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国際特許分類[C22C21/00]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理 (53,456) | 合金 (38,126) | アルミニウム基合金 (2,753)

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【課題】半導体装置の製造工程で高温下に曝された場合であっても、ヒロックの発生が抑制されて耐熱性に優れ、かつ膜自体の電気抵抗率が低く抑えられた半導体装置用Al合金膜を提供する。
【解決手段】500℃で30分間保持する加熱処理を行った後に下記(a)〜(c)を全て満たし、かつ膜厚が500nm〜5μmであることを特徴とする半導体装置用Al合金膜。(a)Alマトリックスの最大粒径が800nm以下(b)ヒロック密度が1×10個/m未満(c)電気抵抗率が10μΩcm以下 (もっと読む)


【課題】特に横方向の応力に対する耐久性に優れており、Al反射膜を有機層と直接接続させても発光強度のムラがなく安定した発光特性を確保でき、しかも高歩留まりを実現可能なAl合金反射膜を備えた有機ELディスプレイ用の反射アノード電極を有する配線構造を提供する。
【解決手段】基板1上に、有機ELディスプレイ用の反射アノード電極を構成するAl合金膜6、および発光層8を含む有機層を有する配線構造であって、Al合金膜6は、希土類元素を0.05〜5原子%含有し、且つ、ヤング率は80〜200GPaであり、結晶粒の定方向接線径(Feret径)の最大値が100〜350nmであり、Al合金膜6の上に発光層8を含む有機層が直接接続しているものである。 (もっと読む)


【課題】金属焼結体中に微細炭素繊維が粉砕されずに繊維の形状を維持したまま均一に分散した、発熱体の熱を効果的に放散することができる熱拡散材料およびその製造方法を提供する。
【解決手段】金属焼結体のマトリックス中に微細炭素繊維が均一に分散されてなる熱拡散材料、ならびに、(A)微細炭素繊維の分散液を作製する工程、(B)前記金属焼結体を構成する金属材料からなる金属粒子の表面に有機系の官能基を導入する工程、(C)前記分散液に前記官能基が導入された金属粒子を添加し、前記金属粒子の表面に前記官能基を介して前記微細炭素繊維が吸着した複合粒子を作製する工程、および(D)前記複合粒子を焼結する工程を有する上記熱拡散材料の製造方法。 (もっと読む)


【課題】様々な形状の接合部においても、接合部に十分なフィレットを形成して良好なろう付け性を得るフラックスレスのろう材を提供する。
【解決手段】Al−Si系ろう材が芯材にクラッドされて最表面に位置するアルミニウムクラッド材を用いるろう付方法であって、前記Al−Si系ろう材が、質量%で、Mgを0.2〜5.0%、Siを3〜13%含有し、さらに600℃における蒸気圧が10Torr以上の元素を含有し、残部がAlと不可避不純物からなる組成を有し、減圧を伴わない非酸化性雰囲気中で、前記Al−Si系ろう材とろう付対象部材とを接触させ、加熱温度559〜620℃において、前記Al−Si系ろう材によりフラックスレスで接触部において前記芯材と前記ろう付対象部材とを接合する。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の製造工程で高温下に曝された場合であっても、ヒロックの発生が抑制されて耐熱性に優れ、かつ膜自体の電気抵抗率が低く抑えられたAl合金膜を有する半導体電極構造を提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも、基板側から順に、高融点金属の窒化物薄膜と、Al合金膜とを備えた半導体電極構造であって、前記Al合金膜は、500℃で30分間保持する加熱処理を行った後に下記(a)〜(c)を全て満たし、かつ膜厚が300nm〜5μmであることを特徴とする半導体電極構造。(a)Alマトリックスの最大粒径が1μm以下(b)ヒロック密度が1×10個/m未満(c)電気抵抗率が10μΩcm以下 (もっと読む)


【課題】Al反射膜を有機層と直接接続させても、光沢度が高く、色彩の表現力に優れたAl合金反射膜を備えた有機ELディスプレイ用の反射アノード電極を含む配線構造を提供する。
【解決手段】基板1上に、有機ELディスプレイ用の反射アノード電極を構成するAl合金膜6、および発光層を含む有機層8を有する配線構造であって、Al合金膜6は、希土類元素を0.05〜5原子%含有し、且つ、光沢度は800%以上であり、Al合金膜6の上に発光層8を含む有機層が直接接続しているものである。 (もっと読む)


【課題】特に縦方向の応力に対する耐久性に優れており、Al反射膜を有機層と直接接続させても発光強度のムラがなく安定した発光特性を確保でき、しかも高歩留まりを実現可能なAl合金反射膜を備えた有機ELディスプレイ用の反射アノード電極を有する配線構造を提供する。
【解決手段】基板1上に、有機ELディスプレイ用の反射アノード電極を構成するAl合金膜6、および発光層8を含む有機層を有する配線構造であって、Al合金膜6は、希土類元素を0.05〜5原子%含有し、且つ、硬度は2〜3.5GPaであり、Al合金組織に存在する粒界三重点の密度は2×108個/mm2以上であり、Al合金膜6の上に発光層8を含む有機層が直接接続しているものである。 (もっと読む)


【課題】自動車用信号線として使用することができる高い引っ張り強度及び高い導電率を備えた安価なアルミニウム導線の製造方法及び電線を提供する。
【解決手段】アルミニウムの含有量が99.7質量%以上かつ99.85質量%未満のアルミニウム原料に対して、銅を全体の2質量%以上かつ5.5質量%以下となるように添加して荒引線を鋳造する鋳造工程と、鋳造工程で鋳造された荒引線を、350℃以上かつ600℃以下の温度で、0.1時間以上かつ100時間以下加熱する固溶工程と、固溶工程で加熱された荒引線を、5℃/秒以上の冷却速度で室温まで冷却する冷却工程と、冷却工程で冷却された荒引線を所定径となるように細長く伸ばして伸線を得る伸線工程と、伸線工程で得られた伸線を、室温以上且つ300℃以下の温度で、1時間以上且つ100時間以下時効する時効工程と、を順次経て、アルミニウム導線を得る。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、フラックスを使用しない不活性ガス中でのろう付に使用するブレージングシートであって、所定の合金組成とクラッド構成を有することで、良好なろう付が可能なブレージングシートの提供を目的とする。
【解決手段】 心材の片面または両面にろう材をクラッドし、ろう材の心材と接する反対の面に薄皮材をクラッドしたブレージングシートにおいて、ろう材はSiを5〜15mass%、Mgを0.1〜5mass%含有し、残部がAlと不可避的不純物からなるAl−Si−Mg系合金であり、薄皮材はSiを2〜10mass%含有し、残部がAlと不可避的不純物からなるAl−Si系合金であり、Mgを0.05mass%以下とすることを特徴とする不活性ガス中でフラックスを使わないろう付用のアルミニウム合金製ブレージングシート。 (もっと読む)


【課題】取り扱いが容易でかつ、かつ例えば磁束密度1T以上のような強磁場中でも優れた導電性を示す電気配線材を提供する。
【解決手段】磁束密度1T以上の磁場中で用いる電気配線材であって、純度が99.999質量%以上のアルミニウムを含んで成ることを特徴とする電気配線材である。 (もっと読む)


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