国際特許分類[C08K5/357]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 無機または非高分子有機物質の添加剤としての使用 (47,119) | 有機配合成分の使用 (22,300) | 窒素含有化合物 (5,478) | 異項原子として窒素を有する複素環式化合物 (2,468) | 異項原子として更に酸素を有するもの (254) | 6員環 (84)
国際特許分類[C08K5/357]に分類される特許
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フォトクロミック成形用樹脂組成物及びそれを用いた成形体
【課題】 従来のフォトクロミック成形用樹脂組成物では成し得なかった耐光性の向上と共に、発色濃度の向上、更には耐水性も付与できるため、製造時の制約が少なく、あらゆる分野に使用できる応用性に優れたフォトクロミック成形用樹脂組成物と、それを用いた成形体を提供する。
【解決手段】 スピロオキサジン誘導体又はスピロピラン誘導体から選ばれるフォトクロミック化合物を、重量平均分子量が200乃至6000のスチレン系オリゴマーに溶解してなるフォトクロミック材料と、成形用樹脂を含むフォトクロミック成形用樹脂組成物、及びそれを用いた成形体。
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新規イソベンゾキサジノン及び紫外線吸収剤としてのそれらの使用
本発明は、請求項1に挙げような、特に式(I)の新規置換イソベンゾキサジノン及び特に有機ポリマーのための紫外線吸収剤としてのそれらの使用に関する。 (もっと読む)
トリフェンジオキサジン顔料
本発明は、式(I)の新規なトリフェンジオキサジン顔料に関する。
[式中、Xは水素または塩素を表し、R1はC1〜C4アルキル、ハロゲン、C1〜C4アルコキシ、アセチルアミノ、アミノカルボニル、メチルアミノカルボニル、およびC1〜C4アルコキシカルボニルを含む基からの1から5個の基によって置換されたフェニル、または、5員環または6員環を形成するように、式、−NH−(CO)m−NR2−、−CR2=CH−CO−NH−、−CR2=N−CO−NH−、−CO−NH−CO−NR2−、−CO−(NH)m−CO−、または−O−(CO)m−NH−の二価基により、2,3または3,4位において縮合されたフェニルを表し、R2は、水素、メチル、エチル、またはフェニルを表し、およびmは、1または2を表す。]
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新規なジケトピロロピロール
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