【課題】品質に優れ、平坦で厚い化合物半導体を成長させるための方法を提供する。
【解決手段】ＨＶＰＥを利用し、ナノ構造層を使用して高品質の平坦かつ厚い化合物半導体（１５）を異種基板（１０）上に成長させる。半導体材料のナノ構造（１２）は、分子線エピタキシャル成長（ＭＢＥ）、化学気相成長（ＣＶＤ）、有機金属化学気相成長（ＭＯＣＶＤ）又はハイドライド気相エピタキシャル成長（ＨＶＰＥ）によって基板（１０）上に成長させることができる。化合物半導体の厚膜（１５）又はウェハは、ＨＶＰＥを使用したエピタキシャル横方向成長によってナノ構造（１２）上に成長させることができる。 （もっと読む）

【課題】基板をマスクに押圧する際、基板とマスクの面方向の位置ずれが少なく、寸法精度の良好な画像パターンを形成することのできる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜装置は、真空チャンバー５内に配備された、基板１とマスク２との位置合わせを行う位置合わせ機構（不図示）と、押圧体３の一端に配備された低摩擦部材３ｂによって基板１をマスク２に押圧する押圧機構を備えている。位置合わせ機構によりとマスク２の位置合わせを行った後に、押圧機構によりマスク２の反対側から基板１に押圧体３の低摩擦部材３ｂを接触させて押圧する。 （もっと読む）

【課題】転写層となる材料層が余分に蒸着されるのを防ぐと共に所望の蒸着パターンを形成することができ、転写中に材料等の劣化が起きにくい方法を用いることにより、高精細で発光特性が高く、長寿命である発光装置の作製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】第１の基板の材料層が形成された一方の面から所定の条件式を満たす第１の光を照射することにより、材料層をパターン形成し、次いで第１の基板の他方の面から所定の条件式を満たす第２の光を照射することにより、パターン形成した材料層を被成膜基板である第２の基板上に蒸着させる発光装置の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】有機EL表示装置において、有機EL層、上部電極、補助電極等、蒸着によって形成する薄膜の形成精度を向上させる。
【解決手段】回路基板101に近接させて蒸着マスク21を設置する。回路基板101の上側には、マグネット103、磁界強度を調整するための中間板102が配置されている。蒸着マスク21はマスクシート23とマスクフレーム22から構成されている。回路基板101の熱膨張係数をα(S)とし、マスクフレーム22の熱膨張係数をα(F)とした場合、(α(S) -5×10^-6℃^-1) ≦ α(F) ≦ (α(S) +10×10^-6℃^-1)の関係とし、かつ、マスクフレーム22の熱膨張係数を前記マスクシート23の熱膨張係数よりも大きくすることによって高精度のマスク蒸着を可能とする。 （もっと読む）

【課題】マスク交換の作業性を向上させる。
【解決手段】四角形のガラス基板３の４辺各々に対応する４つのマスク４が用意され、該４つのマスクは、分割された状態で成膜室１の内部に設置されている。そして、各マスク４を、ガラス基板３と同一平面上であってガラス基板３の各辺に対して垂直な方向において直線的に移動させると、分割された各マスク４が互いに接続し合って一つの集合体としてのマスクになる。このとき、ガラス基板３の全周縁が各マスク４で覆われる。 （もっと読む）

【課題】マスク組立体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】マスク組立体及びその製造方法に関し、マスクフレームにパターンマスクを引張溶接してマスク組立体を製造する場合、前記マスクフレームに溶接される前記パターンマスクの引張溶接部の構造を変更することで、前記マスクフレームとパターンマスクとを容易に溶接でき、前記パターンマスクのパターンを精密に整列させて、前記マスク組立体による歪不良率を最小化するマスク組立体及びその製造方法に関する。開口部及び支持台を含むマスクフレームと、マトリックス状に配列された複数のパターンを含むパターン部及び前記支持台に溶接するために前記パターン部から第１方向に延長し、前記第１方向に垂直である第２方向に互いに離隔されている複数の引張溶接部を含むパターンマスクとを有するマスク組立体に関する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、このような実情に鑑み、従来より高精度の組成比変化にて、多元化合物を一
度の蒸着にて生成できる装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
発明１の多元化合物作製装置は、一つの蒸着室内に、蒸着材料を蒸発させる材料蒸発機構と、前記材料蒸発機構からの蒸気により蒸着される基材を保持する基材保持部と、この基材保持部と前記材料蒸発機構との間に配置した蒸気通過用開口部を持つマスクと、このマスクを前記基材の蒸着面に沿って移動させるマスク移動機構とを有する多元化合物作製装置であって、前記マスクと基材に蒸着面との間隔を調整する間隔調整手段が設けてあることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】均一な膜を成膜することを目的とする。また、成膜に要する時間を短縮し、生産性を向上させることを目的とする。
【解決手段】一方の面に、光吸収層と、光吸収層に接して形成された材料層と、を有する第１の基板を用い、第１の基板の材料層が形成された面と、第２の基板の被成膜面とを対向させ、第１の基板の他方の面側から周波数１０ＭＨｚ以上、パルス幅１００ｆｓ以上１０ｎｓ以下のレーザ光を照射し、光吸収層と重なる位置にある材料層の一部を選択的に加熱し、材料層の一部を第２の基板の被成膜面に成膜する成膜方法において、式（１）または式（２）を満たす条件で成膜する。


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【課題】有機電界発光表示装置の製造装置及び製造方法を提供すること。
【解決手段】上記有機電界発光表示装置の製造装置は、チャンバと、基板がその上面に載置するように上記チャンバ内部に配置され、所定パターンの開口が形成されているマスクと、上記マスクの下側に配置されて上記マスクの開口を通して上記基板に膜が形成されるように蒸着物質を上記マスク側に供給する蒸着物質供給源と、上記基板の底面に上記マスクが密着されるように上記基板の上面を上記マスク側に加圧し、上記基板の曲がった形状に沿って変形して上記基板の上面を加圧する基板−マスク密着ユニットとを含む。 （もっと読む）

【課題】 薄膜エッチング方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 紫外光でフォトマスクを介して基板上の光学樹脂層について露光を行い、そして焙焼プロセスを通じてすでに露光された光学樹脂層を気化させ、また露光していない部分を残して薄膜として形成することで前記光学樹脂層の気化された箇所に補填し、再度紫外光で光学樹脂層に対して全面露光を行い、また再度高温焙焼を通じて基板上の光学樹脂層の全部を気化させ、必要な薄膜パターンを残すことで、設備と製造の低コストの状況において、薄膜エッチングの精度を向上させることを特徴とする。 （もっと読む）