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国際特許分類[C23C14/04]の内容

国際特許分類[C23C14/04]に分類される特許

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【課題】透明な薄膜を堆積し、パターン構造を直接堆積する方法を提供する。
【解決手段】透明な薄膜を堆積し、パターン構造を直接堆積する方法であって、パルスレーザ源を提供し、前記パルスレーザ源が出射するレーザ1を透明な基板3を介してターゲット5上に集光させて、前記レーザのエネルギーを使用して前記ターゲットの部分を融除又は蒸発させ、前記基板を前記ターゲットに対して並進運動させる、前記融除又は蒸発された前記ターゲットの材料が前記基板上に堆積し、前記基板上にパターン構造を形成できるようにする。 (もっと読む)


【課題】高速かつ簡単で、精度の良いマスクの位置合わせが可能なマイクロコンポーネントの製造方法を提供する。
【解決手段】例えばマイクロバッテリであるマイクロコンポーネントは、基板上に少なくとも2つの重ねられた層を持つ積層体を有し、温度の影響下で拡張可能な単一のスチールマスク6を用いて形成される。マスク6は、少なくとも1つの中心から外れた開口7を有する。マスクが第1の温度(T1)の時、マスク6aの開口7aを介して第1の層が堆積される。マスクが、前記第1の温度(T1)より高い第2の温度(T2)の時、マスク6bの開口7bを介して第2の層が堆積される。最後に、マスクが前記第2の温度(T2)より高い第3の温度(T3)の時、マスク6cの開口7cを介して第3の層が堆積される。 (もっと読む)


【課題】低硬度の材料層に蒸着マスクを密着させると、硬度差により傷が発生し、完成後の有機EL装置の表示品質を低下させる。このような既形成層に与える損傷を低減する蒸着マスクを提供する。
【解決手段】被蒸着基板に対向する第1表面と蒸着源に対向する第2表面とを有し、被蒸着基板のパターン形成領域に対応する領域である第1の領域に形成された開口部22と、開口部22の周辺領域の第1表面側に形成されたスペーサー35と、を有する蒸着マスクとする。 (もっと読む)


【課題】単結晶半導体基板を分割して得られた成膜マスクであって、分割時に生じるバリ等で表面の平滑性が損われない成膜マスク。
【解決手段】支持基板30と支持基板30に取り付けられた複数のチップ20とからなり、被成膜基板42に対向する第1表面11と膜材料源に対向する第2表面12とを有する成膜マスク10であって、チップ20は、単結晶半導体基板7に枠状の溝16を第1表面11側から形成後、溝16に外力を加えて破断分割して得られたチップ20であり、チップ20の側面部は溝16の一部である平滑面19と破断分割時に生じた破断面18とを有しており、破断面18は第1表面11側には形成されていないことを特徴とする成膜マスク。 (もっと読む)


【課題】品質(電気光学特性)を向上させることができる電気光学装置、電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】被成膜基板11aと、被成膜基板11aの表面(素子形成側)に設けられた発光素子27の領域と、被成膜基板11aの表面と対向する裏面に設けられた磁性体膜40と、を備える。 (もっと読む)


【課題】熱の伝達効率が悪いテンションマスクを効率的に冷却し、高精細なパターン形成を可能にする。
【解決手段】マスク箔を用いるテンションマスクであるマスク5を介して基板4に成膜材料を付着させることによりパターン形成を行う蒸着方法において、蒸着後のマスクを冷却することなく再使用可能であるか否かを判定する工程を設ける。再使用可能である限り複数枚の基板に対して同じマスクを繰り返し使用し、再使用不可と判定した場合は、冷却ユニット14を有するマスクストック室2に搬送し、冷却した後に蒸着室1に戻して再使用する。 (もっと読む)


【課題】基板を搬送しながら行う蒸着において、蒸着位置精度を向上して緻密なパターンの形成を可能にする。
【解決手段】蒸着マスク16R,16G,16Bによる蒸着位置の基板の搬送方向手前側の位置を撮像可能に設けられた撮像手段4により、蒸着マスク16Bに形成されたアライメントマークと有機EL表示用基板9表面に予め形成されたピクセルとを撮像し、該撮像画像に基づいてアライメントマークの基準位置とピクセルの基準位置との間の位置ずれ量を検出し、該位置ずれ量が所定値となるようにアライメント手段5により蒸着マスク16R,16G,16Bを上記基板面に平行な面内にて搬送方向と略直交する方向に移動して位置合わせしながら、搬送中の有機EL表示用基板9のピクセル上に所定のパターンを蒸着して形成するものである。 (もっと読む)


【課題】高精細パターンを形成したテンションマスクを均一に冷却する。
【解決手段】冷却体4をテンションマスク1のマスク箔3に接触させ、冷却体4をマスク箔上で走査させることにより、マスク箔3の全面を冷却する。冷却体4によってマスク箔3を冷却した後、基板7をマスク箔3に接触させ、シャッター8を開いて、蒸着源6から発生する蒸気を基板7に付着させる。マスク箔3の全面に冷却体4を直接接触させて冷却するため、短時間で均一にテンションマスクの温度調整を行うことが可能である。 (もっと読む)


【課題】薄膜蒸着用マスクフレーム組立体、その製造方法及び有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】開口部及び支持部を備えるフレームと、開口部に対応して位置する蒸着領域を備えるマスクと、を備え、マスクは、蒸着領域が備えられ、蒸着領域の外郭に配置された縁部を備える第1層と、互いに対向した第1面及び第2面を有し、第1面は、第1層に対向して少なくとも第1面の一部が縁部に接するように備えられ、第2面は、支持部に溶接された第2層と、を備える薄膜蒸着用マスクフレーム組立体、その製造方法及び有機発光表示装置の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】マスク本体と枠体との間の接合強度を向上させて、皺の発生がなく蒸着マスクの取り扱いを容易にするとともに、加工工程の短縮化を図れる蒸着マスクを提供する。
【解決手段】多数の蒸着通過孔5からなる蒸着パターンがパターン領域4内に形成された薄板状のマスク本体2と、マスク本体のほぼ全面に重合され、マスク本体のパターン領域に対応する位置に該パターン領域よりも大きい寸法の開口6が設けられ、全面に接合用小孔が多数設けられた低熱膨張係数の材質からなる補強用枠体3と、補強用枠体に設けられた多数の接合用小孔を利用して補強用枠体の上面部及び側面部とマスク本体の上面部にめっきにより形成され、マスク本体と補強用枠体との間を一体的に接合する金属めっき層とを備える。 (もっと読む)


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