【課題】 本発明は、光学フィルムと偏光膜との接着性に優れ、かつ、耐熱性、耐薬品性などの特性にも優れ、長期使用においても剥離、変形などが生じにくく高い信頼性を有する偏光板およびその製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリウレタン層、接着剤層および偏光膜が積層されてなることを特徴とする偏光板と、ノルボルネン系樹脂フィルム表面にポリウレタン層を設ける工程と、接着剤を介して、偏光膜と該ポリウレタン層を接着させる工程を有することを特徴とする当該偏光板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 低吸水性の半導体用接着フィルムを提供する。また、吸湿処理後の半田耐熱に優れた半導体用接着フィルムを提供する。また、半導体装置としての長期信頼性に優れた、半導体装置を提供する。
【解決手段】 半導体素子を固定するための接着剤層を有する接着フィルムであって、
前記接着剤層は、（Ａ）ノルボルネン系樹脂、（Ｂ）エポキシ樹脂、（Ｃ）マイクロカプセル化されたイミダゾール系化合物とを含む接着剤より構成されることを特徴とする。前記半導体用接着フィルムがキャリア材料の少なくとも片面に形成されていることを特徴とする半導体用接着フィルム付きキャリア材料。前記半導体用接着フィルムを介して、半導体素子が、金属フレーム、回路基板または支持部材に接合された半導体装置。前記半導体用接着フィルムを介して、半導体素子と回路基板とを、これらのいずれかに形成された突起電極により、フリップチップ接続し、接合された半導体装置。 （もっと読む）

【課題】重合転化率が高く、かつ安定した物性の重合体が得られるＭＴＦ類の重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】有機硫黄化合物の含有量が２０ｐｐｍ以下である１,４−メタノ−１,４,４ａ,９ａ−テトラヒドロフルオレン類の組成物を重合して重合体を製造する方法。前記の１,４−メタノ−１,４,４ａ,９ａ−テトラヒドロフルオレン類の組成物が、シクロペンタジエン類とインデン類を縮合して得られたものであるときに好適である。 （もっと読む）

【課題】重合転化率が高く、かつ安定した物性の重合体が得られるＭＴＦ類の重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】水酸基が結合した炭素に隣接する炭素に水素原子が結合している水酸基含有芳香族化合物の含有量が５００ｐｐｍ以下である１,４−メタノ−１,４,４ａ,９ａ−テトラヒドロフルオレン類の組成物を重合して重合体を製造する方法。前記の１,４−メタノ−１,４,４ａ,９ａ−テトラヒドロフルオレン類の組成物が、シクロペンタジエン類とインデン類を縮合して得られたものであるときに好適である。 （もっと読む）

本発明は、主鎖に多重環化合物を含む光反応性重合体及びその重合方法に関する。
本発明による光反応性重合体は、ガラス転移温度の高い多重環化合物を主鎖として含むために、熱的安定性に優れ、空いている格子の空間が相対的に大きいために、光反応基が高分子主鎖内で比較的自由に移動できて、既存の液晶表示素子用配向膜製造用の高分子材料の短所として指摘されてきた遅い光反応速度という短所を改善できる。
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【課題】レジスト下層膜材料であって、特に短波長での露光に対して、単独で又は反射防止効果のあるレジスト中間層膜と併せることで優れた反射防止効果を示し、すなわち最適なｎ値、ｋ値を有し、かつ、ポリヒドロキシスチレン、クレゾールノボラックなどよりも基板エッチング時のエッチング耐性に優れ、多層レジストプロセス、例えば２層又は３層レジストプロセスでの使用に好適なレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化２２】
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【課題】 確実に半田接合することができ、半田接合後の残存フラックスの洗浄除去が必要なく、高温、多湿雰囲気でも電気絶縁性を保持し、誘電特性に優れ、信頼性の高い半田接合を可能とする、熱硬化性フラックス、フラックスシートおよび多層配線板を提供する。
【解決手段】 半田接合時にフラックスとして作用する熱硬化性フラックスであって、フェノール性水酸基を有する樹脂(Ａ)、該樹脂の硬化剤である樹脂（Ｂ）および環状オレフィン系樹脂（Ｃ）を含むことを特徴とする熱硬化性フラックスにより達成される。配線パターンと、該配線パターン上に形成された導体ポストと、該導体ポストの先端表面に形成された半田層とを有する接続層と、該導体ポストとの層間接続用ランドを有する被接続層とを、前記熱硬化性フラックスからなるフラックス層を介して、加熱・加圧して熱圧着することにより半田接合させた層間接続部を有する多層配線板。 （もっと読む）

架橋された複素環式化合物、フッ素化ノルボルネン化合物、フッ素化アルケン、複素環式化合物、およびこれらの２またはそれ以上の組み合わせ、から誘導されるポリマーが提供される。このポリマーはフォトレジスト組成物を含む広範囲の用途に使用される。また、このポリマーに使用するためのモノマー化合物の製造方法も提供される。 （もっと読む）

【課題】特に１９３ｎｍ波長の光で露光したときに優れた溶解性をレジスト被膜に与えるレジスト組成物、およびそのレジスト組成物を用いたコントラストに優れた微細パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】（ａ）酸解離性官能基含有ポリマー、（ｂ）光酸発生剤および（ｃ）溶解抑止剤からなり、該溶解抑止剤（ｃ）が、式（１）：
【化１】


（式中、Ｒｆ¹およびＲｆ²は同じかまたは異なり、エーテル結合を含んでいてもよい炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基；ＸはＦまたはＣＦ₃；Ｙ¹はＯＨ基または酸で解離してＯＨ基に変化する酸解離性官能基）で表される部位を有する含フッ素ノルボルネン誘導体から選ばれる少なくとも１種の単量体（ｍ１）由来の構造単位を必ず含むポリマーであるレジスト組成物を用いて微細パターンを形成する方法。 （もっと読む）

単量体に含まれた極性官能基による触媒非活性化がなく、極性官能基を有する環状オレフィン重合体を高分子量及び高い収率で製造できる触媒システム及びこれを利用した重合体製造方法が提供される。
本発明によるオレフィン重合用触媒とこれを利用した重合体製造方法によれば、優れた熱的化学的安定性を有する触媒システムにより、モノマーの極性官能基による触媒の非活性化を抑えることが可能であるため、ポリオレフィン重合時に高分子量及び高い重合収率でポリオレフィンを製造でき、触媒の活性が優秀であるため、触媒対モノマーの使用量を１／５０００未満の範囲で使用できて、触媒残渣を除去する段階が必要ない。
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