【課題】
防藻性能、ＮＯｘなど有害なガス分解性能が良好で、耐候性にも優れる光触媒複合材を提供する。
【解決手段】
基材上に、有機防カビ剤を含む中間層と光触媒層とを備えた構造とする。光触媒層は、１質量％以上２０質量部未満の光触媒粒子と、７０質量部以上９９質量部未満の無機酸化物粒子と、任意成分として０質量％以上１０質量部未満の加水分解性シリコーンを、光触媒粒子、無機酸化物粒子、および加水分解性シリコーンの合計量が１００質量部となるように含んでなる。 （もっと読む）

【課題】基材に対する浸食を防止しながら、優れた耐候性および有害ガス分解性、ならびにその他の所望の特性（紫外線吸収性、透明性、膜強度等）を発揮する光触媒塗装体および光触媒コーティング液が提供される。
【解決手段】この光触媒塗装体は、基材と、該基材上に設けられる光触媒層とを備えてなる。光触媒層は、１質量部以上２０質量部未満の光触媒粒子と、７０質量部以上９９質量部未満の無機酸化物粒子と、０質量部以上１０質量部未満の加水分解性シリコーンと、０質量部以上１０質量部未満の界面活性剤とを、光触媒粒子、無機酸化物粒子、および加水分解性シリコーンの合計量が１００質量部となるように含んでなる。 （もっと読む）

【課題】誘電率が３以下と小さく、しかもマイクロフォトリソグラフィ加工時の酸素プラズマ耐性に優れるとともに機械的強度、耐アルカリ性などの耐薬品性、耐クラック性に優れた絶縁膜を形成できるような低誘電率シリカ系被膜形成用塗布液、およびこのような低誘電率シリカ系被膜が形成された基材を提供する。
【解決手段】(i)アルコキシシランの１種または２種以上を加水分解、または加水分解後、熟成して得られたシリカ微粒子の少なくとも一部の表面に、フェニル基含有アルコキシシランまたはフェニル基含有クロロシランの加水分解物を結合させて得られたフェニル基を有するシリカ系微粒子と、(ii)アルコキシシランおよび／またはハロゲン化シランの加水分解物と、ポリシラザンとの反応物であるポリシロキサザンとの反応物を含有することを特徴とする低誘電率シリカ系被膜形成用塗布液。 （もっと読む）

【課題】 水酸基含有塗料用樹脂の一般的な架橋剤であるポリイソシアナート化合物の反応性を向上させるために、有機金属化合物を配合し１パックとした硬化剤を安定に提供することである。また、該硬化剤を使用することで、安定した調色性を得ることである。
【解決手段】 主鎖末端および／または側鎖に水酸基を含有する塗料用樹脂（Ａ）、オルガノシリケート化合物（Ｂ）、塗料用着色剤（Ｃ）からなる組成物に対して、イソシアナート基を２個以上含有する化合物（Ｄ）、有機金属化合物（Ｅ）およびメルカプト基含有化合物（Ｆ）成分を配合した硬化剤を添加することで、硬化性、耐汚染性が向上するとともに調色安定性に優れた塗料となる。 （もっと読む）

【課題】充分な機械強度とともに、低誘電率であり密着性に優れた絶縁材料を形成するための、シランカップリング剤を含有する絶縁膜形成用組成物を有機溶媒に溶解した塗布液のポットライフを高める半導体層間絶縁膜形成用塗布液保存法を提供する。
【解決手段】シランカップリング剤を含有する半導体層間絶縁膜形成用塗布液を、接液面がプラスティックである容器に保存することを特徴とし、前記プラスティックがポリエチレン、弗素樹脂から選ばれる材質であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】微粒子本来の機能を損なうことなく、任意の基材表面にパターン状に絶縁性微粒子を１層のみ並べたパターン状の単層微粒子膜、および複数層累積したパターン状の積層微粒子膜、ならびにそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】パターン状の微粒子膜１、３は、第１の官能基を有する第１の膜化合物の形成するパターン状の被膜で被覆された基材１４の表面に、第１の官能基とカップリング反応により結合を形成する第１のカップリング反応基を有する第１のカップリング剤の形成する被膜で被覆された反応性微粒子４２が配列した微粒子層が、カップリング反応により形成される結合を介して１層結合固定されている。あるいは、さらにその上に第１のカップリング反応基と反応する膜化合物の被膜で被覆された微粒子３４および反応性微粒子４２が交互に結合固定されている。 （もっと読む）

【課題】 通常の半導体製造プロセスに用いられる方法によって、容易に、任意に制御された膜厚の薄膜が形成可能であり、機械強度及び誘電特性に優れた新たな多孔質膜形成用塗布液、及びこの多孔質膜を内蔵する高性能かつ高信頼性を備えた半導体装置を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１） Ｓｉ（ＯＲ¹）₄ （１）で表される４官能性アルコキシシラン化合物、及び、下記一般式（２） Ｒ²_nＳｉ（ＯＲ³）_4-n （２）で表されるアルコキシシラン化合物をそれぞれ少なくとも１種以上含む加水分解性シラン化合物を、酸性触媒の存在下、大過剰の水を含む反応液中で加水分解及び縮合を行って得たポリシロキサン化合物と酸化ケイ素系微粒子とを含有する多孔質膜形成用組成物である。 （もっと読む）

【課題】吸湿性が低く、低比誘電率であり、機械的強度に優れた絶縁膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、下記一般式（１）で表される化合物および下記一般式（２）で表される化合物の群から選ばれた少なくとも１種のシラン化合物５０〜１００モル％と他のシラン化合物０〜５０モル％とを加水分解縮合して得られた第１の加水分解縮合物と、下記一般式（１）で表される少なくとも１種のシラン化合物３０〜１００モル％と他のシラン化合物０〜３０モル％とを加水分解縮合して得られた第２の加水分解縮合物と、有機溶媒と、を含み、前記第２の加水分解縮合物の分子量は、前記第１の加水分解縮合物の分子量より大きい。Ｓｉ（ＯＲ^１）_４ ・・・・・（１）Ｒ^２_ａ（Ｒ^３Ｏ）_３−ａＳｉ−（Ｒ^６）_ｃ−Ｓｉ（ＯＲ^４）_３−ｂＲ^５_ｂ ・・・（２） （もっと読む）

本発明は、結合剤、その製造方法、ならびに配合物、表面被覆、ペイント、染料およびプラスチックにおけるその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】低誘電性、接着性に優れると共に十分な機械強度を有するシリカ系被膜を形成できるシリカ系被膜形成用組成物を提供すること。
【解決手段】本発明のシリカ系被膜形成用組成物は、（ａ）成分：式（１）；Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ（Ｒ^１は、Ｈ原子若しくはＦ原子、又はＢ原子、Ｎ原子、Ａｌ原子、Ｐ原子、Ｓｉ原子、Ｇｅ原子若しくはＴｉ原子を含む基、又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、ｎは０〜２の整数を示し、ｎが２のとき各Ｒ^１は同一でも異なってもよく、ｎが０〜２のとき各Ｘは同一でも異なってもよい）で表される化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：（ａ）成分を溶解可能な溶媒と、（ｃ）成分：オニウム塩と、（ｄ）成分：２５０〜５００℃で熱分解又は揮発する熱分解揮発性化合物とを含有し、オニウム塩の含有量はシリカ系被膜形成用組成物全量に対して０．００１ｐｐｍ〜５％である。 （もっと読む）