【課題】Ｋｒエキシマレーザー光またはＡｒＦエキシマレーザー光に対して透明性が高く、高解像性を有するとともに、膨潤がなく、かつ断面形状が矩形のレジストパターンを与える化学増幅型のネガ型レジスト組成物を提供する
【解決手段】下記一般式で表される繰り返し単位とアルコール性ヒドロキシル基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量１，０００〜１，０００，０００の含フッ素高分子化合物。
【化】


（式中、Ｒ³はフッ素原子または含フッ素アルキル基、Wは二価の連結基を表す。Ｒ⁴、
Ｒ⁵およびＲ⁶は、相互に独立に、水素原子、フッ素原子もしくは一価の有機基であり、または相互に組み合わされて環を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】レジスト材料のベース樹脂用の単量体を提供する。
【解決手段】式（１）で示される含フッ素単量体。


（Ｒ¹はＨ、又はＣ１〜２０の１価炭化水素基を示し、１価炭化水素基の場合、構成する−ＣＨ₂−が−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−に置換されていてもよい。Ｒ²はＨ、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。Ｒ³、Ｒ⁴はＨ、又はＣ１〜８の１価炭化水素基を示す。又は、Ｒ³、Ｒ⁴は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂肪族炭化水素環を形成してもよい。Ａは、Ｃ１〜６の２価炭化水素基を示す。）含フッ素単量体は、機能性材料、感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として有用である。単量体からの高分子化合物は高解像性、耐水性に優れ、レジスト材料のベース樹脂として精密な微細加工に極めて有効である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成する際に使用する、露光に対し透明性を損なわずかつ矩形性に優れるパターンを形成できるレジスト組成物を提供し、併せて、その構造を含フッ素高分子化合物に導入するために有用な含フッ素化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（２）で表される繰り返し単位を含む重量平均分子量１，０００〜１，０００，０００の含フッ素高分子化合物および、それを用いたレジスト組成物。


（式中、Ｒ²は酸不安定性保護基、Ｒ³はフッ素原子または含フッ素アルキル基、Ｗは二価の連結基を表す。Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶は、相互に独立に、水素原子、フッ素原子もしくは一価の有機基であり、または相互に組み合わされて環を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】熱インプリントによる微細加工において、パーティクル状物の発生を抑制するために、耐熱劣化性に優れ、かつ流動化時の樹脂弾性率が低く微細パターン転写性の良好な熱インプリント用樹脂、当該樹脂を用いた熱インプリント用樹脂溶液、当該樹脂を用いた熱インプリント用射出成型体、当該樹脂を用いた熱インプリント用薄膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】空気中、昇温速度5℃/minでの示差走査熱量計測定において、酸化に伴う発熱ピークの発熱開始温度（酸化開始温度）が、当該樹脂のガラス転移温度＋35℃以上であり、窒素気流中、周波数1rad/secでの動的粘弾性率測定おいて、樹脂のガラス転移温度＋35℃での複素弾性率が0.24MPa未満である熱インプリント用樹脂。また、これを用いた熱インプリント用樹脂溶液、熱インプリント用射出成型体、熱インプリント用薄膜およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】活性放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザーあるいはＥＵＶに代表される遠紫外線や電子線等に感応する感放射線性酸発生剤として、良好な燃焼性を示し、また人体蓄積性にも問題がなく、しかも発生する酸（光発生酸）の酸性度が十分高く、発生する酸（光発生酸）が適度な沸点を有するばかりでなく、レジスト被膜中での拡散長が適度に短くなり、さらにはレジスト溶剤に対する溶解性及び樹脂との相溶性に優れた新規な光酸発生剤として機能する化合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表されるスルホン酸オニウム塩。


（前記式（１）において、Ｒ¹は１価の有機基、Ｑ⁺はスルホニウムカチオンまたはヨードニウムカチオンを表す） （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、解像力に優れ、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の、側鎖にエステル基を２個有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】環状オレフィン付加重合体を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（I）、（II）または(III）のいずれかで示されるメタロセン錯体を用いて環状オレフィンの単量体を重合させる。


一般式（I）、（II）および（III）において、
Ｍは、ランタノイド元素、スカンジウムまたはイットリウムを示し、
Ｃｐ^Rは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、
Ｃｐ^R'は、無置換もしくは置換シクロペンタジエニル、インデニル、またはフルオレニルを示し、
Ｒ^a〜Ｒ^fは、それぞれ独立して、水素または炭素数１〜３のアルキル基を示し、
ＸおよびＸ’は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基または炭素数１から20の炭化水素基を示し、
Ｌは、中性ルイス塩基を示し、
ｗは、０〜３の整数を示し、
[Ｂ] ^-は非配位性アニオンを示す。 （もっと読む）

【課題】可視光領域において波長に対して逆分散性を示す位相差を与えることができ、かつ低光弾性である光学用フィルムを提供すること。
【解決手段】下記式（Ｉ）に示す構造単位を有する熱可塑性樹脂を含む光学用フィルムとする。


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、酸素原子、（窒素原子、イオウ原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい置換もしくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基）、または極性基。） （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度であるとともに、ラインウィズスラフネス及び疎密依存性が低減され、また、特にＥＵＶ露光において、高感度とともに溶解コントラストが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】インデノン構造を有する特定の繰り返し単位、かつ酸の作用により分解しアルカリ溶解性が増加する繰り返し単位を有する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含むことを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

多環式オレフィンモノマー（ノルボルネン型）ポリマーの分子量を制御し単一の材料を用いてその重合を活性化させる方法が提供される。かかる方法は、モノマー、触媒、溶媒及び任意成分の共触媒の混合物に連鎖移動／活性化剤を加え、混合物を重合させてポリマーを形成することを含む。混合物中における連鎖移動／活性化剤の量は、得られるポリマーの分子量、その転換割合又は双方を制御し、ある実施態様では、得られるポリマーの光学密度を制御するのに役立ちうる。
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