国際特許分類[C23C14/20]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般 (47,648) | 金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般 (43,865) | 被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆 (14,491) | 被覆材料に特徴のあるもの (5,176) | 金属質材料,ほう素またはけい素 (937) | 有機質基板上に被覆するもの (158)
国際特許分類[C23C14/20]に分類される特許
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パラジウム金属膜積層フィルム
【課題】
本発明は、経時で安定した表面抵抗値を示すパラジウム金属膜積層フィルムを提供するものである。
【解決手段】
基材フィルムの少なくとも片面にパラジウム金属膜が積層された積層体であって、金属膜中に含まれる希ガスの濃度が0.1〜10atm%以下であるパラジウム金属膜積層フィルム。
または、基材フィルムの少なくとも片面にパラジウム金属膜が積層された積層体であって、パラジウム金属膜の密度が9.00g/cm3以上であるパラジウム金属積層フィルム。
または、基材フィルムの少なくとも片面にパラジウム金属膜が積層された積層体であって、成膜直後のパラジウム金属膜のパラジウム面密度Aと成膜直後のパラジウム金属膜の表面抵抗値Bが下記式(1)を満たすパラジウム金属積層フィルム。
A×B≦7000×1015 (1)
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ガスバリア性蒸着フィルム、その製造方法及びそれを使用した積層材
【課題】 アンチモン系触媒を使用せずに製造された蒸着フィルムであって、且つ、優れたガスバリア性を示し、包装用途及び光学用途に好適な物性を備えた蒸着フィルム。
【解決手段】 重縮合触媒としてチタン系触媒を使用して製造したポリエステルフィルムからなる基材フィルムの一方の面に、アンカーコート、酸化物蒸着膜及びバリアコートを積層したガスバリア性蒸着フィルム。
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ガスバリア性蒸着フィルム、並びにそれを用いた輸液バッグ及び輸液バッグ用外装袋
【課題】 アンチモン系触媒を使用せずに製造された蒸着フィルムであって、且つ、優れたガスバリア性を示し、包装用途及び光学用途に好適な物性を備えた蒸着フィルム、並びにそれを用いた輸液バッグ及び輸液バッグ用外装袋。
【解決手段】 重縮合触媒としてチタン系触媒を使用して製造したポリエステルフィルムからなる基材フィルムの一方の面に、酸化物蒸着膜、バリアコート及びヒートシール性樹脂層を積層したガスバリア性蒸着フィルム、並びにそれを用いた輸液バッグ及び輸液バッグ用外装袋。
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ガスバリア性蒸着フィルム、その製造方法及びそれを使用した積層材
【課題】 アンチモン系触媒を使用せずに製造された蒸着フィルムであって、且つ、優れたガスバリア性を示し、包装用途及び光学用途に好適な物性を備えた蒸着フィルム。
【解決手段】 重縮合触媒としてチタン系触媒を使用して製造したポリエステルからなる基材フィルムの一方の面に、酸化物蒸着膜及びバリアコート層を積層したガスバリア性蒸着フィルム。
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低放射性建築用膜材
【課題】本発明は、低放射特性を付与することを課題とする。
【解決手段】フッ素樹脂を被覆した耐熱性繊維織布基材31と、この耐熱性繊維織布基材31の片面に形成された金属層37とを具備することを特徴とする低放射性建築用膜材。
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熱可塑性樹脂組成物およびその製造方法、ならびにこれを用いて成形された光反射体用部品、および光反射体
【課題】平滑性と光沢性を両立すると共に、金型離型性に優れ、耐熱性が良好で、高温環境下における加熱曇りを抑制した成形品を成形できる熱可塑性樹脂組成物およびその製造方法、ならびにこれを用いて成形された光反射体用部品、および当該光反射体用部品に光反射金属層が直接形成された光反射体を提供する
【解決手段】(A)熱可塑性ポリエステル樹脂100質量部に対して、(B)脂肪酸エステルを0.05〜3質量部含有する熱可塑性樹脂組成物であって、当該熱可塑性樹脂組成物の脂肪酸含有量が50ppm以下である熱可塑性樹脂組成物。
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保護膜で保護された金属装飾膜を備えた樹脂製基材及び樹脂製基材への金属装飾膜の積層方法
【課題】 有機溶剤を用いて保護膜を形成しても樹脂製基材が侵されることがない保護膜で保護された金属装飾膜を備えた樹脂製基材及び樹脂製基材への金属装飾膜の積層方法を提供する。
【解決手段】 保護膜で保護された金属装飾膜を樹脂製基材に積層する方法であって、前記樹脂製基材上に、蒸着重合法による高分子膜と、金属装飾膜とを積層した後、有機溶剤を用いて保護膜を積層することを特徴とする。
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磁気記録媒体用シリコン基板の製造方法および磁気記録媒体
【課題】充分な耐衝撃性を有し、加工プロセスや磁気記録層の成膜プロセスを複雑なものとすることがなく、表面平坦性に優れ、しかもコストダウンを可能とする磁気記録媒体用Si基板を提供すること。
【解決手段】本発明では、多結晶Siウェハの平坦化の工程でのエッチングは行なわれず、機械研削のみで平坦化がなされる(S104、S106)。これは、エッチング速度に結晶面依存性があるため、多結晶Siウェハをエッチングすると、ウェハ表面に露出している各結晶粒の結晶方位面の違いによって段差が生じることが避けられず、精密な表面平坦化の障害となるためである。そして、最終研磨段階に先立って予めSiウェハ表面を酸化膜で被覆して酸化膜付きSiウェハとし(S107)、この酸化膜表面を平坦化することで表面に段差のない平坦な基板(酸化膜付きSi基板)を得ている(S108)。
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電波透過性装飾部材
【課題】電波透過性および鏡面のような金属調光沢を有し、該金属調光沢が失われにくく、かつ低コストである電波透過性装飾部材を提供する。
【解決手段】該課題は、基体12と、該基体12上に設けられた、シリコンまたはゲルマニウムと金属との合金からなる光反射層14とを有する電波透過性装飾部材10により解決され、光反射層14としては、シリコンまたはゲルマニウムと金属との合金の物理的蒸着によって形成された蒸着膜であることが好ましい。
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包装用蒸着フィルム
【課題】基材フィルムの表面に形成した蒸着層に型押しを施して凹凸模様を形成する包装用蒸着フィルムにおいて、より鮮やかな模様が得られるようにする。
【解決手段】蒸着フィルム1は、基材フィルム2の表面にプライマー層5を形成し、プライマー層5の表面に蒸着層3を形成したものである。模様原版4で蒸着層に型押しを施し、凹凸模様を形成する。
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