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国際特許分類[C11D1/72]の内容

国際特許分類[C11D1/72]に分類される特許

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【課題】生乾き臭の発生を抑制し、かつ香りの保存安定性に優れ、香り立ちもよい繊維製品用液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】成分(A)〜(D)を含有する繊維製品用液体洗浄剤組成物。
(A) 一般式(1)で表される非イオン界面活性剤 30〜70質量%
R(CO)pO−[(C24O)q/(AO)r]R' (1)
(B) 過酸化水素 0.3〜10質量%
(C) カチオン界面活性剤 0.1〜5質量%
(D) 成分(d1)を20〜100質量%含有し、成分(d2)の許容含有量が10質量%である香料組成物
(d1) ジヒドロミルセノール、γ-ウンデカラクトン、クマリン等から選ばれる1又は2以上の香料
(d2) ジメチルベンジルカルビニルアセテート、フェニルヘキサノール、酢酸シトロネリル及びヘリオトロピンから選ばれる1又は2以上の香料 (もっと読む)


【課題】コンタクトレンズに吸着すると眼の傷害の原因となりうるような抗菌剤や薬剤成分のコンタクトレンズへの吸着を抑制すると共に、高い洗浄力と良好な使用感を得ることにより、安全で快適なコンタクトレンズ用液剤及びコンタクトレンズの処理方法を提供することにある。
【解決手段】(a)陰イオン性界面活性剤及び/または非イオン性界面活性剤からなる群より選ばれた少なくとも一種の界面活性剤と、(b)セルロース系高分子、ビニル系高分子、マクロゴール、ペプチド系高分子、無水マレイン酸共重合体からなる群より選ばれた少なくとも一種の起泡安定化剤とを含有させ、泡状態として密閉せしめると、起泡安定性が向上し、これにコンタクトレンズを保存することにより、抗菌剤や薬剤成分のコンタクトレンズへの吸着が抑制されると共に、高い洗浄力が得られる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、安全性が高く、かつ、貯蔵安定性の優れた過酢酸製剤を使用して、被洗物に付着した耐熱性菌を、高い信頼性で洗濯殺菌できるのみならず、洗濯中の作業環境を損なわず、かつ、廃液処理が容易な洗濯方法を提供する。
【解決手段】アルカリ洗剤と過酢酸製剤とを使用する被洗物の洗濯方法において、被洗物を予洗し、該予洗に使用した水を抜き取り、次いで、アルカリ洗剤と過酢酸製剤とを含む水であって、該水中の過酢酸濃度が10〜500質量ppmである水により、上記の予洗した被洗物を、更に本洗することを特徴とする洗濯方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、取扱いが容易で安全性が高い過酢酸製剤を使用して、被洗物に付着した耐熱性菌を、高い信頼性で洗濯殺菌できるのみならず、洗濯中の作業環境が良好で、かつ、廃液処理が容易で環境に好ましいばかりか、本洗後の濯ぎ工程で過酢酸製剤を使用すると、乾燥後に高いサワー効果を付与し得る洗濯方法を提供する。
【解決手段】アルカリ洗剤及び過酢酸製剤を使用する被洗物の洗濯方法において、過酢酸1.0〜6.0質量%、過酸化水素1.0〜6.0質量%、酢酸20〜40質量%、及び、水の合計100質量%から成る過酢酸製剤を使用し、かつ、該過酢酸製剤を含む水であって、該水中の過酢酸濃度が10〜500質量ppmである水により、被洗物を殺菌することを特徴とする洗濯方法。 (もっと読む)


【課題】
化合物半導体基板の予備洗浄(プレ洗浄)技術の課題であった、洗浄力不足等の課題を解決すると共に、繰り返し使用時の洗浄スタミナ性を向上させた予備洗浄(プレ洗浄)剤組成物を提供することにある。
【解決手段】
炭化水素、グリコールエーテル、ノニオン性界面活性剤、分岐炭素鎖を有するエタノールアミンを含有する洗浄剤組成物により、研磨処理後の半導体基板、特にGaAs、サファイア、SiCのような化合物半導体と呼ばれる基板、に付着したワックス、研磨剤、パーティクル(研削屑等の異物)の汚れの除去に好適に使用しうるプレ洗浄剤組成物を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、界面活性剤を配合した過酢酸系の殺菌洗浄剤において、良好な殺菌力と洗浄力と共に、容器の材質である樹脂に長期間接触しても当該樹脂を劣化させず、更に刺激臭の少ない過酢酸系の殺菌洗浄剤組成物を提供することにある。
【解決手段】本発明は、過酢酸1質量部に対して、過酸化水素を1.5〜4質量部、酢酸を10〜20質量部、下記の一般式(1)で表されるノニオン界面活性剤を0.1〜2質量部及び水を含有する組成物であって、組成物全量に対する過酢酸の濃度が2.5質量%以下であることを特徴とする殺菌洗浄剤組成物である:
−O−(−R−O−)−H (1)
(式中、Rは、炭素数8〜18の炭化水素基を表し、Rは、炭素数2又は3のアルキレン基を表し、nは、6〜20の数を表す) (もっと読む)


【課題】化学的洗浄剤と胞子、細菌、または真菌の両者を含む安定な洗浄用組成物を提供する。
【解決手段】胞子、細菌、または真菌;および、
硼酸塩、
を含む洗浄用組成物。 (もっと読む)


【課題】金属の混入や露光などの過酷な条件下においても過酸化水素を安定に配合でき、ガス発生レベルで過酸化水素分解を抑制すると共に、長期保存後も液の黄変化や分離など、品質劣化を起こさない、過酸化水素と高濃度の界面活性剤を含有する液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)過酸化水素、(B)特定の非イオン界面活性剤、(C)有機ポリホスホン酸又はその塩、(D)特定のヒドロキシフェニル化合物、(E)(E1)炭素数8〜22の脂肪酸又はその塩及び(E2)カルボキシ基を有する構成単位を有する高分子重合体から選ばれる1種以上のカルボン酸系化合物、並びに水を含有し、JIS K3362:2008の8.3項に記載の20℃におけるpHが3.0〜6.0である、液体洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】クーラント、砥粒、あるいはシリコン粉に対する優れた洗浄性能を有し、かつ、その後のエッチング工程において良好なテクスチャーを形成することができるウェハ表面を作り上げることができるシリコンウェハ用表面処理剤組成物を提供する。
【解決手段】次の成分(a)〜(d)からなる;(a)エーテル型非イオン界面活性剤0.1〜40重量%、R−O−(AO)n−H、R:炭素数8〜24の直鎖又は分岐の脂肪族炭化水素基、AO:炭素数2〜4のオキシアルキレン基、n:1〜100(b)アルキルポリグルコシド5〜40重量%、R−O−(G)n−H、R:炭素数1〜22の直鎖又は分岐のアルキル基、G:炭素数5〜6の還元糖、n:1〜5(c)アルカリ剤1〜30重量%(d)水、前記成分(a)、(b)、(c)との合計量100重量%中の残部。 (もっと読む)


【課題】化学系洗浄剤と、胞子、細菌、真菌又は酵素との両方を含む固体組成物が必要とされている。
【解決手段】本発明は、ボレート塩及び胞子(細菌又は真菌)、植物性細菌、真菌又は酵素を含む安定な固体クリーニング組成物と、当該組成物を用いる方法とに関する。 (もっと読む)


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