説明

国際特許分類[C22C27/00]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理 (53,456) | 合金 (38,126) | レニウムまたはグループ14/00もしくは16/00において述べられていない耐火金属を基とする合金 (619)

国際特許分類[C22C27/00]の下位に属する分類

国際特許分類[C22C27/00]に分類される特許

21 - 30 / 33


本発明は、燃料電池の電極触媒として有用な、金-被覆粒子に関するものである。該粒子は、金または金合金の外殻により、少なくとも部分的に封入されている、電極触媒的に活性なコアを含む。本発明は、より詳しくは、貴金属-含有コア、およびより具体的にはプラチナまたはプラチナ合金コアを含むこのような粒子に関するものである。他の態様では、本発明は、これらの電極触媒を含有する燃料電池および該電池から電気エネルギーを発生する方法に関する。 (もっと読む)


【課題】接触抵抗を低く保つことができ、寿命が長いMEMSスイッチの提供。
【解決手段】本発明に係るMEMSスイッチは、固定電極3又は下部電極5の少なくとも一方はAuで構成され、他方は、Ir、Rh、Os、Ru、Re、Teから選ばれた一つの金属、又は、TiN、ZrN、HfN、VNから選ばれた一つの金属を主成分として構成されている。 (もっと読む)


【課題】抗折力が低く割れが発生し易いマンガン合金の欠点を解決し、鍛造マンガン合金ターゲットを安定して製造できる方法を提供する。これによってノジュールやパーティクルの発生が少なく、高特性・高耐食性の薄膜を形成できるマンガン合金スパッタリングターゲットを得る。
【解決手段】酸素1000ppm以下、硫黄200ppm以下であり、単相の等軸晶組織を有し、結晶粒径が500μm以下である鍛造組織を備えていることを特徴とするマンガン合金スパッタリングターゲット。 (もっと読む)


【解決手段】本発明は、水素の可逆貯蔵に適合される材料の作製方法に関し、マグネシウムに基づく材料の第1粉末を供給するステップと、第1粉末の少なくとも一部を金属水素化物に転換するために第1粉末を水素化するステップと、水素化された第1粉末を、チタンとバナジウムとクロム又はマンガンから選択された少なくとも1つの他の金属とに基づく体心立方構造を有する合金から形成されている第2粉末添加物と混合するステップとを備え、得られた混合物の第2粉末の質量比が1質量%と20質量%との間にあり、更に、第1粉末及び第2粉末の混合物を粉砕するステップを備える。
(もっと読む)


【課題】 半導体の動作機能を保証するために障害となる不純物を低減させた高純度ジルコニウム若しくはハフニウム粉を、安全かつ安価に得ることのできる高純度ジルコニウム若しくはハフニウム粉の製造方法を得る。
【解決手段】 ジルコニウム若しくはハフニウム原料を電子ビーム溶解して高純度化した後インゴットに鋳造する工程、得られた高純度ジルコニウム若しくはハフニウムインゴット又は切粉等を水素雰囲気中で500°C以上に加熱して水素化する工程、該インゴットを冷却し水素化ジルコニウム若しくはハフニウム粉をインゴットから剥落させて水素化高純度ジルコニウム若しくはハフニウム粉を得る工程、及び水素化高純度ジルコニウム若しくはハフニウム粉の水素を除去する工程からなることを特徴とする高純度ジルコニウム若しくはハフニウム粉の製造方法。 (もっと読む)


【課題】半導体の動作機能を保証するために障害となる不純物を低減させた高純度ジルコニウム若しくはハフニウム粉を、安全かつ安価に得ることのできる高純度ジルコニウム若しくはハフニウム粉の製造方法を提供する。
【解決手段】ジルコニウム若しくはハフニウム原料を電子ビーム溶解して高純度化した後インゴットに鋳造する工程、得られた高純度ジルコニウム若しくはハフニウムインゴット又は切粉等を水素雰囲気中で500°C以上に加熱して水素化する工程、該インゴットを冷却し水素化ジルコニウム若しくはハフニウム粉をインゴットから剥落させて水素化高純度ジルコニウム若しくはハフニウム粉を得る工程、及び水素化高純度ジルコニウム若しくはハフニウム粉の水素を除去する工程からなることを特徴とする高純度ジルコニウム若しくはハフニウム粉の製造方法。 (もっと読む)


ハフニウムの塩化物を水溶液にし、これを溶媒抽出によりジルコニウムを除去した後、中和処理により酸化ハフニウムを得、さらにこれを塩素化して塩化ハフニウムとし、これを還元してハフニウムスポンジを得、さらにハフニウムスポンジをさらに電子ビーム溶解し、ハフニウムインゴットを得る高純度ハフニウムの製造方法及びこれによって得られた高純度ハフニウム材料、同材料からなるターゲット及び薄膜。ハフニウム中に含まれるジルコニウムの含有量を低減させた高純度ハフニウム材料、同材料からなるターゲット及び薄膜及びその製造方法に関し、効率的かつ安定した製造技術及びそれによって得られた高純度ハフニウム材料、同材料からなるターゲット及び高純度ハフニウム薄膜を提供する。 (もっと読む)


【課題】表面Al23層と内部合金とのはく離、および酸化の進行を抑制することにより、耐酸化性に優れた二オブ基合金耐熱部材を提供する。
【解決手段】二オブ合金基材と酸化防止合金層間の拡散防止のためのRe基合金からなる第一層と、表面に耐酸化性に優れたAl23を形成するためのAl基合金からなる第二層の皮膜を有する二オブ基合金耐熱部材は、その特徴を活かせる1200℃以上の超高温域でAl23膜と内部合金との熱膨張率の差によるはく離、および酸化の進行の問題が顕著となる。この解決のため、Hf、Zrのうちの1種以上を第二層に少量添加することにより、はく離を著しく抑制することが可能になり、超高温域での耐熱性に加えて耐酸化性も優れた耐熱部材を得ることができる。 (もっと読む)


本発明は1、Hfに、Zr若しくはTiのいずれか、又は双方を総計で100wtppm−10wt%含有することを特徴とするハフニウム合金ターゲットであり、平均結晶粒径が1−100μm、不純物であるFe、Cr、Niがそれぞれ1wtppm以下、さらに{002}とこの面から35°以内にある{103}、{014}、{015}の4つの面の晶癖面配同率が55%以上で、かつ場所による4つの面の強度比の総和のばらつきが20%以下であるハフニウム合金ターゲットに関する。成膜特性や成膜速度が良好であり、パーティクルの発生が少なく、HfO又はHfON膜等の高誘電体ゲート絶縁膜の形成に好適なハフニウム合金ターゲット及びその製造方法を得る。 (もっと読む)


【課題】異なる表面領域を異なるコーティングで保護された保護物品を提供すること。
【解決手段】保護物品(20)が、表面(52)および基板(50)アルミニウム含有量を有する基板(50)を含む。第1の保護層(54)が、基板(50)の表面(52)の第1の領域(40)を覆い、第1の保護層(54)は、基板(50)アルミニウム含有量よりも少なくとも3原子パーセント多い第1保護層アルミニウム含有量を含む組成を有する。第2の保護層(58)が、第1の領域(40)とは別の、基板(50)の表面(52)の第2の領域(42)を覆い、第2の保護層(58)は、少なくとも約60重量パーセントの白金、ロジウム、またはパラジウム、およびそれらの組合せを含む組成を有する。 (もっと読む)


21 - 30 / 33