説明

国際特許分類[C11D3/34]の内容

国際特許分類[C11D3/34]に分類される特許

1 - 10 / 195


【課題】起泡性と泡消え性の両方に優れた硫酸エステル塩を高濃度で含有し、且つ流動性に優れたアニオン界面活性剤組成物を提供する。
【解決手段】(a)エチレンオキシ基・プロピレンオキシ基のブロック付加構造を有する特定の硫酸エステル塩及びプロピレンオキシ基・エチレンオキシ基のブロック付加構造を有する特定の硫酸エステル塩から選ばれる硫酸エステル塩、(b)特定のプロピレングリコール硫酸エステル塩、及び(c)水を含有するアニオン界面活性剤組成物。 (もっと読む)


【課題】弱酸性乃至中性領域で大腸菌及び黄色ブドウ球菌に対する殺菌力に優れ、更に泡立ち、泡のクリーミー性、及びすすぎ性に優れ、皮膚刺激性の少ない液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】(A)ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸カリウム6質量%〜20質量%、(B)ノニオン性殺菌剤、及び(C)キレート剤のカリウム塩を含有し、前記(A)成分の含有量と、前記(C)成分の含有量との質量比(A/C)が、3〜200である液体洗浄剤組成物である。25℃でのpHが4〜7である態様、更に(D)多価アルコールを含有する態様、などが好ましい。 (もっと読む)


【課題】幅広い臭気を防臭できる繊維製品用洗浄剤を提供する。
【解決手段】アニオン界面活性剤(A)と、銅、マンガン、ニッケル、鉄及び亜鉛から選択される少なくとも1種(B)と、前記(B)成分に含まれる金属と錯体を形成するアミノカルボン酸型金属イオン封鎖剤(C)と、カチオン化セルロース(D)とを含有することよりなる。前記(B)成分/前記(C)成分で表されるモル比は、1/3〜5であることが好ましく、特定の有機過酸前駆体(E)と、過酸化水素又は水中で過酸化水素を発生する過酸化物(F)とを含有することがより好ましい。 (もっと読む)


【課題】食品で、特に酪農製品で汚れたポリオレフィン系材料の表面を洗浄する方法に関する。より詳細には、食品で、特に酪農製品で汚れた1種または複数のハロゲン化または非ハロゲン化ポリオレフィンをベースとする材料を洗浄する方法であり、特に、環境に対してだけでなく、汚れたポリオレフィン系材料に対しても損耗および断裂を最小にして安全である方法を提供する。
【解決手段】汚れた材料を1から4個の間の炭素原子を有するアルカンスルホン酸をベースとする水性組成物と接触する。 (もっと読む)


【課題】低温安定性が良好であり、低温条件下でも泡吐出容器から充分な泡量で吐出可能である液体洗浄剤を提供すること。
【解決手段】内溶液を泡状に吐出する泡吐出容器に収容されて用いられる液体洗浄剤において、一般式(a1)で表される化合物(a)と、芳香族スルホン酸、芳香族スルホン酸塩、芳香族カルボン酸、芳香族カルボン酸塩、及び炭素数2〜4のアルコールからなる群より選択される少なくとも一種(b)とを含有する液体洗浄剤。式(a1)中、xとyはそれぞれ1〜7の整数であり、x+y=8である。POはオキシプロピレン基、EOはオキシエチレン基を表す。pはPOの平均繰返し数、qはEOの平均繰返し数を表し、p+qは1〜10である。Mはアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又はアルカノールアミンを表す。
[化1]
(もっと読む)


【課題】低温安定性が良好であると共に、泡立ちが速い液体洗浄剤を提供する。
【解決手段】(a1)で表される化合物(a)と、式(b1)で表される化合物(b)と、芳香族スルホン酸(塩)、芳香族カルボン酸(塩)及び炭素数2〜4のアルコールから選択される少なくとも一種とを含有し、(a)成分/(b)成分で表される質量比が6以下である液体洗浄剤。


(RはC8〜24の直鎖アルキル又はアルケニル基。nは1〜5。xとyはそれぞれ1〜7の整数で、x+y=8である。p+qは1〜10である。EOはオキシエチレン基、POはオキシプロピレン基を表す。M及びMはそれぞれアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又はアルカノールアミンを表す。 (もっと読む)


【課題】安価で、且つ安全性が高く、迅速にアレルゲンに作用してアレルゲン活性を低減させることができるアレルゲン活性低減物質の提供。
【解決手段】アレルゲンに直接作用してアレルゲンの活性を低減させる、スルホン酸基を有する物質であり、このようなアレルゲン活性低減物質の一種としては、海藻から抽出された海藻抽出物質がある。海藻は褐藻類又は紅藻類であることが好ましく、特にシキンノリ及びヒジキからの抽出物質は、50%以上のアレルゲン低減率を有す。 (もっと読む)


【課題】半導体基板や金属配線の腐食や酸化を起こすことなく、基板表面の微細粒子や金属不純物を除去し得、金属腐食防止剤-Cu皮膜の除去せずに基板表面のカーボン・ディフェクトをも同時に除去し得る処理方法。
【解決手段】ベンゾトリアゾール又はその誘導体含有スラリーで処理された半導体基板を、〔I〕カルボキシル基を少なくとも1個有する有機酸0.05〜50重量%、〔II〕ポリホスホン酸類、アリールホスホン酸類、及びこれらのアンモニウム塩又はアルカリ金属塩からなる群より選ばれる少なくとも1種の錯化剤0.01〜30重量%、〔III〕炭素数1〜5の飽和脂肪族1価アルコール、炭素数3〜10のアルコキシアルコール、炭素数2〜16のグリコール、炭素数3〜20のグリコールエーテル、炭素数3〜10のケトン及び炭素数2〜4のニトリルからなる群より選ばれる少なくとも1種の有機溶媒0.05〜50重量%を含んでなる洗浄剤。 (もっと読む)


【課題】本発明は、より洗浄性の高いハードディスク用ガラス基板用のアルカリ洗浄剤組成物、及びそれを用いて行うハードディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ剤(成分A)と、キレート剤(成分B)と、アンモニウム基及びアミノ基のうちの少なくとも1つを含む構成単位(c1)と、陰イオン性基を含む構成単位(c2)とを含む両性高分子化合物(成分C)と、水(成分D)と、を含有し、成分D以外の成分の含有量の合計を100重量%としたとき、成分Aの含有量が10〜55重量%であり、成分Bの含有量が5〜60重量%であり、成分Cの含有量が5〜60重量%であり、且つ、成分Aと成分Bと成分Cの合計含有量が30〜100重量%であるハードディスク用ガラス基板用のアルカリ洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】油汚れに対する洗浄力に優れると共に、低温での安定性が良好で、油共存下でも洗い始めから泡量が多く、その持続性も良好な液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】式(a1)及び、式(b1)で表される化合物と、両性及び/又は半極性界面活性剤(c)とを含有する液体洗浄剤組成物。
(もっと読む)


1 - 10 / 195