【課題】メタルマスク全体としてのテンション値を正確に測定でき、メタルマスクに載置した状態でゼロ点を設定した後、テンション値を測定でき、定盤が不要で、取り扱いが容易なメタルマスクのテンション測定方法およびメタルマスクのテンションゲージを提供する。
【解決手段】ベースプレート４のほぼ中央部に上下方向にスライド移動可能な測定子をメタルマスクに当接させることができるように取付けられた測定子の収納ケース７と、測定子収納ケースの上部に取付けられた、測定子に取付けられたスピンドル軸８をスピンドル９に接続されたアナログあるいはデジタル表示器１０を備えるテンションゲージ１１と、測定子収納ケースに設けられた測定子をメタルマスクに当接させ、ゼロ点を設定後に測定子に測定荷重を加える手段とでメタルマスクのテンションゲージ１を構成する。 （もっと読む）

【課題】精度よくアライメントできるアライメント装置及びアライメント方法並びにそれらを用いて高精度に蒸着できる有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
または、アライメントに必要な駆動部等を大気側に配置することで真空内の粉塵や発熱を低減した生産性の高い、あるいは、保守性を高めて稼働率の高い有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
【解決手段】シャドウマスクはアライメント用の貫通孔を有し、アライメント部は、前記貫通孔の一端側から光を入射する光源と前記他端を撮像する撮像手段とを有するアライメント光学系と、前記撮像手段の出力に基づいてアライメントを行なう制御部とを有することを特徴とする。さらに、上記特徴に加え、前記貫通孔は前記シャドウマスクの前後に貫通した孔であり、前記アライメント光学系は前記少なくとも前記基板への処理時に前記貫通孔への処理材の付着を遮蔽する遮蔽手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】洗浄液や異物の残留を抑えることが可能な蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】枠体４０に、マスク本体５０と対向する面に、開口４１に沿って段差部４２を設け、この段差部４２により、枠体４０およびマスク本体５０の間に隙間Ｇを形成する。隙間Ｇには、段差部４２と同じ高さの間隙保持部４３を点在させる。蒸着用マスク１を洗浄する際、洗浄液は隙間Ｇを流れ、隙間Ｇまたは貫通孔４５から排出される。よって、洗浄液がリンス液に置換されずにマスク本体５０と枠体４０との間に残ってしまい、表面張力でマスク本体５０と枠体４０とが密着してしまうことによる精度悪化が抑えられる。また、残った洗浄液や異物などからのガス発生により、蒸着のための真空室内にフッ素系の材料などが混入し、有機発光素子の寿命に影響を及ぼすおそれも小さくなる。 （もっと読む）

【課題】基板に対して正確にマスクの位置合わせを行え、基板ホルダや周辺部への膜の付着を確実に防止することが可能なマスク位置合わせ装置を提供する。
【解決手段】支柱軸方向の各回転軸を中心に回転する複数の支柱１０３と、複数の支柱１０３を同一方向、同一角度、同期して回転させる手段と、マスク７０１と基板Ｗの位置ずれ量を検出する手段とを具備する。また、複数の支柱１０３の上面部にそれぞれの支柱の回転軸から所定距離だけずらしてマスク７０１を支持する支持ピン１０１を配置する。そして、マスク７０１と基板Ｗとの位置ずれ量に基づき複数の支柱１０３を同一方向、同一角度、同期して回転させることによりマスク７０１を基板Ｗに対して位置合わせを行う。 （もっと読む）

【課題】光による加熱成膜法により均一な膜厚分布を有し、かつ良質な膜を成膜し、高信頼性な発光装置を生産性よく作製できる技術を提供することを課題の一とする。
【解決手段】光による加熱成膜法において、成膜する材料層（有機化合物材料を含む層）が設けられる成膜用基板の光吸収部表面を凹凸を有する粗面（梨子地形状）とする。光による加熱により溶融した有機化合物材料は粗面上にあるために凝集せず、被成膜用基板に均一な膜厚で成膜することができる。 （もっと読む）

【課題】マスク蒸着を行うと、蒸着マスクと接触する位置に配置されている有機機能層や共通電極層が蒸着マスクと接触した時に有機機能層や共通電極層に切り立った形状の浮きが発生する。この上に窒化酸化シリコン層を用いた封止層を形成すると、応力がここに集中し、封止層に亀裂が入るため水分や酸素が浸入し、腐蝕が生じるという課題がある。
【解決手段】隔壁１０６上に突起部１０９を配置する。切り立った形状は突起部１０９上に選択的に発生する。この領域上にアルミニウムを用いた緩衝層１１０Ａを配置する。アルミニウムは塑性変形能が高いため損傷が伝播されず、緩衝層１１０Ａに加えられた応力を緩衝層１１０Ａの変形吸収により緩和できるため、損傷の伝播による封止層１１２への破断が抑制される。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ装置の有機発光層をマスク蒸着法で形成する際に、蒸着マスクに含まれるパターン形成層の厚さが厚い場合、蒸着マスクの影となる領域の蒸着層厚が薄くなり、均一な発光が得られなくなる。パターン形成層を薄くすると、パターン形成層の製造工程に含まれるパターン形成層の剥離工程で受ける応力により、蒸着マスクが破壊されてしまうという課題がある。
【解決手段】基板の表面側にＤＬＣを用いたエッチングマスク層４０２を形成して後、スパッタ法とフォトリソグラフ・エッチングを用いてめっき用の下地層４０４を形成し、めっき法を用いてＮｉとＣｏの合金を含むパターン形成層４０５を形成する。この製造工程を用いることでパターン形成層の製造工程中に、パターン形成層の剥離工程を行う必要がなくなるため、数μｍ程度の厚さを有するパターン形成層４０５を形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】耐環境性、特に耐腐食性を高めることを可能とした磁気記録媒体の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】インライン式成膜装置を用いて、少なくとも非磁性基板の面上に形成された記録磁性層に磁気記録パターンを有する磁気記録媒体を製造する際に、少なくとも記録磁性層８３と磁気記録パターン８３ａに対応したマスク層とがこの順で積層された非磁性基板８０をキャリアに取り付ける工程と、記録磁性層８３のマスク層で覆われていない箇所を反応性プラズマ処理又はイオン照射処理することにより、磁気記録パターン８３ａを形成する工程と、記録磁性層８３上からマスク層を除去する工程と、キャリアから非磁性基板８０を取り外す工程とを含み、キャリアが各チャンバの間を通過する間に、各チャンバ内を減圧雰囲気とし、大気と遮断された状態で各工程を連続して行う。 （もっと読む）

【課題】成膜用マスクに光を照射して成膜用マスクの位置を認識する際、コントラストの高い画像が得られないためアライメントマーク位置の計測精度の再現性が安定せず、基板とマスクの位置合わせ誤差が生じる。
【解決手段】位置決め用開口１０６を有するマスクシート１０３と、マスクフレーム１０４とを有する成膜用マスク１０２において、前記位置決め用開口にマスクシートよりも反射率の高い反射部材を配置する。このような成膜用マスクの位置決め用開口に光を照射すると、前記マスクシートで反射される光と前記反射部材で反射される光と強度差が安定するため、再現性よく成膜用マスクの位置を計測することができる。 （もっと読む）

【課題】マスクの材質を問わずに正確なアライメントが可能となるマスクアライメント装置を提供する。
【解決手段】薄膜パターンをパターニングすべき基板とパターン形成用のマスクとを位置合わせするマスクアライメント装置であって、位置決めステージ１０と、位置決めステージ１０の上部に取り付けられたマスク吸着体２０と、マスク吸着体２０の上方に配設された上下動可能な基板保持手段３０と、マスク上のアライメントマークと基板上のアライメントマークとを撮像して両者の位置合わせ状況を観察できるカメラ４０とを具備し、マスク吸着体２０は、多孔質体からなるテーブル２１とそのテーブル２１を下面から真空吸引する機構とからなる。テーブル上に載置されたマスクを真空吸着してその反りを矯正した状態で基板との位置合わせができ、非磁性体のメタルマスク、ガラスやフィルムといったマスクの材質を問わずに正確なアライメントが可能となる。 （もっと読む）