【課題】合成樹脂を含む複合材料、又は合成樹脂が付着した固体基材から、合成樹脂を溶解・剥離するための溶剤組成物の提供。
【解決手段】（ａ）Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ノルマルプロピルブロマイド、γ−ブチロラクトン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、及びトリエタノールアミンからなる群より選択される有機溶媒３０質量％〜９５質量％、（ｂ）塩基性無機化合物０．５質量％〜５．０質量％、及び（ｃ）グリセリン４．５質量％〜６５質量％からなる合成樹脂溶剤組成物。 （もっと読む）

【課題】高いスケール付着抑制効果と高い洗浄性を有する自動洗浄機用粉末洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ポリカルボン酸系ポリマーを６重量％以上、（Ｂ）トリポリリン酸及びその塩から選ばれる化合物を２０〜４０重量％含有する自動洗浄機用粉末洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を酸性研磨液で研磨した後にアルカリ洗浄する工程を有するガラスハードディスク基板の製造方法であって、研磨工程において研磨速度を維持したまま、アルカリ洗浄工程におけるガラス基板の表面粗さの悪化を抑制し、さらに清浄性を向上できるガラスハードディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】以下の工程（１）及び（２）を含むガラスハードディスク基板の製造方法。
（１）分子内に窒素原子を２〜１０個有する多価アミン化合物を含有するｐＨ１．０〜４．２の研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程。
（２）工程（１）で得られた基板を、ｐＨ８．０〜１３．０の洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程。 （もっと読む）

【課題】飲料等の液体製品の製造過程において、液体製品中から不溶性物質等を分離するための分離膜に蓄積された濾過物の洗浄性に優れ、分離膜を短時間で効率良く洗浄することができる分離膜用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明の分離膜用洗浄剤組成物は、（Ａ）成分として、アルカリ剤、（Ｂ）成分として、次亜塩素酸塩、（Ｃ）成分として、重合リン酸塩、（Ｄ）成分として、ホスホン酸塩を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ｐＨを長期間高く(アルカリ側)維持できる殺菌効果に優れたアルカリ洗浄水を提供する。
【解決手段】 ホッキ貝などの貝殻を１０００℃以上で焼成して得られたＣａＯ（酸化カルシウム）の飽和水溶液中に、セルロースが０．１重量％以上添加され、ＣａＣＯ_３が沈降しにくくなっている。 （もっと読む）

【課題】リンス剤を用いることなく、且つ洗浄剤を継ぎ足しながら洗浄する連続運転を長期間行っても、食器がすぐに乾く速乾性の効果（リンス効果）が得られる食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ剤、（Ｂ）キレート剤および（Ｃ）下記の一般式（１）及び／又は一般式（２）で表される組成で、且つ重量平均分子量が１０万〜５００万のポリマーを含有する食器洗浄機用洗浄剤組成物。


（Ｒ^１は炭素数１〜３のアルキル基を表し、ｍ及びｎはそれぞれ３０〜７００００の数を表し、ｍ／ｎ＝１／９〜９／１である。）
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【課題】配線構造や層間絶縁構造を損傷することなく、半導体基板上のプラズマエッチング残渣を十分に除去しうる洗浄組成物、及び前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】５７〜９５重量％の（成分ａ）水、１〜４０重量％の（成分ｂ）第２級水酸基及び／又は第３級水酸基を有するヒドロキシ化合物、（成分ｃ）有機酸、並びに、（成分ｄ）第４級アンモニウム化合物、を含有し、ｐＨが５〜１０であることを特徴とする、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物により、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣を洗浄する工程を含む、半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】配線構造や層間絶縁構造を損傷することなく、半導体基板上のプラズマエッチング残渣を十分に除去しうる洗浄組成物、及び前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】（成分ａ）水、（成分ｂ）ヒドロキシルアミン及び／又はその塩、（成分ｃ）塩基性化合物、（成分ｄ）有機酸、並びに、０．１重量％以上、０．５重量％未満の（成分ｅ）無機酸及び／又はその塩、を含み、ｐＨが６〜８であることを特徴とする、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物により、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣を洗浄する工程を含む、半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、粒状洗濯用洗剤および他の消費製品での使用のための、にじまずかつ迅速に色を放出する着色スペックルに関する。このスペックルは多孔質キャリアと、放出材と、着色剤とから構成されている。 （もっと読む）

【課題】ミストによるステンレスの腐食が生じることがなく、茹で槽に付着したリン酸塩を含むスケール汚れを除去することができる洗浄剤を提供すること。
【解決手段】
製麺工場で用いられるステンレス製茹で麺装置に付着したスケール汚れを除去するための茹で麺装置用酸性洗浄剤であって、メタンスルホン酸と、硝酸と、リン酸とを含み、上記硝酸の含有割合が１〜２０重量％であることを特徴とする茹で麺装置用酸性洗浄剤。 （もっと読む）