【課題】透明性、耐衝撃性に優れ、かつ表面硬度が高く、耐傷付き性が良好な芳香族ポリカーボネート樹脂組成物及びそれを成形してなる成形体を提供する。
【解決手段】組成物に、質量平均分子量が１５，０００〜４０，０００の芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ）４０〜９５質量％、芳香族（メタ）アクリレート単位（ｂ１）とメチルメタクリレート単位（ｂ２）の質量％比（ｂ１／ｂ２）が５〜８０／２０〜９５で、質量平均分子量が５，０００〜３０，０００である（メタ）アクリレート共重合体（Ｂ）５〜６０質量％からなる（Ａ）と（Ｂ）の樹脂成分の合計１００質量部と、リン系安定剤（Ｃ）０．００１〜１質量部、脂肪族アルコールと脂肪族カルボン酸とのフルエステル化物（Ｄ）０．００１〜１質量部とを含有させる。 （もっと読む）

【課題】アクリル系ポリマーを含む改良された洗剤組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも２つの成分を有する洗剤組成物。第１の成分は８〜５０重量％の界面活性剤である。第２の成分はアクリル酸Ｃ_１−Ｃ_４アルキル４０〜８０重量％、Ｃ_３−Ｃ_６カルボン酸モノマー２０〜５２重量％および少なくとも１０個の炭素原子を有するアルキル基を有するモノマー０〜１０重量％の重合残基を有するポリマー０．０５〜４重量％である。好適な重合技術には、乳化重合および溶液重合、好ましくは乳化重合が挙げられる。 （もっと読む）

【課題】塩基性水溶液で現像して、実用可能な感度を有していて膨潤のない微細パターンを形成できるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式（I）〜式（XIII）で表されるオキセタン構造保有のアルカリ可溶性樹脂と、溶剤と、結像用放射線を吸収して分解するとアルカリ可溶性樹脂中のオキセタン構造が反応を起こしめる酸を発生可能な光酸発生剤とを含んでなり、自体塩基性水溶液に可溶であり、露光後は露光部がアルカリ不溶となるように構成する。 （もっと読む）

【課題】ラフネスがより低減され、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】α位の炭素原子に水素原子以外の原子又は置換基が結合していてもよいアクリル酸エステルから誘導される、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）及び−ＳＯ_２−含有環式基を含む構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）と、一般式（ｃ１）で表される化合物（Ｃ１）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物。一般式（ｃ１）中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基；Ｙ^１は２価の脂肪族炭化水素基；Ｒ^１は水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化アルキル基である。ｐは１〜１０の整数、Ａ^＋は有機カチオンを表す。
［化１］
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【課題】光硬化性樹脂との離型性が良好であり、且つ凹凸パターンの転写性に優れた光硬化性転写シートを提供する。
【解決手段】ポリマーと光重合性官能基を有する反応性希釈剤とを含む光硬化性組成物からなる加圧により変形可能な光硬化性転写層１１を有する光硬化性転写シート１０であって、前記ポリマーが、アルコール残基が脂環基である（メタ）アクリレートの繰り返し単位、及びアルコール残基が炭素原子数１０〜３０個の長鎖炭化水素基である（メタ）アクリレートの繰り返し単位を含むアクリル樹脂からなり、前記ポリマー中のアルコール残基が脂環基である（メタ）アクリレートの繰り返し単位の含有率が、２０モル％以上８０モル％未満であり、且つ前記ポリマー中のアルコール残基が長鎖炭化水素基である（メタ）アクリレートの繰り返し単位の含有率が、７．５モル％以上３０モル％未満である。 （もっと読む）

【課題】耐溶剤性、成形流動性が改善された溶融成形用メタクリル系樹脂、及び加工安定性、耐糸曳き性に優れた溶融成形用メタクリル系樹脂組成物を提供する。
【解決手段】メタクリル酸エステル単量体単位：８０〜９８．５質量％と、前記メタクリル酸エステル単量体に共重合可能な、少なくとも１種の他のビニル単量体単位：１．５〜２０質量％とを含むメタクリル系樹脂であって、重量平均分子量（Ｍｗ）が１４００００〜２５００００であり、前記ＧＰＣの溶出曲線から得られるピーク重量平均分子量（Ｍｐ）の１／５以下の重量平均分子量成分が、前記メタクリル系樹脂中に２０％以上４０％以下含まれており、重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）の関係が、下記（ｉ）式を満たす溶融成形用メタクリル系樹脂。
３．０Ｍｗ／Ｍｎ５．５ ・・・（ｉ） （もっと読む）

【課題】得られる硬化物が、高屈折率でかつ高光線透過率を有し、低吸水率である活性エネルギー線硬化型光学材料用組成物の提供。
【解決手段】式（１）で表されるジ（メタ）アクリレート（Ａ）及びビフェニルモノアクリレート（Ｂ）からなる活性エネルギー線硬化型光学材料用組成物。当該組成物を、所定の形状を有する型枠に塗布するか又は流し込んだ後、活性エネルギー線を照射する光学材料の製造方法。


〔Ｒ₁及びＲ₃は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ₂及びＲ₄は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基又はエチル基を表わし、Ｒ₅〜Ｒ₈は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基又は臭素原子を表し、ｌ及びｍは、それぞれ独立して、１〜６の整数を表す。〕 （もっと読む）

【課題】高Ｔｇ及び高い透明性を有し、汎用モノマーであるメチルメタクリレート主成分とする光ファイバーを提案することを目的とする。
【解決手段】コア部及び該コア部の外周に配置されたクラッド部からなる光ファイバーであって、前記コア部が、（ａ）メチルメタクリレート７５〜９８重量％及び２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン２〜２５重量％由来の共重合体、（ｂ）メチルメタクリレート７５〜９５重量％及び４−トリフルオロメチル ２，３，５，６，テトラフルオロスチレン５〜２５重量％由来の共重合体又は（ｃ）メチルメタクリレート５０〜８０重量％及び２−トリフルオロメチルスチレン２０〜５０重量％由来の共重合体を主たる構成成分としてなり、前記クラッド部が、前記コア部の屈折率以下の屈折率を有する重合体からなることを特徴とする光ファイバー。 （もっと読む）

【課題】間隙部分に対する追従性を向上させて、間隙部分を均一に充填することができる湿気硬化型シーリング組成物、および、その湿気硬化型シーリング組成物をシート状に形成したシーリング組成物シートを提供すること。
【解決手段】
湿気硬化型シーリング組成物に、カルボキシル基を有するカルボキシル基含有ポリマーと、可塑剤と、金属酸化物を含有する金属酸化物含有成分とを含有させる。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度及びマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物等を提供する。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式（Ｉ）で表される塩とを含むレジスト組成物。［Ｒ^１〜Ｒ^５は水素原子、炭素数１〜１２の炭化水素基又は炭素数２〜１３のアシル基を表す。Ｒ^６及びＲ^７は水素原子又は炭素数１〜１２の炭化水素基を表す。Ｒ^８〜Ｒ^１０は水素原子又は炭素数１〜１２の炭化水素基を表すか、Ｒ^８及びＲ^９が互いに結合して環を形成し、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ^１１−で置き換わっていてもよい。Ｒ^１１は水素原子又は炭素数１〜１２の炭化水素基を表すか、Ｒ^８と結合して環を形成する。］
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