国際特許分類[C09K3/00]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用 (147,412) | 他に分類されない応用される物質;他に分類されない物質の応用 (32,573) | 物質であって,他に分類されないもの (8,286)
国際特許分類[C09K3/00]の下位に属する分類
ジョイントまたはカバーを,シールまたはパッキングするためのもの (1,972)
漏れを止めるためのもの,例えば,ラジエーターまたはタンクにおいて (22)
抗スリップ物質;研摩物質 (1,758)
帯電防止物質 (468)
氷,霧,水の付着を減少させるために表面に適用するもの;表面に適用する解氷用あるいは氷点降下用物質 (691)
非化学的用途における,グリセロールの代用物としてのもの,例.トイレットクリームまたは軟膏の基材としてのもの
塵埃落着用または塵埃吸収用のもの (67)
擬氷または擬雪用のもの
エアロゾル用のもの (124)
液体汚染物,例.油,ガソリンまたは脂肪を処理するためのもの (45)
国際特許分類[C09K3/00]に分類される特許
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化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】レジスト組成物の酸発生剤として好適な化合物、及び当該化合物を含有するレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される化合物。
[式(I)中、A+は、有機カチオンを表す。Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子等を表す。Lb1及びLb1‘は、炭素数1〜17の2価の脂肪族炭化水素基等を表す。Yb1は、炭素数1〜5のアルキル基を有していてもよいフェニレン基を表す。Xbは、メトキシメトキシ基等を表す。]、および、式(I)で表される化合物と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含有するレジスト組成物。
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたCD均一性で、レジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)、式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】レジストパターン形成時の露光マージン(EL)に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)及び式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
[式中、R2は、フッ素原子を有する炭化水素基;Q1及びQ2は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基;L1は、2価の飽和炭化水素基;Rf1及びRf2は、互いに独立に、フッ素原子又はフッ化アルキル基を表す。]
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抵抗低減剤及び抵抗低減剤を製造する方法
【課題】界面活性剤系抵抗低減剤では必要不可欠であった対イオンの添加が不要で導入が簡易であり且つ分子間相互作用によって自己集合する性質を持つ物質を使うことによりせん断力による長鎖状構造の劣化が発生しない抵抗低減剤を提供する。
【解決手段】管内を流れる液体の管摩擦抵抗を低減させるための抵抗低減剤は、液体中に均一に分散させられ且つネットワーク構造を形成した有機ナノチューブを含有する。このような抵抗低減剤は、有機ナノチューブを添加した液体を有機ナノチューブの液晶相転移温度以上に加熱した後、液晶相転移温度以下まで冷却することによって作製される。
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化合物及びフォトレジスト組成物
【課題】本発明の目的は、ELに優れると共に、得られるパターンのLWRを低減し、リソグラフィー特性を向上させることができるフォトレジスト組成物を与え得る感放射線性酸発生剤を提供することである。
【解決手段】本発明の化合物は、下記式(1)で表される。また、下記式(1)におけるR2は、炭素数1〜20の鎖状炭化水素基であることが好ましい。さらに、本発明は、[A]本発明の化合物、及び[B]酸解離性基を含む構造単位(I)を有する重合体を含有するフォトレジスト組成物も含む。
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたCD均一性でレジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥発生数が少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)、式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)及び式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
[式中、A14は、脂肪族炭化水素基を表す。]
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多糖類組成物、乳化剤、増粘剤、増粘乳化剤、離水防止剤、食品、多糖類組成物の製造方法
【課題】アラビアガムの代替品となる食品素材を提供する。
【解決手段】
担子菌類又は子嚢菌類の二核細胞・有性細胞を培養し、有機溶媒を添加し沈殿させて得るゼリー状物質を乳化剤、増粘剤、及び離水防止剤として用いる。有機溶媒は、エタノール、メタノール、アセトニトリル、アセトン、ヘキサンのいずれかを培養液の体積比で2倍以上加え、沈殿物を用いる。また、担子菌類はスッポンタケ、サンコタケ、カゴタケ、ツマミタケ、シラタマタケのいずれかであり、子嚢菌類は、ゴムタケ、オオゴムタケのいずれかである。
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プラズマディスプレイ用光学フィルタ
【課題】少ない近赤外線吸収色素の使用量で効率よく近赤外線を遮蔽し、かつ可視光領域への影響を低減した近赤外線遮蔽層を有することで、近赤外線遮蔽機能と経済性に優れる上に、用いるプラズマディスプレイの省エネ化にも寄与できるプラズマディスプレイ用光学フィルタを提供する
【解決手段】近赤外線遮蔽層を有するプラズマディスプレイ用光学フィルタであって、前記近赤外線遮蔽層が、下記第1の波長領域:800〜869nmに極大吸収波長を有する色素、第2の波長領域:870〜909nmに極大吸収波長を有する色素、第3の波長領域:910〜949nmに極大吸収波長を有する色素、および、第4の波長領域:950〜1000nmに極大吸収波長を有する色素を含有することを特徴とするプラズマディスプレイ用光学フィルタ。
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フッ素アルコールおよびこれを用いた撥水性ポリウレタン用組成物
【課題】相溶性に優れ、タックやブリードがなく、耐擦傷性に優れた硬化物を与え得るポリウレタン組成物に適した多官能含フッ素アルコール及びポリウレタン組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式(II)又は(III)で表される含フッ素アルコール及び撥水性ポリウレタン用組成物。
[式中、Rf1及びRf2は少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び/又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状のフッ化炭化水素基を表す。ただし、Rf1はq価であり、Rf2は1価である。qは2以上の整数を表す。また上記式中メチロール基のヒドロキシル基の水素原子は重合性基Qで置換されていてもよく、このQを導入した化合物のフッ素含有率は該化合物の分子量で35質量%以上であり、該化合物を重合させたとき、重合により得られ重合体の架橋間分子量の計算値がいずれも300以下となる。またqが2以上のとき、複数のQは同一でも異なってもよい。]
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