国際特許分類[C23C14/20]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般 (47,648) | 金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般 (43,865) | 被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆 (14,491) | 被覆材料に特徴のあるもの (5,176) | 金属質材料,ほう素またはけい素 (937) | 有機質基板上に被覆するもの (158)
国際特許分類[C23C14/20]に分類される特許
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真空蒸着によって金属メッキ層を形成するフレキシブル回路基板用積層構造体の製造方法およびその装置
【課題】金属通電層の形成されたポリイミドフィルムが大気によって酸化されあるいは外部大気中の粉塵などによって汚染されることなく、金属メッキ層を形成することが可能なフレキシブル回路基板用積層構造体の製造装置およびその方法を提供する。
【解決手段】本発明のフレキシブル回路基板用積層構造体の製造方法は、ベースフィルムを表面処理する段階と、ベースフィルムにタイ層を形成する段階と、タイ層の形成されたベースフィルムに金属通電層を形成する段階と、金属通電層の形成されたベースフィルムに、電子ビームの照射による金属の蒸着によって金属メッキ層を形成する段階とを含み、これらの段階は全て真空チャンバー内で行われる。
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合成樹脂成形物表面における有機化合物の吸着抑制方法
【課題】 合成樹脂成形物の表面に有機化合物が吸着されることを抑制する技術を開発すること。
【解決手段】 プラズマを用いた薄膜形成技術により、合成樹脂成形物の表面に金属、珪素またはそれらの酸化物の薄膜層を形成すれば、有機化合物の合成樹脂成形物への吸着を抑制することができる。
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非平面状基体のためのプラズマ被覆装置
非平面状物品は、実質的に均一な厚さ及び実質的に均一な耐摩耗性を有し、ほぼ平均値の±0.25の間の範囲にある△曇り(%)を有する、プラズマ蒸着した耐摩耗性被覆を含む。
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接合複合体およびその製造方法
【課題】 従来技術の欠点を回避するべき、表面および表面近傍の固体領域のポリマー化合物である基体材料と他の材料との間の確り接合した複合体の提供。
【解決手段】 この課題は、表面および表面近傍の固体領域に僅かな活性表面エネルギーのポリマー化合物を有する基体材料と他の材料との接合複合体において、接合される物質(1,4)相互の間に、ナノ組織化されたナノ複合材料(5)を有する変移領域(6)が、該変移領域が20nm〜20μmの層厚を有しそして専らナノ複合材料(5)で形成されており、該ナノ複合体は基体材料(1)と他の材料(4)で構成されそして基体材料(1)と他の材料(4)との割合が基体材料(1)の直ぐ近くの専ら基体材料から他の材料(4)の直ぐ近くの専ら他の材料に亙って変化するように形成されており、その結果基体材料(1)が他の材料(4)中でナノ組織化されて変移することを特徴とする、上記接合複合体によって解決される。
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電子デバイス、又は有機EL素子用プラスチック基板の製造方法、及び該方法により構成された電子デバイス、又は有機EL素子用プラスチック基板、又は有機EL素子
【課題】 本発明は、水蒸気バリア性、ガスバリア性に優れたプラスチックレンズ基板を用いて軽量、且つ長時間にわたり発光特性を維持することのできる電子デバイス、又は有機EL素子用プラスチック基板の製造方法、及び該方法により構成された電子デバイス、又は有機EL素子用プラスチック基板、又は有機EL素子を提供することを課題とする。
【解決手段】 水蒸気バリア層、及びガスバリア層を有する電子デバイス、又は有機EL素子用プラスチック基板の製造方法であって、水蒸気バリア層、及びガスバリア層を少なくとも一対の無機層と有機層とからなる無機/有機積層膜で形成し、且つ有機層を熱化学蒸着法、或いはプラズマ重合法を用いて形成することである。
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電磁波シールドプラスチック成形品
光学反射膜の形成方法
【目的】アルミニウム反射膜を大きな成膜速度で形成することができるスパッタリング成膜法を改良して、PMMA基板の面に対するアルミニウム反射膜の密着力を高くかつ一定に制御する手段を提供する。
【構成】真空中でプラスチックス基板に対向する電極に電力を供給してグロー放電させることにより該基板の表面を改質する第1工程と、ヘリウムを含有しない不活性ガス雰囲気中で該基板の表面に対してアルミニウム又はアルミニウム合金膜をスパッタリング成膜する第2工程と、ヘリウム含有不活性ガス雰囲気中で該基板の表面に対してアルミニウム又はアルミニウム合金膜をスパッタリング成膜する第3工程と、ヘリウムを含有しない不活性ガス雰囲気中で該基板の表面に対してアルミニウム又はアルミニウム合金膜をスパッタリング成膜する第4工程とを順に実施して光学反射膜を形成する。
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蒸着層を有する熱可塑性樹脂フィルム
【目的】 金属蒸着層の密着性にすぐれた蒸着層を有する熱可塑性樹脂フィルムを提供すること。
【構成】 オレフィン構造単位50〜98モル%、アクリレート構造単位1〜15モル%およびマレイミド構造単位1〜35モル%からなる線状に不規則に配列した重量平均分子量1000〜50000 のポリオレフィン系樹脂を0.3 〜50重量%含有した熱可塑性樹脂フィルムに蒸着層を設けたことを特徴とする。
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