトキシスチリル）−５−（２，６−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（２，５−ジメトキシスチリル）−５−（２，５−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（２，３−ジメトキシスチリル）−５−（２，３−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−（２，４−ジメトキシスチリル）−５−（２，４−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−イソプロピル−フェニル）−３−（３，５−ジメトキシスチリル）−５−（３，５−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−イソプロピル−フェニル）−３−（３，４−ジメトキシスチリル）−５−（３，４−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−イソプロピル−フェニル）−３−（２，６−ジメトキシスチリル）−５−（２，６−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−イソプロピル−フェニル）−３−（２，５−ジメトキシスチリル）−５−（２，５−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−（４−イソプロピル−フェニル）−３−（２，３−ジメトキシスチリル）−５−（２，３−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン及び１−（４−イソプロピル−フェニル）−３−（２，４−ジメトキシスチリル）−５−（２，４−ジメトキシフェニル）−ピラゾリンが挙げられる。
【０１２９】
さらに、ピラゾリン化合物として、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３，５−ジフェニル−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−イソプロピル−フェニル）−３，５−ジフェニル−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（４−イソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（４−イソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−メトキシ−フェニル）−３，５−ジフェニル−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（４−メトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（４−メトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−５−フェニル−ピラゾリン、１，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３−フェニル−ピラゾリン、１−フェニル−３，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３，５−トリ（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ビス（４−イソプロピル−フェニル）−５−フェニル−ピラゾリン、１，５−ビス（４−イソプロピル−フェニル）−３−フェニル−ピラゾリン、１−フェニル−３，５−ビス（４−イソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，３，５−トリ（４−イソプロピル−フェニル）−ピラゾリン１，３−ビス（４−メトキシ−フェニル）−５−フェニル−ピラゾリン、１，５−ビス（４−メトキシ−フェニル）−３−フェニル−ピラゾリン、１−フェニル−３，５−ビス（４−メトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１，３，５−トリ（４−メトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−メトキシ−フェニル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−５−（４−メトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−イソプロピル−フェニル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−５−（４−イソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−メトキシ−フェニル）−５−（４−イソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−イソプロピル−フェニル）−５−（４−メトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−３、５−ジフェニル−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（３，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（２，３−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（３，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，３−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（３，５−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（３，４−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（２，６−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（２，５−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（２，４−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（２，３−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（３，５−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（３，４−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，６−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，５−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，４−ジイソプロピルル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，３−ジイソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（３，５−ジメトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（３，４−ジメトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，６−ジメトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，５−ジメトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（２，４−ジメトキシ−フェニル）−ピラゾリン及び１，５−ジフェニル−３−（２，３−ジメトキシ−フェニル）−ピラゾリンが挙げられる。
【０１３０】
これらのピラゾリン化合物は、市販品として日本化学工業所から入手可能であり、また、特許第２９３１６９３号公報、特許第２７５７５２８号公報、特許第２９７２３７３号公報、特許第３２１５７１８号公報、特許第３３１２７５６号公報等に記載の方法で合成することができる。
【０１３１】
（ｃ）成分が、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体と共に、下記一般式（ＸＩ）又は（ＸＩＩ）で示されるピラゾリン化合物を含む場合、その含有量は（ｃ）成分の総量を基準として、０．５〜６．０質量％であることが好ましく、１．０〜５．０質量％であることがより好ましく、１．０〜４．０質量％であることが更に好ましい。
【０１３２】
また、（ｃ）成分である光重合開始剤としては、上記２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体及びピラゾリン化合物の他に、その他の光重合開始剤を用いてもよい。その他の光重合性化合物としては、例えば、芳香族ケトン類、ｐ−アミノフェニルケトン類、キノン類、ベンゾインエーテル化合物、ベンゾイン化合物、ベンジル誘導体、アクリジン誘導体、クマリン系化合物、オキシムエステル類、Ｎ−アリール−α−アミノ酸化合物、脂肪族多官能チオール化合物、アシルホスフィンオキサイド類、チオキサントン類、３級アミン化合物類等が挙げられ、これら化合物を組み合わせて使用してもよい。
【０１３３】
上記芳香族ケトン類としては、例えば、アセトフェノン、ベンゾフェノン、メチルベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパノン−１及び４，４′−ジクロロベンゾフェノンが挙げられる。
【０１３４】
上記ｐ−アミノフェニルケトン類としては、例えば、アミノベンゾフェノン、ブチルアミノアセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、α，α−ジメトキシ−α−モルホリノ−メチルチオフェニルアセトフェノン、ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４′−ビス（エチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４′−ビス（ジブチルアミノ）ベンゾフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、４，４′−ジアミノベンゾフェノン及び２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノンが挙げられる。
【０１３５】
上記キノン類としては、例えば、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−クロロアントラキノン、３−クロロ−２−メチルアントラキノン、９，１０−フェナンタラキノン、１，２−ナフトキノン、１，４−ナフトキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、１，４−ジメチルアントラキノン、２，３−ジメチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン及び２−アミノアントラキノンが挙げられる。
【０１３６】
上記ベンゾインエーテル化合物としては、例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等が挙げられる。
【０１３７】
上記ベンゾイン化合物としては、例えば、ベンゾイン、メチルベンゾイン及びエチルベンゾインが挙げられる。
【０１３８】
上記ベンジル誘導体としては、例えば、ベンジルメチルケタール、ベンジルジエチルケタール、ベンジルジプロピンケタール及びベンジルジフェニルケタールが挙げられる。
【０１３９】
上記アクリジン誘導体としては、例えば、１，２−ビス（９−アクリジニル）エタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロパン、１，４−ビス（９−アクリジニル）ブタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，６−ビス（９−アクリジニル）ヘキサン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，８−ビス（９−アクリジニル）オクタン、１，９−ビス（９−アクリジニル）ノナン、１，１０−ビス（９−アクリジニル）デカン、１，１１−ビス（９−アクリジニル）ウンデカン、１，１２−ビス（９−アクリジニル）ドデカン等のビス（９−アクリジニル）アルカン、１，３−ビス（９−アクリジニル）−２−オキサプロパン、１，３−ビス（９−アクリジニル）−２−チアプロパン、１，５−ビス（９−アクリジニル）−３−チアペンタン、９−ピリジルアクリジン、９−ピラジニルアクリジン、９−モノペンチルアミノアクリジン、９−フェニルアクリジン、９−（ｐ−メチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−エチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ｎ−プロピルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ｎ−ブチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−メトキシフェニル）アクリジン、９−（ｐ−エトキシフェニル）アクリジン、９−（ｐ−アセチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）アクリジン、９−（ｐ−シアノフェニル）アクリジン、９−（ｐ−クロロフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ブロモフェニル）アクリジン、９−（ｍ−メチルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ｎ−プロピルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ｎ−ブチルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−メトキシフェニル）アクリジン、９−（ｍ−エトキシフェニル）アクリジン、９−（ｍ−アセチルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ジメチルアミノフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ジエチルアミノフェニル）アクリジン、９−（ｍ−シアノフェニル）アクリジン、９−（ｍ−クロロフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ブロモフェニル）アクリジン、９−シアノエチルアクリジン、９−ヒドロキシエチルアクリジン、９−クロロエチルアクリジン、９−ｎ−プロポキシアクリジン及び９−クロロエトキシアクリジンが挙げられる。
【０１４０】
上記クマリン系化合物としては、例えば、７−アミノ−４−メチルクマリン、７−ジメチルアミノ−４−メチルクマリン、７−ジエチルアミノ−４−メチルクマリン、７−メチルアミノ−４−メチルクマリン、７−エチルアミノ−４−メチルクマリン、７−ジメチルアミノシクロペンタ［ｃ］クマリン、７−アミノシクロペンタ［ｃ］クマリン、７−ジエチルアミノシクロペンタ［ｃ］クマリン、４，６−ジメチル−７−エチルアミノクマリン、４，６−ジエチル−７−エチルアミノクマリン、４，６−ジメチル−７−ジエチルアミノクマリン、４，６−ジメチル−７−ジメチルアミノクマリン、４，６−ジエチル−７−エチルアミノクマリン、４，６−ジエチル−７−ジメチルアミノクマリン、２，３，６，７，１０，１１−ヘキサンヒドロ−１Ｈ，５Ｈ−シクロペンタ［３，４］［１］ベンゾピラノ−［６，７，８−ｉｊ］キノリジン１２（９Ｈ）−オン、７−ジエチルアミノ−５′，７′−ジメトキシ−３，３′−カルボニルビスクマリン、３，３′−カルボニルビス［７−（ジエチルアミノ）クマリン］及び７−ジエチルアミノ−３−チエノキシルクマリンが挙げられる。
【０１４１】
上記オキシムエステル類としては、例えば、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−ｏ−ベンゾイルオキシム及び１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシムが挙げられる。
【０１４２】
上記Ｎ−アリール−α−アミノ酸化合物としては、例えば、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−（ｎ−ブチル）−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−（メトキシエチル）−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアラニン、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアラニン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−フェニルアラニン、Ｎ−（ｎ−ブチル）−Ｎ−フェニルアラニン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルバリン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルロイシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、Ｎ−（ｎ−ブチル）−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）グリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）グリシン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−プロモフェニル）グリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−プロモフェニル）グリシン、Ｎ−（ｎ−ブチル）−Ｎ−（ｐ−プロモフェニル）グリシン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニルグリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−ヨードフェニル）グリシン、Ｎ−（ｐ−ブロモフェニル）グリシン、Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）グリシン及びＮ−（ｏ−クロロフェニル）グリシンが挙げられる。
【０１４３】
上記脂肪族多官能チオール化合物としては、例えば、ヘキサンチオール、デカンチオール、１，４−ジメチルメルカプトベンゼン、ブタンジオールビスチオプロピオネート、ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、トリスヒドロキシエチルトリスチオプロピオネート、及びその他の多価ヒドロキシ化合物のチオグリコレート、チオプロピオネートが挙げられる。
【０１４４】
上記アシルホスフィンオキサイド類としては、例えば、（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−ペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド及び２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドが挙げられる。
【０１４５】
上記チオキサントン類としては、例えば、チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２−フルオロチオキサントン、４−フルオロチオキサントン、２−クロロチオキサントン、４−クロロチオキサントン及び１−クロロ−４−プロポキシチオキサントンが挙げられる。
【０１４６】
その他の光重合開始剤としては、例えば、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネイト、２，３−ジオキソ−３−フェニルプロピオン酸エチル−２−（ｏ−ベンゾイルカルボニル）−オキシム、ｐ−ニトロジフェニル、ｍ−ニトロアニリン、ｐ−ニトロアニリン及び２，６−ジニトロアニリンが挙げられる。また、ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン系化合物と３級アミン化合物とを組み合わせてもよい。
【０１４７】
上記３級アミン化合物としては、例えば、ジメチルアミノ安息香酸、ジエチルアミノ安息香酸及びジイソプロピルアミノ安息香酸が挙げられる。
【０１４８】
（ｃ）光重合開始剤としては、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体又はピラゾリン化合物の他に、上記芳香族ケトン類を含有することが好ましく、中でもＮ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）を含有することが好ましい。
【０１４９】
（ａ）成分であるバインダーポリマーの配合量は、（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００質量部を基準として、４０〜７０質量部であることが好ましく、４５〜６５質量部であることがより好ましく、５０〜６０質量部であることがさらに好ましい。この配合量が４０質量部未満では光硬化物が脆くなる傾向にあり、７０質量部を超えると、解像度及び光感度が不十分となる傾向にある。
【０１５０】
（ｂ）成分であるエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物の配合量は、（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００質量部を基準として、３０〜６０質量部であることが好ましく、３５〜５５質量部であることがより好ましく、４０〜５０質量部であることがさらに好ましい。この配合量が３０質量部未満では、解像度及び光感度が不十分となる傾向があり、６０質量部を超えると光硬化物が脆くなる傾向がある。
【０１５１】
（ｃ）成分である光重合開始剤の配合量は、（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．１〜２０質量部であることが好ましく、０．２〜１０質量部であることがより好ましく、０．５〜５質量部であることが特に好ましい。この配合量が０．１質量部未満では光感度が不十分となる傾向があり、２０質量部を超えると、露光の際に感光性樹脂組成物の表面での光吸収が増大して内部の光硬化が不十分となる傾向がある。
【０１５２】
また、感光性樹脂組成物には、必要に応じて、分子内に少なくとも１つのカチオン重合可能な環状エーテル基を有する光重合性化合物（オキセタン化合物等）、カチオン重合開始剤、マラカイトグリーン等の染料、トリブロモフェニルスルホン、ロイコクリスタルバイオレット等の光発色剤、熱発色防止剤、ｐ−トルエンスルホンアミド等の可塑剤、顔料、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、禁止剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、イメージング剤、熱架橋剤等の添加剤を含有させてもよい。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用される。これらの添加剤は、本発明の目的を阻害しない限りにおいて、（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００質量部を基準にしてそれぞれ０．０００１〜２０質量部程度含有してもよい。
【０１５３】
感光性樹脂組成物は、必要に応じて、メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等の溶剤又はこれらの混合溶剤に溶解して、固形分３０〜６０質量％程度の溶液として調製することができる。
【０１５４】
本発明の感光性エレメント１における感光層２０は、上述の感光性樹脂組成物を支持フィルム１０上に塗布し、溶剤を除去することにより形成することができる。ここで、塗布方法としては、例えば、ロールコート、コンマコート、グラビアコート、エアーナイフコート、ダイコート、バーコート等の公知の方法を採用することができる。また、溶剤の除去は、例えば、７０〜１５０℃の温度で５〜３０分間程度処理することで行うことができる。なお、感光層２０中の残存有機溶剤量は、後の工程での有機溶剤の拡散を防止する点から、２質量％以下とすることが好ましい。
【０１５５】
このようにして形成される感光層２０の厚さ（Ｔ）は、特に限定されないが、現在幅広く使用されている感光層２０の乾燥後の厚さは２〜３０μｍであり、５〜２５μｍであることが好ましく、７〜２０μｍであることがより好ましく、１０〜２０μｍであることが更に好ましい。この厚さが２μｍ未満であると、回路形成用基板に感光層２０を積層する際に不具合が発生しやすくなる、又はテンティング性が劣り、現像及びエッチング工程中でレジストが破損し、オープン不良の一因になる可能性があり、プリント配線板の製造歩留りが低下する傾向がある。一方、厚さが３０μｍを超えると、感光層２０の解像度が悪化する、又はエッチング液の液まわりが悪化するため、サイドエッチングの影響が大きくなり、高密度なプリント配線板の製造が困難になる傾向がある。
【０１５６】
感光層２０の３６５ｎｍにおける吸光度（ａ）は、０．０１〜０．６０であることが好ましく、０．０５〜０．５５であることがより好ましく、０．１０〜０．５０であることが更に好ましい。吸光度が０．０１未満では十分な感度を得ることができずレジストパターンの形成が困難となり、０．６０を超えると露光部の上部で吸収される光の量が多くなり、露光部の底部での光硬化反応が十分に進行しないため、現像後のレジスト形状が逆台形になる傾向がある。
【０１５７】
また、感光性エレメント１は、感光層２０の支持フィルム１０に接する第１の主面１２とは反対側の主面上に酸素透過率が、５×１０−２ｍ３／ｍ２・日・ＭＰａ以下である保護フィルムを備える。酸素透過率が５×１０−２ｍ３／ｍ２・日・ＭＰａを超えると、感光層２０に含有する酸素量が増加するため、露光時において酸素阻害の影響が大きくなり、光感度が低下する傾向がある。また保護フィルムとしては、感光層２０と支持フィルム１０との間の接着力よりも、感光層２０と保護フィルムとの間の接着力が小さくなるようなフィルムを用いることが好ましく、また、低フィッシュアイのフィルムを用いることが好ましい。具体的には、ポリプロピレンフィルム及びポリプロピレンテレフタレートフィルムが挙げられる。感光層２０からの剥離性の見地から、ポリプロピレンフィルムが好ましい。保護フィルムの厚さは、用途により異なるが１〜１００μｍ程度であることが好ましい。
【０１５８】
感光性エレメント１は、支持フィルム１０、感光層２０及び保護フィルムの他に、クッション層、接着層、光吸収層、ガスバリア層等の中間層又は保護層を更に備えていてもよい。
【０１５９】
本実施形態の感光性エレメント１は、例えば、そのままの状態で又は感光層２０上に保護フィルムを更に積層したものを、円筒状の巻芯に巻き取った状態で貯蔵されてもよい。この際、支持フィルム１０が再外層になるようにロール状に巻き取られることが好ましい。また、ロール状に巻き取った感光性エレメント１の端面には、端面保護の見地から端面セパレータを設置することが好ましく、耐エッジフュージョンの見地から防湿端面セパレータを設置することが好ましい。また、梱包方法として、透湿性の低いブラックシートに包んで包装することが好ましい。
【０１６０】
巻芯の材料としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂及びＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体）等のプラスチックが挙げられる。
【０１６１】
（レジストパターンの形成方法）
本実施形態のレジストパターンの形成方法は、上記感光性エレメント１を、感光層２０、支持フィルム１０の順に回路形成用基板上に積層する積層工程と、活性光線を、上記支持フィルム１０を通して感光層２０の所定部分に照射して、感光層２０に光硬化部を形成させる露光工程と、上記光硬化部以外の感光層２０の部分を除去する現像工程と、を含む方法である。
【０１６２】
積層工程において、感光層２０を回路形成用基板上に積層する方法としては、感光層２０上に保護フィルムが存在している場合には、該保護フィルムを除去した後、感光層２０を７０〜１３０℃程度に加熱しながら回路形成用基板に０．１〜１ＭＰａ程度の圧力で圧着することにより積層する方法等が挙げられる。この積層工程において、減圧下で積層することも可能である。なお、回路形成用基板の積層される表面は通常金属面であるが、特に制限されない。また、積層性を更に向上させるために、回路形成用基板の予熱処理を行ってもよい。
【０１６３】
次に、上記積層工程で積層が完了した感光層２０に対して、ネガ又はポジマスクパターンを有するフォトマスクを支持フィルム１０の第２の主面１４に位置合わせをして密着させる。その後、露光工程では、感光層２０に対して、支持フィルム１０を通して活性光線が画像状に照射し、感光層２０に光硬化部が形成される。上記活性光線の光源としては、公知の光源、例えば、カーボンアーク灯、水銀蒸気アーク灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等の紫外線や可視光等を有効に放射するものが用いられる。なお、レーザー直接描画露光法を用いて、感光層２０に光硬化部を形成することもできる。
【０１６４】
次いで、上記露光工程後、フォトマスクを支持フィルム１０から剥離する。更に、支持フィルム１０を感光層２０から剥離除去する。次に露光工程において、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤等の現像液によるウエット現像、ドライ現像等で感光層２０の未露光部（未光硬化部）を除去して現像し、レジストパターンを製造することができる。
【０１６５】
アルカリ性水溶液としては、例えば、０．１〜５質量％炭酸ナトリウムの希薄溶液、０．１〜５質量％炭酸カリウムの希薄溶液、０．１〜５質量％水酸化ナトリウムの希薄溶液が挙げられる。上記アルカリ性水溶液のｐＨは９〜１１の範囲とすることが好ましく、その温度は、感光層２０の現像性に合わせて調節される。また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、有機溶剤等を混入させてもよい。また、現像の方式としては、例えば、ディップ方式、スプレー方式、ブラッシング及びスラッピングが挙げられる。
【０１６６】
また、現像工程後の処理として、必要に応じて６０〜２５０℃程度の加熱又は０．２〜１０Ｊ／ｃｍ２程度の露光量にて露光を行うことにより、レジストパターンを更に硬化させてもよい。
【０１６７】
（プリント配線板の製造方法）
本実施形態のプリント配線板の製造方法は、上記レジストパターンの形成方法によりレジストパターンの形成された回路形成用基板に対し、エッチング又はめっきすることによって行われる。ここで、回路形成用基板のエッチング又はめっきは、現像されたレジストパターンをマスクとして、回路形成用基板の表面を公知の方法によりエッチング又はめっきすることによって行われる。
【０１６８】
エッチングに用いられるエッチング液としては、例えば、塩化第二銅溶液、塩化第二鉄溶液、アルカリエッチング溶液等を用いることができる。
【０１６９】
めっきとしては、例えば、銅めっき、はんだめっき、ニッケルめっき、金めっき等が挙げられる。
【０１７０】
エッチング又はめっきを行った後、レジストパターンは、例えば、現像に用いたアルカリ性水溶液より更に強アルカリ性の水溶液で剥離することができる。この強アルカリ性の水溶液としては、例えば、１〜１０質量％水酸化ナトリウム水溶液、１〜１０質量％水酸化カリウム水溶液等が用いられる。また、剥離方式としては、例えば、浸漬方式、スプレー方式等が挙げられる。なお、レジストパターンが形成されたプリント配線板は、多層プリント配線板でもよく、小径スルーホールを有していてもよい。
【０１７１】
また、めっきが絶縁層と絶縁層上に形成された導体層とを備えた回路形成用基板に対して行われた場合には、パターン以外の導体層を除去する必要がある。この除去方法としては、例えば、レジストパターンを剥離した後に軽くエッチングする方法や、上記めっきに続いてはんだめっき等を行い、その後レジストパターンを剥離することで配線部分をはんだでマスクし、次いで導体層のみをエッチング可能なエッチング液を用いて処理する方法が挙げられる。
【０１７２】
（半導体パッケージ基板の製造方法）
本発明の感光性エレメント１は、リジット基板と、そのリジット基板上に形成された絶縁膜とを備える半導体パッケージ基板に用いることもできる。この場合、感光層２０の光硬化部を絶縁膜として用いればよい。感光層２０の光硬化部を、例えば半導体パッケージ用のソルダーレジストとして用いる場合は、上述のレジストパターンの形成方法における現像終了後、はんだ耐熱性、耐薬品性等を向上させる目的で、高圧水銀ランプによる紫外線照射や加熱を行うことが好ましい。紫外線を照射させる場合は必要に応じてその照射量を調整することができ、例えば０．２〜１０Ｊ／ｃｍ２程度の照射量で照射を行うこともできる。また、レジストパターンを加熱する場合は、１００〜１７０℃程度の範囲で１５〜９０分程行われることが好ましい。さらに紫外線照射と加熱とを同時に行うこともでき、いずれか一方を実施した後、他方を実施することもできる。紫外線の照射と加熱とを同時に行う場合、はんだ耐熱性、耐薬品性等を効果的に付与する観点から、６０〜１５０℃に加熱することがより好ましい。
【０１７３】
このソルダーレジストは、半導体パッケージ基板にはんだ付けを施した後の配線の保護膜を兼ね、引張強度や伸び率等の物理特性及び耐熱衝撃性に優れているので、半導体パッケージ用の永久マスクとして有効である。
【０１７４】
このようにしてレジストパターンを備えた半導体パッケージ基板は、その後、半導体素子などの実装（例えば、ワイヤーボンディング、はんだ接続）がなされ、そして、パソコン等の電子機器へ装着される。
【０１７５】
以上、本発明をその実施形態に基づいて詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形態様が可能である。
【実施例】
【０１７６】
以下に、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１７７】
（感光性樹脂組成物の基本溶液の作製）
まず、表１に示す組成のバインダーポリマーを下記合成例にしたがって合成した。
【０１７８】
（合成例１；ａ―１成分）
撹拌機、還流冷却器、温度計、滴下ロート及び窒素ガス導入管を備えたフラスコに、質量比６：４であるトルエン及びメチルセロソルブの配合物４２０ｇを加え、窒素ガスを吹き込みながら撹拌して、８０℃まで加熱した。一方、共重合単量体としてメタクリル酸１３２ｇ、メタクリル酸メチル２４ｇ、スチレン２２２ｇ及びメタクリル酸ベンジル２２２ｇと、アゾビスイソブチロニトリル５．４ｇとを混合した溶液（以下、「溶液ａ」という）を用意し、８０℃に加熱された質量比６：４であるトルエン及びメチルセロソルブの上記配合物に溶液ａを４時間かけて滴下した。その後、質量比６：４であるトルエン及びメチルセロソルブの配合物４０ｇを用い滴下ロートを洗浄し、フラスコ内に加え、８０℃で撹拌しながら２時間保温した。さらに、質量比６：４であるメチルセロソルブ及びトルエンの配合物４０ｇにアゾビスイソブチロニトリル１．０ｇを溶解した溶液を、３０分かけてフラスコ内に滴下した。そして、質量比６：４であるトルエン及びメチルセロソルブの配合物１２０ｇを用い滴下ロートを洗浄し、フラスコ内に加えた。滴下後の溶液を撹拌しながら８０℃で３時間保温した後、３０分間かけて９０℃に加温した。９０℃で２時間保温した後、冷却して（ａ）成分であるバインダーポリマー溶液を得た。このバインダーポリマー溶液に、トルエンを加えて不揮発成分濃度（固形分濃度）が４０質量％になるように調製した。バインダーポリマーの重量平均分子量は、バインダーポリマーの重量平均分子量は、４５０００であった。なお、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより算出した。ＧＰＣの条件を以下に示す。また、バインダーポリマーの酸価を下記測定手順に従い測定した結果、酸価は１０７ｍｇＫＯＨであった。
【０１７９】
（合成例２；ａ―２成分）
共重合単量体としてメタクリル酸１５０ｇ、メタクリル酸メチル３００ｇ及びスチレン１５０ｇと、アゾビスイソブチロニトリル５．４ｇとを混合した溶液（以下、「溶液ｂ」という）を用意した以外は、合成例１と同様の操作をして（ａ）成分であるバインダーポリマー溶液を得た。このバインダーポリマー溶液に、トルエンを加えて不揮発成分濃度（固形分濃度）が４０質量％になるように調製した。バインダーポリマーの重量平均分子量は、バインダーポリマーの重量平均分子量は、４５０００であった。また、バインダーポリマーの酸価は１２１ｍｇＫＯＨであった。
【０１８０】
（ＧＰＣ条件）
ポンプ：日立 Ｌ−６０００型（株式会社日立製作所製、商品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４２０＋Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４３０＋Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４４０（計３本）（以上、日立化成工業株式会社製、商品名）
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：日立 Ｌ−３３００型ＲＩ（株式会社日立製作所製、商品名）
【０１８１】
（酸価測定）
三角フラスコに合成したバインダーポリマーを秤量し、混合溶剤（質量比：トルエン／メタノール＝７０／３０）を加え溶解後、指示薬としてフェノールフタレイン溶液を添加し、Ｎ／１０水酸化カリウムアルコール溶液で滴定し、酸価を測定した。
【０１８２】
【表１】
【０１８３】
下記表２及び３に示す配合量（ｇ）で各成分を配合して、実施例１〜９及び比較例１〜６の感光性樹脂組成物の溶液を調製した。なお、（ａ）成分の配合量のうち、（）内の数値は固形分量を示す。
【０１８４】
【表２】
【０１８５】
【表３】
【０１８６】
ｂ−１：ＦＡ−３２１Ｍ（ＥＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート、日立化成工業株式会社製、商品名）
ｂ−２：ＢＰＥ−２００（ＥＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート、新中村工業株式会社製、商品名）
ｂ−３：ＦＡ−ＭＥＣＨ（γ−クロロ−２−ヒロドキシプロピル−β′−メタクリロイルオキシエリル−ｏ−フタレート、日立化成工業株式会社製、商品名）
ｃ−１：２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体
ｃ−２：１−フェニル−３−（４−メトキシスチリル）−５−（４−メトキシフェニル）ピラゾリン
ｃ−３：１−フェニル−３−（４−メトキシフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）ピラゾリン
ｃ−４：１−フェニル−３−フェニル−５−（４−イソプロピルフェニル）ピラゾリン
ｃ−５：Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン
ｃ−６：４−ｔ−ブチルカテコール
【０１８７】
（感光性エレメントの作製）
感光性エレメント１の支持フィルム１０として、下記ＰＥＴフィルム及び保護フィルム用意した。各ＰＥＴフィルムに含まれる５μｍ以上の粒子等の個数及びヘーズ及び各保護フィルムの酸素透過率を測定した結果を表４及び５に示す。
＜支持フィルム＞
微粒子を含有する層を表裏に有する３層構造の二軸配向ＰＥＴフィルム：ＦＢ４０（東レ株式会社製、商品名）
微粒子が片側にのみ存在する２層構造の二軸配向ＰＥＴフィルム：Ａ−１５１７（東洋紡績株式会社製、商品名）
微粒子を含有する層を表裏に有する３層構造の二軸配向ＰＥＴフィルム：ＨＴＲ−０２（帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名）
【０１８８】
上記粒子等の個数は、１ｍｍ２単位に存在する５μｍ以上の粒子等の数を偏光顕微鏡を用いて測定した値である。その際のｎ数は５とした。また、ヘーズは、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠して測定した値である。これらの支持フィルム１０の厚さは、いずれも１６μｍであった。
【０１８９】
＜保護フィルム＞
ポリエチレンテレフタレートフィルム：ＦＢ４０（東レ株式会社製、商品名、厚さ１６μｍ）
ポリプロピレンフィルム：Ｅ−２００Ｃ（王子製紙株式会社製、商品名、厚さ２０μｍ）
ポリエチレンフィルム：ＮＦ−１５Ａ（タマポリ株式会社製、商品名、厚さ２８μｍ）
【０１９０】
上記保護フィルムの酸素透過率は、ＪＩＳ Ｚ １７０２に準拠して測定した値である。
【０１９１】
次に、それぞれのＰＥＴフィルム上に上記感光性樹脂組成物の溶液を厚さが均一になるようにして塗布し、１００℃の熱風対流乾燥機で５分間乾燥して溶媒を除去した。乾燥後、それぞれの保護フィルムで感光層２０を被覆して感光性エレメント１を得た。なお、乾燥後の感光層２０の厚さが、表４及び表５に示す厚さＴとなるように感光性樹脂組成物の溶液の塗布量を調整した。
【０１９２】
（積層体の作製）
銅箔（厚さ：３５μｍ）を両面に積層したガラスエポキシ材である銅張積層板（日立化成工業株式会社製、商品名「ＭＬＣ−Ｅ−６７９」）の銅表面を、表面粗化処理液「メックエッチボンド ＣＺ−８１００」（メック株式会社製、商品名）を用い表面処理し、酸洗及び水洗後、空気流で乾燥した。得られた銅張積層板を８０℃に加温し、保護フィルムを剥離しながら、感光層２０が銅表面に接するように感光性エレメント１をラミネートした。こうして、銅張積層板、感光層２０、支持フィルム１０の順に積層された積層体を得た。ラミネートは、１２０℃のヒートロールを用いて、０．４ＭＰａの圧着圧力、１．５ｍ／分のロール速度で行なった。これらの積層体は、以下に示す試験における試験片として用いた。
【０１９３】
（最少現像時間の測定）
上記試験片を１２５ｍｍ×２００ｍｍのサイズにカットし、支持フィルム１０を剥離した後、３０℃の１質量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて、未露光状態の感光層２０をスプレー現像し、未露光部が完全に除去される時間を測定し、最少現像時間とした。測定結果を表４及び表５に示す。
【０１９４】
（光感度測定試験）
試験片の支持フィルム１０上に、ネガとして４１段ステップタブレット（日立化成工業株式会社製）を載置し、高圧水銀灯ランプを有する露光機（株式会社オーク製作所製、商品名「ＥＸＭ−１２０１」）及びｉ線バンドバスフィルターを用いて、現像後のレジスト硬化段数が１１段になる所定の照射エネルギー量となるように感光層２０を露光した。次に、支持フィルム１０を剥離し、３０℃の１質量％炭酸ナトリウム水溶液を最少現像時間の２倍の時間でスプレー現像し、未露光部分を除去して現像を行った。そして、銅張積層板上に形成された光硬化膜のステップタブレットの段数が１１段になっていることを確認し、このときの露光量を各感光層２０の所定の照射エネルギー量とした。結果を表４及び５に示す。
【０１９５】
（解像度測定試験）
解像度を調べるため、４１段ステップタブレットを有するフォトツールと、解像度評価用ネガとしてライン幅／スペース幅が２／２〜３０／３０（単位：μｍ）の配線パターンを有するガラスクロムタイプのフォトツールとを試験片の支持フィルム１０上に密着させ、高圧水銀灯ランプを有する露光機（株式会社オーク製作所製、商品名「ＥＸＭ−１２０１」）及びｉ線バンドパスフィルターを用いて、４１段ステップタブレットの現像後の残存ステップ段数が１１段となる照射エネルギー量で露光を行った。次に、支持フィルム１０を剥離し、３０℃で１質量％炭酸ナトリウム水溶液を最少現像時間の２倍の時間でスプレー現像し、未露光部分を除去して現像を行った。ここで、解像度は、現像処理後に光学顕微鏡を用いてレジストパターンを観察したとき、未露光部を完全に除去することができたライン幅間のスペース幅の最も小さい幅（単位：μｍ）を測定することにより評価した。なお、解像度の評価は数値が小さいほど良好な値である。結果を表４及び５に示す。
【０１９６】
（密着性測定試験）
密着性を調べるため、４１段ステップタブレットを有するフォトツールと、密着性評価用ネガとしてライン幅／スペース幅が２／６〜３０／９０（単位：μｍ）の配線パターンを有するガラスクロムタイプのフォトツールとを試験片の支持フィルム１０上に密着させ、高圧水銀灯ランプを有する露光機（株式会社オーク製作所製、商品名「ＥＸＭ−１２０１」）を用いて、４１段ステップタブレットの現像後の残存ステップ段数が１１．０となる照射エネルギー量で露光を行った。次に、支持フィルム１０を剥離し、３０℃で１質量％炭酸ナトリウム水溶液を最少現像時間の２倍の時間でスプレー現像し、未露光部分を除去して現像を行った。ここで、密着性は、現像処理によって未露光部をきれいに除去することができ、現像処理後に光学顕微鏡を用いてレジストパターンを観察したとき、剥がれ及びよれがなく残ったライン幅のうち最も小さい幅（単位：μｍ）を測定することにより評価した。なお、密着性の評価は数値が小さいほど良好な値である。結果を表４及び５に示す。
【０１９７】
（レジストラインの断面形状評価）
上記解像度測定試験で評価した回路形成用基板において、ライン幅／スペース幅が１０／１０（単位：μｍ）の配線パターンのレジストラインの断面形状を観察した。観察手法として、タングステンを用いてレジストの保護膜を形成した後、集束イオンビーム加工観察装置（株式会社日立製作所製、商品名「ＦＢ−２０００Ａ」、イオン種：Ｇａイオン、加速電圧：３０ｋＶ、観察条件：ビームアパーチャー直径５００μｍ）を用い、レジストパターン中心部のレジスト断面を露出させた。次いで、走査型電子顕微鏡（株式会社日立製作所製、商品名「ＦＥ−ＳＥＭ Ｓ−４７００」）により観察し、レジスト上面とレジスト底面の線幅の差を測定し、以下のように評価した。結果を表４及び５に示す。
Ａ：線幅の差が１．０μｍ未満である。
Ｂ：線幅の差が１．０〜１．５μｍである。
Ｃ：線幅の差が１．５μｍを超える。
【０１９８】
（レジストラインの側面形状評価）
上記解像度測定試験で評価した基板において、レジストラインの側面形状を走査型電子顕微鏡（株式会社日立製作所製、商品名「ＳＵ−１５００」）により観察し、以下のように評価した。結果を表３に示す。
Ａ：滑らかな形状
Ｂ：やや粗い形状
Ｃ：粗い形状
【０１９９】
（レジスト欠損部発生性測定試験）
レジストの微小欠損部発生性を調べるため、４１段ステップタブレットを有するフォトツールと、ライン幅／スペース幅が１０／３０（単位：μｍ）の配線パターンを有するガラスクロムタイプのフォトツールとを試験片の支持フィルム１０上に密着させ、高圧水銀灯ランプを有する露光機及びｉ線バンドパスフィルターを用いて、４１段ステップタブレットの現像後の残存ステップ段数が８．０となる照射エネルギー量で露光を行った。次に、支持フィルム１０を剥離し、３０℃の１質量％炭酸ナトリウム水溶液を最少現像時間の４倍の時間スプレーし、未露光部分を除去した。次いで、顕微鏡を用いて、レジスト欠損部の個数を数えた。ライン長さが１ｍｍでライン本数が１０本を観察単位とし、ｎ数を５とした時の平均値をレジスト微小欠損部発生数とした。その結果を表４、５に示す。
【０２００】
【表４】
【０２０１】
【表５】
【０２０２】
表５に示すように、感光層２０のＹ値（Ａ／Ｔ）が、０．０２０を超える、比較例３及び４は、レジストラインの断面形状にやや問題があり、支持フィルム１０に含まれる粒子等が多数の比較例５及び６は、レジストラインの側面形状に問題があり、また、レジスト欠損部発生数も多いことがわかる。また、保護フィルムの酸素透過率が、５×１０−２ｍ３／ｍ２・日・ＭＰａを超える、比較例１及び比較例２は、照射エネルギー量が、保護フィルムの酸素透過率が、５×１０−２ｍ３／ｍ２・日・ＭＰａ未満の保護フィルムを使用した場合に比較し、光感度が低くなり、生産性が低下する傾向がある。
それに対し、表４の実施例１〜９に示すように、本発明の感光性エレメント１を用いた場合、光感度も高く、密着性及び解像度とも良好であり、レジストの微少な欠損を十分に低減し、断面形状がより矩形に近いレジストパターンを形成可能である。保護フィルムの変更のみで、光感度が向上することは、生産性向上に有効であり、且つ、レジストの組成設計の幅ができ、効果は大きい。
【符号の説明】
【０２０３】
１…感光性エレメント、１０…支持フィルム、１２…第１の主面、１４…第２の主面、２０…感光層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持フィルムと、該支持フィルム上に形成された感光性樹脂組成物に由来する感光層と、保護フィルムを備える感光性エレメントであって、前記支持フィルムのヘーズが、０．０１〜１．５％であり、かつ、該支持フィルムに含まれる直径５μｍ以上の粒子及び直径５μｍ以上の凝集物の総数が５個／ｍｍ２以下であり、前記感光層が、バインダーポリマー、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物及び光重合開始剤を含有し、前記感光層の厚さＴ（μｍ）と前記感光層の３６５ｎｍにおける吸光度Ａとが、下記式（Ｉ）で表される関係を満足し、
０．００５≦Ａ／Ｔ≦０．０２０ （Ｉ）
前記保護フィルムの酸素透過率が、５×１０−２ｍ３／ｍ２・日・ＭＰａ以下である、感光性エレメント。
【請求項２】
感光層の厚さが、２〜３０μｍである、請求項１記載の感光性エレメント。
【請求項３】
光重合開始剤が、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含有する、請求項１又は２記載の感光性エレメント。
【請求項４】
光重合開始剤が、下記一般式（ＸＩ）又は（ＸＩＩ）でそれぞれ表されるピラゾリン化合物を含有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の感光性エレメント。
【化１】
【化２】
［式中、Ｒは炭素数１〜３の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、炭素数１〜３の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基又はハロゲン原子を示し、ａ、ｂ及びｃの総和は１〜６であり、ａ、ｂ及びｃの総和が２以上のとき、複数存在するＲは互いに同一でも異なっていてもよい。］
【請求項５】
一般式（ＸＩ）又は（ＸＩＩ）において、Ｒのうち少なくとも一つがイソプロピル基である、請求項４記載の感光性エレメント。
【請求項６】
一般式（ＸＩ）又は（ＸＩＩ）において、Ｒのうち少なくとも一つがメトキシ基又はエトキシ基である、請求項４記載の感光性エレメント。
【請求項７】
光重合性化合物が、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物を含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の感光性エレメント。
【化３】
［式中、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｙは炭素数２〜６のアルキレン基を示し、ｎ１及びｎ２はそれぞれ独立に正の整数を示し、ｎ１＋ｎ２は、２〜４０であり、ｎ１＋ｎ２が２以上のとき、複数存在するＹは互いに同一でも異なっていてもよい。］
【請求項８】
バインダーポリマーが、下記一般式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（Ｖ）で表される２価の基を有する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の感光性エレメント。
【化４】
【化５】
【化６】
［式中、Ｒ７、Ｒ８及びＲ１０はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｒ９は炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、水酸基又はハロゲン原子を示し、Ｒ１１は炭素数１〜６のアルキル基を示し、ｐは０〜５の整数を示し、ｐが２以上のとき、複数存在するＲ９は互いに同一でも異なっていてもよい。］
【請求項９】
バインダーポリマーが、下記一般式（ＶＩ）で表される２価の基を更に有する、請求項８記載の感光性エレメント。
【化７】
［式中、Ｒ１２は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ１３は炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、水酸基又はハロゲン原子を示し、ｑは０〜５の整数を示し、ｑが２以上のとき、複数存在するＲ１３は互いに同一でも異なっていてもよい。］
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の感光性エレメントを、前記保護フィルムを除去後、前記感光層、前記支持フィルムの順に回路形成用基板上に積層する積層工程と、活性光線を、前記支持フィルムを通して前記感光層の所定部分に照射して、前記感光層に光硬化部を形成させる露光工程と、前記光硬化部以外の前記感光層を除去する現像工程とを含む、レジストパターンの形成方法。
【請求項１１】
請求項１０記載のレジストパターンの形成方法によりレジストパターンが形成された回路形成用基板に対し、エッチング又はめっきを施す、プリント配線板の製造方法。
【請求項１】
支持フィルムと、該支持フィルム上に形成された感光性樹脂組成物に由来する感光層と、保護フィルムを備える感光性エレメントであって、前記支持フィルムのヘーズが、０．０１〜１．５％であり、かつ、該支持フィルムに含まれる直径５μｍ以上の粒子及び直径５μｍ以上の凝集物の総数が５個／ｍｍ２以下であり、前記感光層が、バインダーポリマー、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物及び光重合開始剤を含有し、前記感光層の厚さＴ（μｍ）と前記感光層の３６５ｎｍにおける吸光度Ａとが、下記式（Ｉ）で表される関係を満足し、
０．００５≦Ａ／Ｔ≦０．０２０ （Ｉ）
前記保護フィルムの酸素透過率が、５×１０−２ｍ３／ｍ２・日・ＭＰａ以下である、感光性エレメント。
【請求項２】
感光層の厚さが、２〜３０μｍである、請求項１記載の感光性エレメント。
【請求項３】
光重合開始剤が、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含有する、請求項１又は２記載の感光性エレメント。
【請求項４】
光重合開始剤が、下記一般式（ＸＩ）又は（ＸＩＩ）でそれぞれ表されるピラゾリン化合物を含有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の感光性エレメント。
【化１】
【化２】
［式中、Ｒは炭素数１〜３の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、炭素数１〜３の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基又はハロゲン原子を示し、ａ、ｂ及びｃの総和は１〜６であり、ａ、ｂ及びｃの総和が２以上のとき、複数存在するＲは互いに同一でも異なっていてもよい。］
【請求項５】
一般式（ＸＩ）又は（ＸＩＩ）において、Ｒのうち少なくとも一つがイソプロピル基である、請求項４記載の感光性エレメント。
【請求項６】
一般式（ＸＩ）又は（ＸＩＩ）において、Ｒのうち少なくとも一つがメトキシ基又はエトキシ基である、請求項４記載の感光性エレメント。
【請求項７】
光重合性化合物が、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物を含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の感光性エレメント。
【化３】
［式中、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｙは炭素数２〜６のアルキレン基を示し、ｎ１及びｎ２はそれぞれ独立に正の整数を示し、ｎ１＋ｎ２は、２〜４０であり、ｎ１＋ｎ２が２以上のとき、複数存在するＹは互いに同一でも異なっていてもよい。］
【請求項８】
バインダーポリマーが、下記一般式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（Ｖ）で表される２価の基を有する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の感光性エレメント。
【化４】
【化５】
【化６】
［式中、Ｒ７、Ｒ８及びＲ１０はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｒ９は炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、水酸基又はハロゲン原子を示し、Ｒ１１は炭素数１〜６のアルキル基を示し、ｐは０〜５の整数を示し、ｐが２以上のとき、複数存在するＲ９は互いに同一でも異なっていてもよい。］
【請求項９】
バインダーポリマーが、下記一般式（ＶＩ）で表される２価の基を更に有する、請求項８記載の感光性エレメント。
【化７】
［式中、Ｒ１２は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ１３は炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、水酸基又はハロゲン原子を示し、ｑは０〜５の整数を示し、ｑが２以上のとき、複数存在するＲ１３は互いに同一でも異なっていてもよい。］
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の感光性エレメントを、前記保護フィルムを除去後、前記感光層、前記支持フィルムの順に回路形成用基板上に積層する積層工程と、活性光線を、前記支持フィルムを通して前記感光層の所定部分に照射して、前記感光層に光硬化部を形成させる露光工程と、前記光硬化部以外の前記感光層を除去する現像工程とを含む、レジストパターンの形成方法。
【請求項１１】
請求項１０記載のレジストパターンの形成方法によりレジストパターンが形成された回路形成用基板に対し、エッチング又はめっきを施す、プリント配線板の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２０１２−２３４０９１（Ｐ２０１２−２３４０９１Ａ）
【公開日】平成２４年１１月２９日（２０１２．１１．２９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１０３５３２（Ｐ２０１１−１０３５３２）
【出願日】平成２３年５月６日（２０１１．５．６）
【出願人】（０００００４４５５）日立化成工業株式会社 (4,649)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１１月２９日（２０１２．１１．２９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年５月６日（２０１１．５．６）
【出願人】（０００００４４５５）日立化成工業株式会社 (4,649)
【Ｆターム（参考）】
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