国際特許分類[C08F220/26]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体 (4,622) | 9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体 (4,406) | エステル (3,361) | カルボキシ酸素以外の酸素を含有するエステル (1,135)
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アルコール残基中に芳香族環をもたないもの (550)
アルコール残基中に芳香族環をもつもの (150)
エポキシ基をもつもの (104)
国際特許分類[C08F220/26]に分類される特許
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感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
【課題】ラインエッジラフネス(LER)を改善し、パターン倒れを抑制できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスの提供。
【解決手段】(A)下記一般式(I−1)〜(I−3)のいずれかで表される構造を有する繰り返し単位と、ラクトン構造、サルトン構造及びシアノ基からなる群より選択される少なくとも1種を含有する繰り返し単位とを有する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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パターン形成方法及び該方法に使用するための感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物
【課題】安価に実施可能であり、段差基板上でのパターン形成性に優れたパターン形成方法、及び該方法に使用するための感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】(ア)側鎖にラクトン環構造を有する特定のアクリル酸エステル繰り返し単位(a)、ならびに下記一般式(III)、(IV)及び(V)の少なくとも1つで表される少なくとも1種の繰り返し単位(b)を有する樹脂(P)と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)とを含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程と、(イ)前記膜をKrFエキシマレーザーにて露光する工程と、(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて前記膜を現像し、ネガ型のパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
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パターン形成方法及びレジスト組成物
【解決手段】酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位及び/又は酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位とオキシラン環又はオキセタン環を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明によるレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く溶解コントラストが高く、酸拡散を抑制する特徴を有する。このフォトレジスト膜を用いて格子状パターンのマスクを使って露光し、有機溶剤現像を行うことによって、微細なホールパターンを寸法制御よく形成することが可能となる。
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化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】従来のレジスト組成物では、得られるパターンのマスクエラーファクター(ME
F)が必ずしも十分に満足できない場合があった。
【解決手段】式(I)で表される化合物。
[式(I)中、T1は、単結合又は芳香族炭化水素基を表す。L1は、飽和炭化水素基を
表し、該飽和炭化水素基を構成しているメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き
換わっていてもよい。mは0又は1を表す。L2及びL3は、単結合又は飽和炭化水素基
を表し、該飽和炭化水素基を構成しているメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置
き換わっていてもよい。環W1及び環W2は、炭化水素環を表す。R1及びR2は、水素
原子、ヒドロキシ基又はアルキル基を表す。R3及びR4は、ヒドロキシ基又はアルキル
基を表す。R5は、水素原子又はメチル基を表す。tは、0〜2の整数を表す。uは、0
〜2の整数を表す。]
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高分子化合物
【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できる、ネガ型レジスト組成物に用いる樹脂成分として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】一般式(f1−1)又は一般式(f1−2)で表される塩基解離性基を含む構成単位(f1)と架橋性基含有基を含む構成単位(f2)とを有する高分子化合物。式中、Rは水素原子、炭素原子数1〜5の低級アルキル基、又は炭素原子数1〜5のハロゲン化低級アルキル基であり;Xは二価の有機基であり、Aarylは置換基を有していてもよい芳香族環式基であり、X01は単結合又は二価の連結基であり、R2はフッ素原子を有する有機基である。
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重合性組成物
【課題】室温付近で液晶相を示し、溶媒溶解性に優れる重合性組成物であって、硬化させると、均一な膜状態を維持し、配向制御及び光学特性に優れ、且つ基材への密着性に優れる重合膜が得られる重合性組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式(1)で表される化合物(A)並びに(メタ)アクリレート基及びカルボキシル基を各々少なくとも一つ有する化合物(B)を含有する重合性組成物。下記式中、R1及びR2は、各々独立に水素原子又はメチル基を表し、環A1〜A3は、各々独立にベンゼン環、ナフタレン環等を表し、X、Y及びZは、各々独立にC1〜8アルキル基等を表し、L1〜L4は、各々独立に単結合、−COO−、−OCO等を表し、a、b及びcはそれぞれ環A1〜A3における置換基の数であって、環A1〜A3に含まれる6員環の数をvとすると、a、b及びcは各々独立に2v+2以下の整数を表す。
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硬化性樹脂組成物
【課題】高硬度であって、透明性および撥水性に優れた硬化物(塗膜)が得られる、硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】フッ素原子を有さない、1分子中に6個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物(A)と、上記(メタ)アクリロイルオキシ基と反応しうる反応性官能基と、フルオロアルキル基と、を有するシルセスキオキサン(B)と、光重合開始剤(C)と、を含有する硬化性樹脂組成物。
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透明導電性基板及び透明導電性基板の製造方法
【課題】簡便な方法で、抵抗値が低く、電流の均一性に優れ、かつ長期保存での導電性の劣化がなく、安定性の高い透明導電性基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板2上に、金属を含有する細線電極3と導電性ポリマー含有層4とが形成され、該細線電極3が金属粒子及び溶剤を含有する導電性インクにより形成され、該導電性インクを基板2上に付与した後、該導電性インクの焼成温度T0(℃)より低く、かつ該導電性インク成分の揮発温度ST(℃)よりも高い温度T1(℃)でS1(分)加熱された後に、焼成温度T0(℃)でS2(分)加熱され、かつ該焼成温度T0(℃)と該溶剤の揮発温度よりも高い温度T1(℃)との差が、200℃>T0−T1>50℃の関係を満たす透明導電性基板1を形成する。
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スルホニウム塩、高分子化合物、該高分子化合物を用いた化学増幅型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
【課題】 適度な強度の酸を発生させ、かつ、発生酸の移動、拡散を適度に制御することが可能であり、また、基板との密着性を損なわない酸発生単位をベースポリマーに導入することができるスルホニウム塩、該スルホニウム塩を用いた高分子化合物、該高分子化合物をベースポリマーとして用いた化学増幅型レジスト組成物および、該化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式(1)で表される重合性アニオンを有するスルホニウム塩。
【化1】
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法
【課題】リソグラフィー特性及びレジストパターン形状に優れ、且つ高感度なレジストパターンを形成できるレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、基材成分(A)は、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位であって、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位(a1)と、ヒドロキシアダマンチル基を有する(メタ)アクリレート単位(a5)とを有する樹脂成分(A1)を含有し、酸分解性基を分解させるための活性化エネルギーが100kJ/mol以下であるレジスト組成物。
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