【課題】従来のクロム酸のような化学薬品を使用せず、乾式法により樹脂成形品に樹脂表面粗化をすると共に導電性を付与することで、このような化学薬品による樹脂成形品の樹脂表面の薬品劣化を防止し、一方このような環境負荷が大きい化学薬品を使用せず、環境負荷物質の削減を図り、また樹脂めっき品の表層剥離を防止してその安全性は確保する。
【解決手段】樹脂成形品の表面をプラズマ処理で洗浄及び表面改質活性化する樹脂表面洗浄・活性化工程Ｓ１と、次に、樹脂成形品の表面に金属をスパッタリングにより成膜する金属薄膜成膜工程Ｓ２と、続いて、樹脂成形品に成膜した金属薄膜上にスパッタリングによりニッケル又は銅等の導電化膜を成膜する導電化膜成膜工程Ｓ４と、最後にこの樹脂成形品を電気めっきする電気めっき工程とから成る。 （もっと読む）

【課題】 難接着性の樹脂材料を基材として用いながら、密着性、耐食性に優れた電磁波シールド処理または光輝化処理が施された成型体を提供する。
【解決手段】 難接着性の樹脂材料からなる基材の表面にブラスト処理を施し、該ブラスト処理が施された基材の表面に、真空めっき法により、銅膜を０．５μｍ〜２μｍ成膜し、該銅膜の上に、ニッケル、ニッケル合金、クロム、クロム合金、錫−銅−クロム合金、および、錫−銅−ニッケル合金から選択される少なくとも１種からなる保護膜を０．１μｍ〜０．３μｍ成膜することにより、基材の表面に電磁波シールド処理が施された成型体を得る。 （もっと読む）

【課題】バリエーションに富んだ発色性を示し、また、従来の製造方法に比べて、容易な方法で得られ、色むらの発生による不良品の発生率が低い干渉色金属調表面を備えた樹脂成形体を得ることを課題とする。
【解決手段】中心線平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ以下である平滑表面を有する樹脂成形体基材の前記平滑表面に厚み０．１〜０．４μｍの透明性金属薄膜を形成することにより得られる干渉色金属調表面を備えた樹脂成形体を用いる。 （もっと読む）

【課題】 乾式製膜方法によって金属薄膜を形成する際に受ける熱による障害が抑制され皺や剥離のない金属薄膜が形成された金属化ポリイミドフィルムを提供する。
【解決手段】 残存溶媒量が０．１〜１００ｐｐｍであるポリイミドフィルムの少なくとも片面に乾式製膜方法によって形成された厚さ０．５μｍ〜５μｍの金属層が形成された金属化ポリイミドフィルム。 （もっと読む）

【課題】ダイレクト蒸着後の光輝性、耐熱性、流動性のいずれもが優れ、実用可能な程度の耐衝撃性を有するダイレクト蒸着用熱可塑性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明のダイレクト蒸着用熱可塑性樹脂組成物は、粒子状のジエン系ゴム状重合体（Ｇ）に、芳香族ビニル系単量体７５〜６０質量％およびシアン化ビニル系単量体２５〜４０質量％を含むビニル系単量体混合物（Ｖ）をグラフト重合してなるグラフト重合体（Ａ）１〜５０質量部と、イミド化共重合体（Ｉ）５０〜９９質量部（（Ａ）と（Ｉ）の合計は１００質量部である。）とを含有するダイレクト蒸着用熱可塑性樹脂組成物であって、グラフト重合体（Ａ）のグラフト密度が０．３×１０^−１０〜１．５×１０^−１０（ｍｏｌ/ｃｍ^２）であり、ジエン系ゴム状重合体（Ｇ）は、質量平均粒子径が１００〜３００ｎｍであり、かつ、粒子径５００ｎｍ以上の粒子の割合が１０質量％未満である。 （もっと読む）

【課題】表面粗さが小さくピンホールが少ない２層フィルム、その製造方法、およびその製造方法を用いたプリント基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】高分子フィルム１０と、高分子フィルム上に形成された窒素と６０重量％以上１００重量％以下のニッケルとを含む第１の金属膜１２と、第１の金属膜上に形成された銅を主成分とする第２の金属膜１４とを備え、第２の金属膜の表面粗さＲｚが１μｍ以下であり、ピンホールは直径３０μｍを超えず、２０〜３０μｍが２０個／ｍ^２以下、１０〜２０μｍが８０個／ｍ^２以下である２層フィルム。高分子フィルム上に窒素ガスを含む雰囲気下での真空蒸着法等により窒素と６０〜１００重量％のニッケルとを含む第１の金属膜を形成し、第１の金属膜上に０．００１〜０．１Ｐａの真空度において溶融温度を１３００〜２５００℃とした銅を用いた真空蒸着法により第２の金属膜を形成する２層フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 透光性を有する基材に長期間の使用に応答性を劣化させることがない透明電極及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 透光性を有する基材に、透明電極層を備える透明電極であって、前記基材を樹脂により構成し、前記透明電極層の面方向に圧縮応力を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア性に優れた透明ガスバリア性フィルムを効率良く製造することが可能な透明ガスバリア性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 同一の真空槽１２を用いて、透明基材フィルム１８の片面または両面にガスバリア性有機薄膜層およびガスバリア性無機薄膜層を形成する透明ガスバリア性フィルムの製造方法において、前記ガスバリア性有機薄膜層の形成は、前記ガスバリア性有機薄膜層形成材料を気化して発生した蒸気を前記透明基材フィルム１に接触させて塗膜を形成し、前記塗膜を硬化して前記透明ガスバリア性有機薄膜層を形成することで実施され、前記塗膜形成を真空槽１２内で実施し、前記塗膜形成において、前記真空槽１２内の圧力よりも低い雰囲気圧力条件下で前記蒸気を前記透明基材フィルム１８に接触させる。前記真空槽１２内の圧力よりも低い雰囲気条件下は、例えば、真空槽１２の真空引きとは別に設けた真空ポンプ１９により実現する。 （もっと読む）

本発明は、高粘着性抗菌フィルムでポリマ表面をコーティングするように適合されたイオンプラズマ蒸着（ＩＰＤ）法に関する。制御されたイオンプラズマ蒸着（ＩＰＤ）プロセスが、選択された金属／金属酸化物で金属またはポリマをコーティングするために使用される。コーティングされた表面を紫外線に露出させることが、堆積されたコーティングの抗菌特性をかなり改善する。本発明は以下の方法を提供する。該方法は、高粘着性抗菌コーティングを生成する方法であって、第１の実質的にマクロ粒子のない金属コーティングを、選択された基板に堆積させることと、該第１のコーティング上に表面層を形成するために、第２のマクロ粒子が密集した金属コーティングを堆積させることと、該表面層を１２０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内の紫外光に露出させることとを包含する。
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【課題】
保安機能を備え、かつ、隣り合う分割部への影響を低減し、かつ任意の膜抵抗に対応する金属蒸着フィルムを手供する。
【解決手段】
高分子フィルムの少なくとも片面に金属が蒸着された金属蒸着フィルムであって、該金属蒸着面に、長手方向に連続した少なくとも１本の非蒸着マージン、及び、下記（１）〜（３）を満たす複数本の幅方向の非蒸着マージンを含む金属蒸着フィルム。
（１）各非蒸着マージンには、それぞれ少なくとも１箇所の不連続部分がある。
（２）各非蒸着マージンは交差しない。
（３）隣り合う非蒸着マージンの間に、幅方向で少なくとも１ヶ所の狭隘部がある。 （もっと読む）