【課題】本発明は溶解速度調整剤を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、多環式オレフィンモノマー、及び所望によりアリル的又はオレフィン的モノマーのオリゴマー、並びに多環式オレフィンモノマーを、Ｎｉ又はＰｄを含有していてもよい触媒の存在中で、或いはアリル的モノマーの場合、フリーラジカル開始剤の存在中で反応させることを含むこのようなオリゴマーを製造する方法に関する。オリゴマーは、フォトレジスト組成物中に溶解速度調整剤として含めることができる。フォトレジスト組成物は、更にポリマーの結合樹脂、光酸発生剤、及び溶媒を含むことができる。 （もっと読む）

本明細書に記載し、開示され、説明されている本発明は、ゲストのリン光を発する金属錯体のための両極性小分子ホスト材料に関する。この両極性小分子の製造方法も記載されている。オキサジアゾールおよび1つまたは複数のカルバゾール基の両方を含むこれらの両極性小分子は、(I) R¹、R²、およびR³基の少なくとも1つが、場合によって置換されていてもよいカルバゾール基である本発明の材料を含んでいる予想外に効率的なOLEDデバイスの発光層を作製するために使用することができる。
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【課題】３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成するレジスト組成物、および液浸リソグラフィーにおけるトップコート組成物に使用する樹脂であって、撥水性、特に後退接触角の大きい樹脂を提供する。
【解決手段】 下記一般式（２）で示される繰り返し単位（ａ）を含む質量平均分子量１，０００〜１，０００，０００の含フッ素高分子化合物。
【化】


（式中、Ｒ¹は、重合性二重結合含有基を表し、
Ｒ²は、フッ素原子または含フッ素アルキル基を表し、
Ｒ⁸は、置換もしくは非置換のアルキル基などを表し、
Ｗ¹は、単結合、非置換もしくは置換メチレン基などを表す。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、更にその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に用いることができる樹脂及び重合性化合物を提供する。
【解決手段】特定の基を有する樹脂、及び、特定の基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂。 （もっと読む）

【課題】官能性置換基を有するポリノルボルネンをバルク重合で合成できる感光性組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の感光性組成物は、光酸発生剤と、該光酸発生剤が放出するプロトンの作用により分子構造の少なくとも一部が離脱し得る離脱性基を有するノルボルネン系モノマーと、該ノルボルネン系モノマーの付加重合のための触媒とを含んでなり、該離脱性基をexo位に有するexo体ノルボルネン系モノマーが、該離脱性基をendo位に有するendo体ノルボルネン系モノマーよりも過剰に存在する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であり、ウォーターマーク欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の各々が少ないパターンを形成することが可能、且つ、被覆率依存性が良好な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】フッ素原子を含有する疎水性樹脂（ＨＲ）を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、疎水性樹脂（ＨＲ）が下記一般式（Ｉ）又は（II）で表される繰り返し単位（ａ）を有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（式中の符号は、特許請求の範囲に記載の定義を有する。）
【化１】
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【課題】多量の重合触媒や多量の分子量調節剤を使用することなく、比較的に低分子量の環状オレフィン付加重合体を与えることができる環状オレフィン付加重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）周期律表第１０族の金属原子を含有してなる有機金属化合物と、（Ｂ）イオン性ホウ素化合物または有機アルミニウム化合物とからなる重合触媒により、環状オレフィン化合物を付加重合させる環状オレフィン付加重合体の製造方法であって、分子量調節剤として特定の不飽和環状（チオ）エーテル化合物を用い、当該分子量調節剤の使用量が、環状オレフィン化合物１モル当り、０．１モル以下であることを特徴とする環状オレフィン付加重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】撥水性と滑水性に優れ、現像欠陥が少なく、現像後のレジストパターン形状が良好な液浸リソグラフィー用レジスト材料の添加剤を用いたレジスト材料、この材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物、（Ｂ）ベース樹脂として酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、（Ｃ）高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、（Ｄ）有機溶剤を含有するレジスト材料。
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【課題】パターンの現像欠陥及びディスタンス依存性が改善された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）側鎖にノルボルナン構造を有する特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかと、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基を有する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】水残り欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の少ないパターンを形成することが可能であり、さらにＬＷＲの優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】主鎖に多環構造を有し、かつ該多環構造が酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する部位を有する繰り返し単位（a）を含む樹脂（ＨＲ）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）