【課題】高い透明性を保持しつつ、さらに耐溶剤性および耐熱変形性に優れるノルボルネン系樹脂フィルムを提供すること。
【解決手段】ある特定の構造を有する化合物を少なくとも１種含む単量体を（共）重合して得られるノルボルネン系樹脂の溶液と、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウムおよび水酸化マグネシウムからなる群より選択される少なくとも１種の水酸化物とを含有する樹脂組成物を加熱してなることを特徴とするノルボルネン系樹脂溶液。 （もっと読む）

【課題】耐候性に優れた帯電防止性を有し、透明性に優れた合成樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（２）で表される繰り返し単位を含む含フッ素重合体。


［式中、Ｗは連結基、Ｒ^１はそれぞれ独立にパーフルオロアルキル基を表し、Ｑは重合性二重結合基含有基の二重結合が開裂して形成した単位構造を表す。Ｍ^＋は、水素カチオン、金属イオンまたは一般式（１５）


（式中、Ｒ^１１〜Ｒ^１４はそれぞれ独立に置換基を有するかまたは有しない炭素数１〜２０のアルキル基またはアリール基を表す。）で表わされる４級アンモニウムカチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、未延伸のノルボルネン系付加重合体フィルムのＲｔｈ値を調整することであり、一軸延伸のみで、Ｒｅ、Ｒｔｈを種々の値に発現させることにある。すなわち、ノルボルネン系付加重合体のＲｅ、Ｒｔｈの値を簡便にかつ自在にコントロールすることにある。
【解決手段】ゲル・パーミエーションクロマトグラフィーにより得られる分子量分布曲線が２つ以上の極大点を有するノルボルネン系重合体混合物を用いる。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＲとエッチング耐性とのバランスがとれ、極微細で均一なパターン形成を可能とするリソグラフィー用重合体とその製造方法、リソグラフィー用組成物及び該組成物を使用した半導体の製造方法の提供。
【解決手段】芳香族環式基を有するアセタール結合で架橋された重合体、すなわち、下記式で示す繰り返し構造単位を有する重合体により上記課題を解決する。一般式（Ｉ）中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁶は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基又はハロアルキル基を表す。Ｒ²、Ｒ⁵、は各々独立に、水素原子、シアノ基、等を表す。Ｘ¹、Ｘ²は各々独立に、単結合、あるいは置換基を有していても良い２価のアルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基、等を表す。Ｘ³、Ｘ⁴は各々独立に、単結合、もしくは−ＣＯ−を表す。Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。
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【課題】本発明は、固体構造、特に半導体構造内部に一つ乃至複数のエアギャップを形成して金属線の如き電気部品間の誘電的カップリングを減じる方法に関する。そのような方法によって、集積回路やパッケージの如き半導体構造内の誘電的カップリングを減じようとした前述の従来の試みに関連する一つ乃至複数の欠点を克服することができる。
【解決手段】本発明の一つの局面によれば、半導体構造内にエアギャップを形成する方法は、（ｉ）半導体構造内の閉鎖された内部空間を占めるための犠牲材料としてノルボルネン型ポリマーを利用し、（ｉｉ）該犠牲材料を一つ以上のガス状分解物へと分解（好ましくは熱処理によって自己分解）し、（ｉｉｉ）該内部空間に隣接する固体層の少なくとも一つを通じて上記ガス状分解物の少なくとも一つを排除する、工程からなる。 （もっと読む）

【解決手段】下記式（１）で表される環状オレフィン官能性シロキサンを付加重合することで得られる環状オレフィン付加重合体。


（式中、Ｒ¹は互いに同一又は異種の脂肪族不飽和結合を有さない一価の有機基であり、ｓは０〜２の整数であり、ｊは０又は１を示す。）
【効果】本発明によれば、上記環状オレフィン官能性シロキサンを単量体とすることにより、優れた透明性、耐熱性、有機溶媒及びポリシロキサン溶媒への溶解性、保存安定性及び取扱い性を有する環状オレフィン付加重合体が得られる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性及び低吸湿性に優れ、金属触媒を使用することなく効率的にラジカル重合することが可能な、新規な脂環式単量体単位を含む重合体の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で示される脂環式単量体（Ａ）に由来する構造単位の少なくとも一種を構成単位として含む重合体。（一般式（１）において、ｍ及びｎは独立に０又は１であり、Ｒ^１は、置換又は非置換の芳香族基を表す。）
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【課題】液浸リソグラフィプロセスに適用する非自己現像型及び現像型のノルボルネン系ポリマー、ポリマーの製造方法、ポリマーを使用する組成物、及び組成物を使用する液浸リソグラフィプロセスを提供する。
【解決手段】液浸リソグラフィプロセスに有用な非自己現像型及び現像型のノルボルネン系ポリマー、このようなポリマーの製造方法、このようなポリマーを使用する組成物、及びこのような組成物を使用する液浸リソグラフィプロセスを提供する。より詳細には、液浸リソグラフィプロセスにおける現像層及びこのような現像層を被覆するためのトップコート層を形成するのに有用なノルボルネン系ポリマー及びそのプロセス。 （もっと読む）

【課題】式（３）で表されるエポキシ基含有ノルボルネン化合物及びその（共）重合体を効率よく製造する方法の提供。


【解決手段】下記式（１）


で表されるノルボルネンカルバルデヒドと硫化メチレン化合物とを反応させることを特徴とする式（３）で表されるエポキシ基含有ノルボルネン化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】環境に与える影響が小さく、かつ、ホトレジストパターンへのダメージが少なく、良好な矩形形状のホトレジストパターンを形成可能とする保護膜形成用材料、及びこの保護膜形成用材料を用いたホトレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ホトレジスト膜上に積層される保護膜を形成するための保護膜形成用材料として、（ａ）アルカリ可溶性ポリマーと、（ｂ）エーテル結合を有するテルペン系溶剤とを含有するものを使用する。 （もっと読む）