式（１）で表される有機テルル化合物、アゾ系重合開始剤及び式（２）で表されるジテルリド化合物を用いて、ビニルモノマーを重合することを特徴とするリビングラジカルポリマーの製造方法、及びそれより得られうるリビングラジカルポリマー。


〔式中、Ｒ^１は、Ｃ_１〜Ｃ_８のアルキル基、アリール基、置換アリール基又は芳香族ヘテロ環基を示す。Ｒ^２及びＲ^３は、水素原子又はＣ_１〜Ｃ_８のアルキル基を示す。Ｒ^４は、アリール基、置換アリール基、芳香族ヘテロ環基、アシル基、オキシカルボニル基又はシアノ基を示す。〕


〔式中、Ｒ^１は、上記と同じ。〕
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【課題】
分散安定性、吐出性が良好で、高い印字濃度、耐水性、耐ブリード性（異色間の境界部での画質劣化現象の起こり難さ）及び耐擦過性を有するインクジェット記録用水分散体及び水系インクを提供することを課題とする。
【解決手段】
重量平均分子量が１０００〜１５０００であり、疎水性モノマー由来の構成単位を９０重量％以上と両末端にイオン性基とを有する水不溶性ポリマー及び着色剤を含有してなるインクジェット記録用水分散体及び前記水分散体を含有させて水系インクとする。 （もっと読む）

本発明は、ポリマーフォームビーズまたはバルーンを製造するための方法および装置に関する。この方法には以下の工程が含まれる：
ａ）有機相の中で水相Ｗ_１をカプセル化させることにより、有機相を用いた液状ビーズまたは液状バルーンを形成させる工程；
ｂ）その液状ビーズまたはバルーンを水相Ｗ_２の中に懸濁させる工程；
ｃ）そのようにして形成された前記エマルションを、この相がゲル化するに必要な時間、前記重合開始剤が５〜１５分の分解半減期を有するようになる温度に少なくとも等しいが、有機相の崩壊温度よりは低い温度θにさらす工程；および
ｄ）その有機相の固化を完了させる工程。
用途：特に、慣性閉じこめ核融合研究のためのターゲットの製作、固相合成を目的とするマトリックス、タンパク質タイプの生物学的成分の特異的な固定化、あるいは高処理生物学的試験の実施などに使用されるマイクロバルーンの製造。 （もっと読む）

本発明に係るマクロ分子識別ポリマーの製造方法は、マクロ分子、架橋剤およびラジカル重合開始剤の存在下、水溶液中で原料単量体を重合し、内部にマクロ分子を含有する重合体を得る工程、および該マクロ分子を含有する重合体からマクロ分子を取り除き、マクロ分子の分子形状鋳型を有するマクロ分子識別ポリマーを得る工程からなり、前記架橋剤の２５℃における水に対する溶解度が１００質量％以上であることを特徴としている。 （もっと読む）

式（１）で表される有機テルル化合物と、アゾ系重合開始剤を用いて、ビニルモノマーを重合することを特徴とするリビングラジカルポリマーの製造方法、及びそれより得られうるリビングラジカルポリマー。


〔式中、Ｒ^１は、Ｃ_１〜Ｃ_８のアルキル基、アリール基、置換アリール基又は芳香族ヘテロ環基を示す。Ｒ^２及びＲ^３は、水素原子又はＣ_１〜Ｃ_８のアルキル基を示す。Ｒ^４は、アリール基、置換アリール基、芳香族ヘテロ環基、アシル基、オキシカルボニル基又はシアノ基を示す。〕
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環状オレフィン及び極性ビニルオレフィン系の共重合体の製造方法、その方法によって製造された共重合体及び前記共重合体を含む光学異方性フィルムである。本発明による共重合体の製造方法によれば、１３族化合物及びラジカル開始剤からなる触媒系を使用して、環状オレフィン及び極性ビニルオレフィンを効果的に共重合でき、本発明の製造方法で製造される共重合体は、高い透明性、優秀な付着性、低い誘電定数、優秀な熱安定性、光学異方性及び強度を有し、本発明の重合体を含む光学フィルムは、前記物性によって偏光保護フィルム、接着フィルム、補償フィルム、液晶ディスプレイ装置に使われうる。
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開示される概要は、フリーラジカル重合を開始し得る不安定な官能基を含むＵＶ吸収材である。本発明のＵＶ吸収材は、ＵＶ吸収特性、およびフリーラジカル重合開始能力という、二重機能を提供する。本発明により、この二重機能性ＵＶ吸収剤を含む眼科用レンズ材料もまた提供される。本発明の二重機能性ＵＶ吸収材は、適切な官能基を含むアゾラジカル重合開始剤、有機過酸化物ラジカル重合開始剤、ホスフィン酸化物ラジカル開始剤、およびα−ヒドロキシケトンラジカル重合開始剤から合成され得る。 （もっと読む）

【課題】液浸露光によるパターン形成において、表面ラフネス、ラインウイズスラフネスが改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び
（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型レジストであって、（Ｂ）成分の樹脂が、主鎖の少なくとも一方の末端にラクトン構造を有する基を有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性、感度、解像度等のレジスト性能に優れ、微細なパターンを鮮明且つ精度よく形成できるフォトレジスト用共重合体を提供する。
【解決手段】 フォトレジスト用共重合体の製造法では、（Ａ）（ｉ）アルキル基で置換されていてもよいスチレン、（ii）下記式（１）


（式中、Ｒ¹は水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ²は炭素数１〜１２の第１級若しくは第２級アルキル基、オキシラン環若しくはオキセタン環含有基等を示す）で表される不飽和カルボン酸エステル、及び（iii）Ｎ−置換マレイミドの３種の単量体群より選択された少なくとも２種の単量体群に含まれる２以上のモノマーと、（Ｂ）アルカリ可溶性基含有モノマーとを、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）等の重合開始剤を用いて共重合させる。 （もっと読む）

【課題】従来の頭髪化粧料用基剤に比べ、耐湿性、セット保持力及び弾力性に優れ、フレーキングを生じず、且つ毛髪に塗布した際の仕上がり具合に優れた新規な頭髪化粧料用基剤、並びにこれに用いる共重合体の提供。
【解決手段】アゾ基含有ポリシロキサンの存在下、エチレン性不飽和カルボン酸、及び要すればエチレン性不飽和カルボン酸エステルを(共）重合させ、シロキサンセグメントとエチレン性不飽和カルボン酸単位、及び要すればエチレン性不飽和カルボン酸エステル単位とを構成成分として含んで成る頭髪化粧料用基剤用ブロック共重合体。 （もっと読む）