【課題】表示品質を向上させることができる成膜用マスク、電気光学装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】複数のサブ画素と平面的に重なる第１領域の全体が開口する第１開口孔７２ａが設けられた第１マスク７２と、第１マスク７２に積層され、第１領域において部分的な領域である第２領域が開口する第２開口孔７３ａが設けられた第２マスク７３と、を有する。 （もっと読む）

【課題】光電変換素子の構成膜等の成膜に好ましく適用でき、複数のライン状パターンを有するパターン膜を直接パターン成膜することが可能な成膜方法を提供する。
【解決手段】ライン状パターンの幅に合わせた間隔で配列された複数のワイヤを有するマスクＭを用いて、物理気相成長（ＰＶＤ）法によりパターン成膜を行う。若しくは、１本のワイヤが折り曲げられて形成され、ライン状パターンの幅に合わせた間隔で配列された複数のワイヤ部を有するマスクを用いて、ＰＶＤ法によりパターン成膜を行う。 （もっと読む）

【課題】マスク本体と枠体との間の接合強度を向上させて、皺の発生がなく蒸着マスクの取り扱いを容易にするとともに、加工工程の短縮化を図れる蒸着マスクを提供する。
【解決手段】多数の蒸着通過孔５からなる蒸着パターンがパターン領域４内に形成された薄板状のマスク本体２と、マスク本体のほぼ全面に重合され、マスク本体のパターン領域に対応する位置に該パターン領域よりも大きい寸法の開口６が設けられ、全面に接合用小孔が多数設けられた低熱膨張係数の材質からなる補強用枠体３と、補強用枠体に設けられた多数の接合用小孔を利用して補強用枠体の上面部及び側面部とマスク本体の上面部にめっきにより形成され、マスク本体と補強用枠体との間を一体的に接合する金属めっき層とを備える。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着を行った後のマスク部材をクリーニングするに当って、負荷を最小限に抑制したクリーニング時におけるマスク部材及びクリーニング装置を提供する。
【解決手段】マスク部材１をドライ洗浄ステージ１１で鉛直状態に保持して、レーザ発振器からスキャニング光学系を介してレーザ光のパルスをマスク板の表面にスポット的に照射し、マスク板表面の蒸着物質を、マスク板と蒸着物質との間の熱膨張率の差で破砕させ、その砕片及び薄片を長尺ノズルによる負圧吸引力の作用で除去し、次いでウエット洗浄ステージ１４において、溶剤洗浄部１２で超音波洗浄を行い、シャワー洗浄部１３で溶剤を用いてマスクフレームを含めたマスク部材の全体をクリーニングする。 （もっと読む）

【課題】特定の縦横比に制御されたセルおよび細孔形状を有する陽極酸化ポーラスアルミナおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム３の表面に細孔７の発生起点を予め定めた所定の形態に配列することにより、セルの表面形状および細孔７の開口形状を、縦横の寸法が互いに異なる縦横比に制御することを特徴とする陽極酸化ポーラスアルミナ８の製造方法、およびその方法により製造された陽極酸化ポーラスアルミナ８。得られた陽極酸化ポーラスアルミナ８は異方特性を有する機能性デバイスを作製するための出発材料として使用できる。 （もっと読む）

【課題】単繊維の糸を使用した微細なピッチを有する平行線型マスクにおいて、ストライプの幅、すなわち、単繊維糸の平行ピッチのバラツキが極めて少なく平行ピッチが高精度に保持された平行線型マスクを提供する。
【解決手段】開口部２を有する平板状基体１と、平板状基体の非開口部に形成された樹脂層３と、樹脂層に固定された単繊維５と、を備え、樹脂層は、所定のピッチで設けられ、単繊維がはまり込む溝部４を有し、単繊維は、前記溝部に接着されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスを支持基板として個別マスクを複数配置することで、成膜用マスクを大面積化することが可能となるが、蒸着工程後に成膜用マスクと被成膜基板とを離す際に、個別マスクと被成膜基板との間で剥離帯電が起きるため、個別マスクと被成膜基板との間で放電が発生し、被成膜基板中に備えられているＴＦＴや、有機ＥＬ装置の発光部が破壊され、被成膜基板の特性が劣化するという課題がある。
【解決手段】成膜用マスク１００は、個別マスク１０１、支持基板１０２、フレーム１０３、導電性領域１０４、導電性接着剤部１０５を備えている。剥離帯電による静電気により個別マスク１０１に蓄積された電荷は、導電性接着剤部１０５、導電性領域１０４、フレーム１０３を介して接地され、被成膜基板の破損が防止される。 （もっと読む）

【課題】成膜用マスクの所望の品質特性を検出可能であって、効率的にマスク検査が可能
なマスク検査装置、これを備えた有機ＥＬ装置の製造装置、これを用いたマスク検査方法
および有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本適用例のマスク検査装置１５０は、帯状に光を射出する光源１５３と、帯
状の光により成膜用マスクとしての蒸着マスク５０の表面を所定の方向に走査するように
、光源１５３と蒸着マスク５０とを相対移動させる走査機構としての搬送機構１１５と、
走査に伴って蒸着マスク５０の表面から反射した光を受光する受光部１５６と、受光部１
５６の受光信号を画像に合成する画像処理部と、を備えた。 （もっと読む）

本発明に記載されているのは、材料堆積装置（５０）において基板（１０）を保持する装置（１）である。この基板（１０）は、材料（Ｍ）が堆積される堆積面（１０ａ）を有しており、装置（１）は、複数の堆積開口部（Ｄ₁）を含むシャドウマスク（２０）と、複数の包囲開口部（Ｓ₁）を含むサポート構造体（３）と、上記のサポート構造体（３０）を保持するサポート構造体保持手段（６）および／または基板（１０）を保持する基板保持手段（５）とを有しており、サポート構造体（３０）は、基板の堆積面（１０ａ）と同じ側にあり、シャドウマスク（２０）は、基板（１０）とサポート構造体（３０）との間に配置されて、シャドウマスク（２０）の少なくとも１つの堆積開口部（Ｄ₁）がサポート構造体（３０）の相応する包囲開口部（Ｓ₁）内に配置されている。さらに本発明には、基板（１０）を保持する装置（１）を有する材料堆積装置（５０）が記載されている。また本発明には、材料堆積装置（５０）において基板（１０）、シャドウマスク（２０）およびサポート構造体（３０）を配置する方法が記載されている。
（もっと読む）

【課題】混合層を被成膜基板上に均一な濃度になるように成膜することを課題とする。
【解決手段】第１の基板の第１の面上に、光吸収層と、昇華温度の異なる２種類以上のホスト及びゲスト材料を含む材料層と、前記材料層より昇華温度の高い材料のキャップ層を形成し、第２の基板の第１の面を、前記第１の基板の第１の面と対向させ、前記第１の基板の第１の面と反対の面である第２の面から光を照射し、前記材料層を昇華させることにより、前記第２の基板の第１の面上に、前記２種類以上のホスト及びゲスト材料が混合された混合層を成膜する成膜用基板、成膜方法、及び、前記成膜方法を利用した発光装置の作製方法に関する。 （もっと読む）