【課題】フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、液浸露光時の媒体に溶出することなく安定な被膜を維持し、さらに液浸露光でないドライ露光を行なった場合からのパターン形状劣化がなく、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する共重合体を提供する。
【解決手段】炭素数１〜４のフッ素化アルキル基及び水酸基で置換されたアルキル基を有する繰返し単位（ＨＯ−Ｃ（Ｒ^１）（Ｒ^２）−）、炭素数１〜４のフッ素化アルキル基を有するスルホンアミド基を有する繰返し単位（Ｒ^３−ＳＯ_２−ＮＨ−）、およびカルボキシル基を有する繰返し単位から選ばれる少なくとも１つの繰返し単位（Ｉ）と、スルホ基を有する繰返し単位（ＩＩ）とを含み、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が２，０００〜１００，０００である共重合体。 （もっと読む）

【課題】解像度及び耐溶剤性に優れるパターンを得ることができる硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含み、
樹脂が、式（１）：


［式（１）中、Ｒ^１は炭素数２〜８の２価の炭化水素基を表し、Ｒ^２は水素原子又はメチル基を表す；ｍは１〜２０の整数を表し、ｍが２以上の整数である場合、複数のＲ^１は互いに同一でも異なっていてもよい］で表される単量体に由来する構造単位、及び、カルボキシ基とビニルオキシ基とを有する単量体に由来する構造単位を含む樹脂である硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】線幅の面内均一性（ＣＤＵ）に優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のラクトン構造を有する繰り返し単位と、特定の単環脂環構造を有する繰り返し単位とを有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定構造を有する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高解像１／４ミクロン以下さらには１／１０ミクロン以下のフィーチャの形成などの高性能用途において有意な欠点を示さない、液浸リソグラフィに有用な新規フォトレジスト組成物及びその処理する方法を提供する。
【解決手段】（ａ）（ｉ）１種以上の樹脂（ｉｉ）光活性成分、および（ｉｉｉ）糖置換を含み、前記１種以上の樹脂と実質的に非混和性である１種以上の材料を含むフォトレジスト組成物を基体上に適用し、並びに（ｂ）フォトレジスト層を前記フォトレジスト組成物を活性化する放射線に液浸露光することを含む、フォトレジスト組成物を処理する方法。 （もっと読む）

【課題】活性エネルギー線照射で硬化し、塗膜の高密着性、高透明性を損なうことなく、優れた表面保護機能を発現する硬化膜を与えるハードコート用組成物を提供する。
【解決手段】水酸基を１つ以上有する１官能（メタ）アクリレート（Ａ）、ビニルエーテル基及び／又はアリルエーテル基を有し、水酸基を有さない１官能（メタ）アクリレート（Ｂ）、水酸基を１つ以上有する３官能以上の（メタ）アクリレート（Ｃ）並びに重合開始剤（Ｄ）を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型ハードコート用組成物。前記水酸基を１つ以上有する１官能（メタ）アクリレート（Ａ）が、炭素数２〜８０の脂肪族若しくは脂環式多価アルコールのモノ（メタ）アクリレートである組成物。 （もっと読む）

【課題】硬度が高く、基材や下地などとの密着性が優れ、耐熱性および耐酸性が高く、波長４００ｎｍ付近の透過率が高い感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】式（１）の構造成分を含む共重合体樹脂（Ａ）と、光重合開始剤（Ｂ）及び、無機酸化物微粒子（Ｃ）を含有する感光性樹脂組成物。式（１）：
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【解決手段】芳香族基を繰り返し単位の２０〜１００モル％の範囲で有し、かつ酸によってアルカリに溶解する高分子化合物を含む第１のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して、第１のレジスト膜を形成する工程と、第１のレジスト膜上に第１のレジスト膜を溶解させない炭素数３〜８のアルキルアルコールを溶媒とする第２のポジ型レジスト材料を塗布して、第２のレジスト膜を形成する工程と、高エネルギー線で露光し、ベーク後、現像液を用いて前記第１と第２のレジスト膜を同時に現像してレジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】本発明のパターン形成方法によれば、現像後に基板面を開口させることができる。
本発明では、第２層のレジスト膜単独の場合よりも現像後のレジストパターンをマスクにして基板をエッチング加工したり、イオンを打ち込んだりするときの耐性を高くすることができる。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で示されるフッ素アルコール化合物。


（Ｒ¹は水素原子、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状の１価炭化水素基を示し、１価炭化水素基を構成する−ＣＨ₂−が−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−に置換されていてもよい。Ａａは、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状の（ｋ¹＋１）価の炭化水素基又はフッ素化炭化水素基である。ｋ¹は１〜３の整数である。）
【効果】本発明のフッ素アルコール化合物は、波長５００ｎｍ以下、特に波長３００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、現像特性の良好な感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として非常に有用である。 （もっと読む）

【課題】本出願人が先に提案した制電性アクリル繊維の制電性能をさらに高めた、毛羽の発生の少ない制電性アクリル繊維、及び、かかる制電性アクリル繊維を少なくとも一部に有する発色性に優れた高品位、高性能の繊維構造体並びに、高い生産性を維持したまま生産工程上の煩雑さのない該制電性アクリル繊維の製造法を提供することを目的とする。
【解決手段】８０〜１００重量％のアクリロニトリルを構成成分として含有するアクリロニトリル系重合体９０〜９９重量％と、１０〜７０重量％のアクリロニトリルを構成成分として含有するアクリル系制電性樹脂１〜１０重量％とからなり、アルカリ金属イオンが繊維に対して２００ｐｐｍ以上含有されているアクリル繊維であって、アクリル系制電性樹脂がホウ素化合物を含有することを特徴とする制電性アクリル繊維。 （もっと読む）

【課題】ドライ露光、液浸露光、ダブルパターンニングに適するレジスト用重合体、それを含むレジスト材料、ならびにそのレジスト材料を用いるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）：


の繰り返し単位と、酸分解性基を有する繰り返し単位を含有する重合体を用いる。 （もっと読む）