【課題】適正感度が高く、屈折率が低くかつ、現像後のパターンの欠けや残渣が少なく、高温高湿下での屈折率変化が小さく、耐候性に優れた性能を示すパターンを形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）中空又は多孔質粒子と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物と、下記の樹脂（Ｃ１）又は混合樹脂（Ｃ２）とを含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子。
（Ｃ１）珪素原子又はフッ素原子を側鎖に含有し、前記活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する樹脂
（Ｃ２）珪素原子又はフッ素原子を側鎖に含有する樹脂（Ｃ２−１）と、前記活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する樹脂（Ｃ２−２）とを含有する混合樹脂 （もっと読む）

【課題】塗布面状が良好で、屈折率が低く、高温条件下においても屈折率変化が小さいパターン膜（以上、例えば、光学デバイスにおける反射防止膜に適した性能）であって、誘電率が低く、かつ、ヤング率が高いパターン膜（以上、例えば、半導体素子デバイス等における層間絶縁膜に適した性能）を、高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、及び、パターン膜を提供する。更に、該感光性組成物を用いて製造される反射防止膜及び絶縁膜、並びに、これらを用いた光学デバイス及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）で表される１種又は２種以上のかご状シルセスキオキサン化合物から構成されるシルセスキオキサン類より得られる重合体と（Ｂ）光重合開始剤とを含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン膜、反射防止膜、絶縁膜、光学デバイス及び電子デバイス。
（ＲＳｉＯ_１．５）_ａ 式（１）
（式（１）中、Ｒは、それぞれ独立に、有機基を表し、Ｒのうちの少なくとも２つは、重合性基を表す。ａは８〜１６の整数を表す。複数のＲは同一であっても異なっていてもよい。）
ただし、前記重合体には前記かご状シルセスキオキサン化合物由来の重合性基が残存している。 （もっと読む）

【課題】明度およびコントラスト比に優れ、かつ、色むら、濃度むらの発生が抑制されたカラーフィルターをインクジェット方式により好適に製造することができる製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のカラーフィルターの製造方法は、基板上に、感光性材料を含む遮光部形成用組成物を付与する工程と、露光により、遮光部形成用組成物を、現像液に対し溶解性の高い易溶性部と溶解性の低い難溶性部とを有するものとする工程と、易溶性部を除去し、難溶性部で仕切られた空間としてのセルを形成する工程と、セル内に、インクジェット方式で、着色剤を含む第１のインクを付与する工程と、加熱により、難溶性部を収縮させるとともに着色膜を形成する工程と、第１のインクが吐出されたセル内に、インクジェット方式で、熱硬化性樹脂を含む第２のインクを付与する工程と、加熱により、熱硬化性樹脂を硬化させ樹脂膜を形成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】樹脂部材がＰＥＣＶＤによってダメージを受けないよう、耐プラズマ性を向上させた部材を提供し、またそれを用いたガスバリア部材等を提供する。
【解決手段】一般式（１）の環状シロキサン化合物
【化１】


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^５は、炭素数１〜２０の炭化水素基等、ｍは１〜３の整数、ｎは０〜２の整数、ｍ＋ｎは３以下の整数。ｘは１以上の整数、ｙ及びｚは０以上の整数、ｘ＋ｙ＋ｚは３以上の整数。）を重縮合または重付加してポリ環状シロキサンを製造し、それを封止材としたり、また樹脂部材に塗布して耐プラズマ性を付与し、ＰＥＣＶＤによりガスバリア層を成膜したガスバリア性樹脂部材とする。 （もっと読む）

【課題】強度に優れる重合体組成物を得ることができる共役ジエン系重合体、該共役ジエン系重合体と補強剤とを配合してなる重合体組成物、及び、該共役ジエン系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】共役ジエンに基づく単量体単位と下記式（１）で表される単量体に基づく単量体単位とを有する共役ジエン系重合体。
Ｒ¹Ｓｉ（ＯＲ²）_mＲ³_nＲ⁴_(3-m-n) （１）
（式中、ｍは１又は２を表し、ｎは１又は２を表し、ｍ＋ｎは２又は３であり、Ｒ¹は重合性炭素−炭素二重結合を有するヒドロカルビル基を表し、Ｒ²はヒドロカルビル基を表し、Ｒ²が複数ある場合、複数あるＲ²は同一でも異なっていてもよく、Ｒ³は含酸素置換基を有していてもよいアリール基を表し、Ｒ³が複数ある場合、複数あるＲ³は同一でも異なっていてもよく、Ｒ⁴はアルキル基、又は置換アミノ基を表す。） （もっと読む）

【課題】炭素数が６以下のフルオロアルキル基を含む（メタ）アクリル系モノマーから誘導される繰り返し単位を含む重合体が分散した撥水撥油剤分散液であって、安定性に優れ、優れた撥水撥油性を基材に付与する分散液を提供する。
【解決手段】式：ＣＨ_２＝Ｃ（−Ｘ）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｙ−Ｚ−Ｒｆ（式中、Ｘは、水素原子、一価の有機基またはハロゲン原子であり、Ｙは−Ｏ−または−ＮＨ−であり、Ｚは、直接結合または二価の有機基であり、Ｒｆは、１〜６の炭素原子を有するフルオロアルキル基である。）で示される、含フッ素（メタ）アクリル系モノマーから選択される１種もしくは複数種のモノマーから誘導された繰り返し単位を含む重合体；３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール；および水を少なくとも含む、撥水撥油剤分散液。 （もっと読む）

【課題】均質薄膜を容易かつ低廉に作成できるビス（ビニルフェナザシリン）化合物誘導重合体、および当該ビス（ビニルフェナザシリン）化合物誘導重合体を用いた有機薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】例えば下記に示すフェナザシリン化合物を主鎖骨格とする重合体及び有機薄膜トランジスタ


（式中、Ｒ１−Ｒ１０はＭｅ基、n＝５） （もっと読む）

【課題】本発明は半導体素子デバイスなどにおける層間絶縁膜として使用するのに適し、誘電率などの特性に優れた膜を効率よく製造することができる絶縁膜形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】２つ以上の不飽和基を置換基として有するカゴ型シルセスキオキサン化合物を重合させて得られる高分子化合物と、空孔形成剤とを含有する膜を基板上に形成する膜形成工程と、該膜に電子線を照射する電子線照射工程と、電子線照射工程後に膜を加熱して、絶縁膜を形成する加熱工程とを備える、絶縁膜形成方法。 （もっと読む）

本発明は、新規のフッ素化化合物、これを含む組成物、およびこれを利用したフィルムの製造方法に関し、より詳細には、シランコアに１つ以上のフッ素、アクリレート系作用基が置換されている新規の構造の化合物、そして前記化合物および光開始剤を含む組成物、およびこれを利用してフィルムを製造する方法に関する。本発明に係る化合物を含む組成物を利用すれば、屈折率が低く、反射率が減少して透過率が増加したフィルムを製造することができる。 （もっと読む）

【課題】耐候性、防汚性、防曇性に優れた、高透明性の有機無機複合体を形成することができる水系有機無機複合組成物を得る。
【解決手段】粒子径が１〜４００ｎｍの金属酸化物（Ａ）と、
水及び乳化剤の存在下で、加水分解性珪素化合物（ｂ１）と、２級及び／又は３級アミド基を有するビニル単量体（ｂ２）とを重合して得られる、粒子径が１０〜８００ｎｍである重合体エマルジョン粒子（Ｂ）と、
を、含有し、
前記２級及び／又は３級アミド基を有するビニル単量体（ｂ２）と、前記重合体エマルジョン粒子（Ｂ）との質量比（ｂ２）／（Ｂ）が、０．０１以上０．０５以下である水系有機無機複合組成物を提供する。 （もっと読む）