【課題】弊害なくたわみを回避できる蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】被蒸着体であるウェハと接するウェハ対向面と、該ウェハ対向面と反対の面であり蒸着源と対向する蒸着源対向面１５と、該ウェハ対向面と該蒸着源対向面１５とを貫通する開口を有するマスク開口領域１４と、該開口の形成されない領域である無効領域１２とを有する。そして、該蒸着源対向面１５の該無効領域１２に付加された線状の補強部材１６を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスを支持基板として個別マスクを複数配置することで、蒸着マスクを大面積化することが可能となるが、蒸着工程後に蒸着マスクと被蒸着基板とを離す際に、個別マスクと被蒸着基板との間で剥離帯電が起きるため、個別マスクと被蒸着基板との間で放電が発生し、被蒸着基板中に備えられているＴＦＴや、有機ＥＬ装置の発光部が破壊され、被蒸着基板の特性が劣化するという課題がある。
【解決手段】蒸着マスク１００は、個別マスク１０１、支持基板１０２、フレーム１０３、導電性領域１０４を備えている。支持基板１０２は、個別マスク１０１を支える機能を有しており、硬質ガラスにより構成されている。導電性領域１０４は、個別マスク１０１と電気的に接続され、支持基板１０２を介して導電性のフレーム１０３と電気的に接続されるよう配置され、剥離帯電による静電気を個別マスク１０１から被蒸着基板へと導き、被蒸着基板の破損を防止する。 （もっと読む）

【課題】シリコン基板を用いた蒸着マスクでは、結晶異方性エッチングを用いて所望パターンの開口部等を形成する場合が多く、その開口部におけるコーナー部（角部位）がほぼ完全な直角または鋭角に形成される。そのためコーナー部に応力が非常に集中し易く、ひとたび力がかかると簡単に割れてしまうという課題があった。
【解決手段】シリコン基板を用いた蒸着マスクであって、該シリコン基板を貫通する開口部における角部位１０３に、最小パターン幅の５％以上であって３０％以下となる長さを切り落とした面取り形状（Ｃ面形状）を持たせた。開口部の角部位１０３に面取り形状（Ｃ面形状）を持たせているため、かかる角部位１０３（コーナー部）に応力が集中することを緩和でき、機械的強度の高い蒸着マスクを提供することが可能となった。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物を除去するクリーニングを行うときに、基板に対して完全に非接触状態で蒸着物を除去しつつ、有機ＥＬ用マスクの裏面に遊離生成物が付着しないようにすることを目的とする。
【解決手段】有機ＥＬ用マスク２の表面２Ｓにレーザを照射して蒸着物質ＶＭを破砕して生じる遊離生成物を上方に飛散させて、有機ＥＬ用マスク２の表面から離間した位置に形成した搬送空気流ＣＦにより遊離生成物を除去させる。このとき、有機ＥＬ用マスク２に多数形成した開口部２Ｃに対して裏面２Ｒから表面２Ｓに向けて上昇空気流ＵＦを形成しておき、落下した遊離生成物が有機ＥＬ用マスク２Ｒの裏面に回り込まないようにしている。 （もっと読む）

【課題】低コストであり大型化に対応可能な蒸着マスクを提供する。
【解決手段】本発明の蒸着マスクは、膜パターンが形成される被処理基板Ｗに当接させられて用いられる板状体の蒸着マスク１であって、膜材料を透過させるマスク開口１２１を有する板状の複数のマスク片１１が、板状体の面方向に配列されて連結されてなり、複数のマスク片１１の各々において被処理基板Ｗに当接させられる当接面１１１が、複数のマスク片１１で略面一になっている。 （もっと読む）

【課題】 成膜工程で加熱された保持装置を冷却し、蓄熱による熱変形の影響を軽減して、基板とマスクとを高精度に位置合わせることが可能な技術を提供すること。
【解決手段】 基板、及び、基板の上に配置されるマスクパターンが形成されているパターン形成部と、パターン形成部の周囲を支持するマスク枠とを有するマスクを保持する保持装置は、基板と、マスク枠とを、保持面で保持する基台と、保持面に沿って配置され、磁気吸着によりマスクを吸着することにより、基板とマスクとを基台に固定する永電磁石と、保持面の裏面側で、冷却媒体により冷却された冷却体を基台と接触させて基台を冷却する冷却機構と、を備える。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い基板の成膜方法、および圧電振動子の製造方法を提供する。
【解決手段】圧電振動子の製造方法であって、少なくとも、圧電基板の被成膜領域を所定範囲で分割した開口を有するマスクに圧電基板を保持する工程と、蒸着法またはスパッタリング法により前記開口を通して前記圧電基板表面に薄膜を形成する工程と、前記薄膜上にレジスト膜を形成し、該レジスト膜を圧電振動子の形状にパターニングする工程と、圧電振動子の形状にパターニングされた前記レジスト膜をマスクとして露出した薄膜を除去する工程と、前記薄膜をマスクとして前記圧電基板をエッチングする工程と、を有する圧電振動子の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】永電磁石を有するキャリヤの温度を制御する技術を提供する。
【解決手段】磁性材料を含むマスクを基板を介して磁気吸引することにより前記マスクおよび前記基板を保持するキャリヤは、支持体と、前記支持体に組み込まれた永電磁石と、前記支持体に設けられた温調流路と、前記温調流路を外部の温調装置の管路と接続するためのジョイントと、前記ジョイントの内部又は付近に設けられて、前記温調流路に温調媒体が充填された状態で前記温調流路を閉塞するための弁とを備える。 （もっと読む）

【課題】メカクランプ法でありながらも、工具が不要でかつ片手での作業が可能であり、作業効率が大幅に向上するマスク固定方法を提供する。
【解決手段】底板の中央にノブ式の雄ネジとその両側にそれぞれ回り止めピンを配置してなる固定具３０を２つ使用するとともに、相対する２辺それぞれの中程で且つメタルマスク１１の外側となる位置に固定具３０の雄ネジと回り止めピンにそれぞれ対応する雌ネジとピン用穴を設けてなるマスクトレイ１０を使用する。メタルマスク１１を一体化したマスクトレイ１０に基板２０を載置してアライメントした後、回り止めピンをピン用穴に差し込み、雄ネジを雌ネジに合わせることにより、基板２０の端縁部を押さえる状態で固定具３０をマスクトレイ１０の相対する２辺それぞれ取り付け、その取付け状態で雄ネジのノブを手で回して２つの固定具３０によりマスクトレイ１０に基板２０を固定する。 （もっと読む）

【課題】真空成膜用マスク治具を、表面が侵食されにくく、かつ変形もせず、クリーニングによって繰り返し使用可能なものとする。
【解決手段】被成膜物質に対して真空成膜する際に成膜面の前面に配置される真空成膜用マスク治具であって、この真空成膜用マスク治具がＦｅ₃Ｏ₄主体の鉄系酸化物被膜で覆われたフェライト系ステンレスからなり、このフェライト系ステンレスがその標準含有元素であるＣｒよりも強還元性元素である３族元素、４族元素、５族元素、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐのうち少なくとも１つを０．１ｍｏｌ％以上含むものとする。 （もっと読む）