【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物およびその製造方法、該化合物の前駆体として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（ｂ１−１）で表される化合物。Ａは、当該Ａが結合した硫黄原子とともに３〜７員環構造の環を形成する２価の基であり、前記環は置換基を有していてもよい。Ｒ^２はＲ^５３−Ｒ^５４−（式中、Ｒ^５３は炭素数２〜１０のアルケニル基またはアリール基であり、Ｒ^５４は炭素数１〜５の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基である。）で表される基であり、ｎは０であり、Ｙ^１はフッ素置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキレン基である。
［化１］
（もっと読む）

【課題】各種基材との密着性が良好で、かつ基材表面に、耐水性、防曇性、防汚性、耐候性に優れる親水性表面を付与した組成傾斜膜を有する親水性部材を提供する。
【解決手段】基材２と、該基材上に設けられ、下記親水性材料１）及び樹脂材料２）を含む膜３とを有する親水性部材であって、該膜が膜の厚み方向において前記基材に最も近い側から最も遠い側に向かって１）の比率が大きくなり、かつ、２）の比率が小さくなるように、１）及び２）の組成が連続的に変化する組成傾斜膜である親水性部材。１）加水分解性シリル基含有親水性ポリマーを含有し、かつ前記ポリマーが主鎖末端又は側鎖に、特定の加水分解性シリル基を分子中に少なくとも１個有し、親水性基を分子中に少なくとも１個有する親水性材料。２）オリゴマー又はポリマーを含有する樹脂材料。但し、２）は上記１）の親水性材料とは異なる。 （もっと読む）

【解決手段】置換又は非置換のメチロール基と結合する窒素原子を含むウレア結合、アミド結合、又はウレタン結合を有する化合物と、ヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位を有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得ることを特徴とするパターン形成方法。
【効果】本発明に係るレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高い特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】金属錯体をカチオンとして含有するイオン性液体であって、前記金属錯体の中心金属に対し、気相等に存在する分子が配位又は脱離することにより状態が変化するイオン液体及び該イオン液体の利用方法を提供すること。
【解決手段】式


で表される金属錯体をカチオンとして含有することを特徴とするイオン液体。 （もっと読む）

【課題】ダニや花粉等のアレルゲン物質のアレルゲン性を低減化させる抗アレルゲン組成物とし、さらに抗アレルゲン組成物で加工した不織布、繊維または繊維製品などの抗アレルゲン加工品が、水洗されてもアレルゲン性を低減化させる機能を失わずに耐久性よく保持し、さらに着色や変色を起こさないこと、またこれらの組成物や加工品を用いて環境中に存在するアレルゲン性物質のアレルゲン性を効率よく低減化できるようにすることである。
【解決手段】平均粒子径５μｍ以下の微粒子状酸化タングステンを含有する抗アレルゲン組成物とする。酸化タングステンは、白金、銅、亜鉛、ニッケルおよびコバルトなどのような遷移金属を担持した酸化タングステンであってもよく、このような抗アレルゲン組成物を加工した塗料、コーティング剤、樹脂製品、壁紙、不織布、繊維または繊維製品とする。さらにこれらを人の生活環境で用いることからなるアレルゲン物質のアレルゲン低減化方法とする。 （もっと読む）

【課題】新規なオイルゲル化剤の提供。
【解決手段】一般式［Ｉ］又は［ＩＩ］で表されるスクアリン酸誘導体を含む、オイルゲル化剤。


［式中、Ｒ₁、Ｒ₃、Ｒ₃は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよい複素環アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、又は置換基を有していてもよい複素環基を表し、Ｘは水素原子又はアルカリ金属原子を表す。］ （もっと読む）

【課題】 二硫化炭素等のガス発生の少ない重金属処理剤を提供する。
【解決手段】
ピペラジン−Ｎ，Ｎ’−ビスカルボジチオ酸塩及び／又はピペラジン−Ｎ−カルボジチオ酸塩、Ｎ−ビニルピペラジン−Ｎ’−カルボジチオ酸塩、及び水を含んでなる重金属処理剤を用いる。当該重金属処理剤はＮ−ビニルピペラジンを含むピペラジンと二硫化炭素、アルカリ金属水酸化物を反応させて得られる。ピペラジン中のＮ-ビニルピペラジンはガスクロマトグラフィーで検出されるピーク面積で、ピペラジンに対して０．０１〜０．２面積％であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】赤外線遮蔽機能に優れ、可視光透過性も良好でヘイズ値も低い熱線遮蔽合わせガラスの提供を可能とする赤外線（熱線）遮蔽材料微粒子分散液等を提供する。
【解決手段】上記分散液は、タングステン酸化物微粒子または／および複合タングステン酸化物微粒子により構成される赤外線遮蔽材料微粒子と、可塑剤および分散安定剤を含有し、上記分散安定剤が、（I）リン酸エステル系化合物、硫酸エステル系化合物、ポリビニルアルコールから選択される少なくとも１種と（II）有機酸および（III）キレート剤を含んでいることを特徴とする。この分散液においては、上記分散安定剤の作用により分散媒として作用する可塑剤内における赤外線遮蔽材料微粒子の分散性が改善されるため、この分散液とポリビニルアセタール樹脂を混合して成る樹脂組成物により熱線遮蔽合わせガラスの中間膜を構成することでヘイズ値の改善が図れる。 （もっと読む）

【課題】新規な化合物、及びその利用を提供する。
【解決手段】本発明は、下記一般式（１）又は（２）、
【化１】


（Ｒ１〜Ｒ１０は互いに独立に、水素原子、置換基を有していてもよい芳香環基、又は炭素数０〜２０の非芳香環置換基を表し、Ｒ１〜Ｒ４から選択される２つの置換基同士、及びＲ５〜Ｒ８から選択される２つの置換基同士は結合して環を形成してもよい。）
で表される化合物、及びこれらの利用を提供する。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン製造時のマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を十分に満足するレジスト組成物及び該レジスト組成物に含有される新規な塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。（式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、フッ素原子等を表す。Ｌ^１は、脂肪族飽和炭化水素基等を表し、該脂肪族飽和炭化水素基のメチレン基は、酸素原子等に置き換わっていてもよい。Ｌ^２は、脂肪族飽和炭化水素基を表し、該脂肪族飽和炭化水素基のメチレン基は、酸素原子−ＮＲ^２−等に置き換わっていてもよい。Ｒ^２は、水素原子又はアルキル基を表す。環Ｗは、脂肪族環を表し、該脂肪族環を構成するメチレン基は、酸素原子等で置き換わっていてもよく、該脂肪族環に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基等で置換されていてもよい。Ｒ^１は、フッ素置換芳香環を含む１価の有機基であり、該有機基は置換基を有していてもよい。Ｚ^＋は、有機対イオンを表す。）
（もっと読む）