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国際特許分類[C22C16/00]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理 (53,456) | 合金 (38,126) | ジルコニウムを基とする合金 (94)

国際特許分類[C22C16/00]に分類される特許

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【課題】耐クリープ性及び耐食性が著しく改善された原子炉に用いられる要素の製造用ジルコニウム系合金の提供。
【解決手段】イオウを8〜100 ppm含有するジルコニウム系合金を使用する。 (もっと読む)


【課題】
優れた耐食性を有する原子力用ジルコニウム合金組成物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
ニオブ1.3〜2.0重量%、鉄0.05〜0.18重量%、ケイ素0.008〜0.012重量%、炭素0.008〜0.012重量%、酸素0.1〜0.16重量%及びジルコニウム残部、またはニオブ2.8〜3.5重量%
、鉄または銅の少なくとも一方0.2〜0.7重量%、ケイ素0.008〜0.0 12重量%、炭素0.008〜0.012重量%、酸素0.1〜0.16重量%及びジルコニウム残部を含む原子力用優れた耐食性を有するジルコニウム合金組成物及びその製造方法を提供する。
本発明によるジルコニウム合金組成物は、第1合金元素であるニオブと第2合金元素である鉄または銅の少なくとも一方の添加量を適切に調節して、ケイ素、炭素、酸素を適量添加することで優れた耐食性を示すので軽水炉及び重水炉原電の核燃料被覆管、支持格子、炉心構造物材料等に有用に使用することができる。 (もっと読む)


【課題】鍵の型を取られても合鍵を作製することができない鍵を提供する。また、真正な鍵か否かを高精度に判定できる真偽判定装置、及び施錠装置を提供する。更に、真正な鍵か否かを高精度に判定できる真偽判定プログラム、及び施錠プログラムを提供する。
【解決手段】本発明に係る鍵は、表面に中心線平均粗さRaが0.1μm以上1000μm以下である凹凸領域を有し、少なくとも該凹凸領域が体積率50%以上100%以下の非晶質相を有する非晶質合金を含んで構成される非晶質合金部材が所定の領域に設けられている。 (もっと読む)


【課題】水素透過性と耐水素脆化性とを有し、473K以上で使用可能な結晶質の複相水素透過合金を提供することを目的とする。
【解決手段】複合相からなり、前記複合相が、Taを固溶したNiZr相とNiを固溶したZrTa相との共晶(NiZr+ZrTa)構造、初相として生成する前記ZrTa相が前記共晶に囲まれている構造、或いは初相として生成する前記NiZr相が前記共晶に囲まれている構造を有し、Ni−Zr−Ta3元状態図上で、Ni45Zr55、Ni55Zr45、Ni50Zr30Ta20、Ni40Zr30Ta30、Ni25Zr15Ta60、Ni15Zr25Ta60(ただし、合金組成はすべて原子%)で囲まれた領域内の合金組成を有する複相Ni−Zr−Ta系の結晶質複相水素透過合金である。 (もっと読む)


電子装置で使用されるための金属ゲッターシステムが提供される。ここで教示される該ゲッターシステムは、電解キャパシタのような電解装置内にある電解環境においてゲッターの不動態化という問題を生じることなく用いられるための区画された金属ゲッターシステムを含む。そのようなシステム(50)は、コンテナ(51)、電極(52)および電気的接点(54、54’)を有する電解キャパシタ(50)の中央部に挿入される。
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【課題】本発明はナノサイズの多孔性金属ガラス及びその製造方法に関する。
【解決手段】本発明による多孔性金属ガラスは50.0at%乃至70.0at%のTi、0.5at%乃至10.0at%のY、10.0at%乃至30.0at%のAl、10.0at%乃至30.0at%のCo及びその他の不純物を含み、Ti+Y+Al+Co+ その他の不純物=100.0at%である。 (もっと読む)


【解決手段】本発明は、水素の可逆貯蔵に適合される材料の作製方法に関し、マグネシウムに基づく材料の第1粉末を供給するステップと、第1粉末の少なくとも一部を金属水素化物に転換するために第1粉末を水素化するステップと、水素化された第1粉末を、チタンとバナジウムとクロム又はマンガンから選択された少なくとも1つの他の金属とに基づく体心立方構造を有する合金から形成されている第2粉末添加物と混合するステップとを備え、得られた混合物の第2粉末の質量比が1質量%と20質量%との間にあり、更に、第1粉末及び第2粉末の混合物を粉砕するステップを備える。
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【課題】CoZr金属間化合物薄板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のCoZr金属間化合物薄板の製造方法は,Zr:49〜50.5at%を含有し,残部がCo及び不可避不純物からなるCoZr鋳塊に対して均質化熱処理を施した後,1173〜1323Kで第1熱間圧延し,773〜1073Kで第2熱間圧延し,973〜1323Kで再結晶熱処理し,その後,冷間圧延をする工程を備える。 (もっと読む)


ガラス部品(10)にゲッター粒子(11)の層を形成する方法が記載され、該方法は、該ゲッター粒子を該ガラス部品と接触させること、およびレーザーを用いて該ガラスを介して粒子に放射すること、該ガラスの軟化温度よりも高い温度であるが、該粒子の溶融温度よりも低い温度で同粒子を加熱すること、に存する。 (もっと読む)


【課題】 ターゲット用の高純度活性金属の製造に用いる還元剤金属の高純度化およびこれを用いた高純度活性金属を効率よく製造する技術を提供する。
【解決手段】 溶融状態の原料金属に固体状の活性金属を接触させ、原料金属中の不純物を活性金属に吸着もしくは結合させて不純物を除去する。また、上記の方法により精製した原料金属を還元剤として用い、活性金属の塩化物と接触させ還元させる。 (もっと読む)


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