本発明は、耐火金属、抵抗性酸化物及び揮発性酸化物から選択される少なくとも１つの化合物を含むターゲットを、溶射、特にはプラズマ溶射によって製造するための方法に関する。当該方法は、粉末組成物の形態の前記化合物の少なくとも一部が、制御された雰囲気中で溶射によって前記ターゲットの表面の少なくとも一部に噴射され、及びその構築の際に前記ターゲットに向けられる強力な極低温の冷却ジェットが使用されることを特徴としている。 （もっと読む）

本発明は摺動素子、特に内燃機関のためのピストンリングに関するものであり、摺動素子は基材と、耐磨耗層と、慣らし層とを備える。耐磨耗層は、２〜５０Ｗｔ％の鉄（ＦＥ）と、５〜６０Ｗｔ％のタングステン（Ｗ）と、５〜４０Ｗｔ％のクロム（Ｃｒ）と、５〜２５％のニッケル（Ｎｉ）と、１〜５Ｗｔ％のモリブデン（Ｍｏ）と、１〜１０Ｗｔ％の炭素（Ｃ）と、0.1〜２Ｗｔ％のシリコン（Ｓｉ）の元素比率を有する粉末を溶射することによって得られるものとし、また慣らし運転層は、粉末を溶射することによって形成可能とし、粉末の元素比率は６０〜９５Ｗｔ％のニッケルと、５〜４０Ｗｔ％の炭素の元素比率を有する粉末を溶射することによって得られるものとする。 （もっと読む）

本発明は特に、物品（３）の金属表面（５）を被覆するためのエナメル被覆物（７）に関する。さらなる被覆物層（８）を適切に結合するために必要とされる機械的結合相互作用のために適した表面粗さを得るために、エナメル被覆物（７）は、触媒エナメルと、通常のエナメルおよび熱分解エナメルの少なくとも１つとの混合物を含む。
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基材を金属境界材料で熱被覆して第一層を形成するステップと、当該第一層を金属溶射材料で熱被覆して第二層を形成するステップとを含む、ポリマー基材を被覆する方法が記載される。関連の被覆物品、被覆部材、アクチュエータおよび他の品目も含まれる。もたらされる被覆物品は、化学的、機械的、および／または熱的に侵食性の環境において剥離抵抗性があり、高強度で軽量の容易に成形可能または機械加工可能なポリマーから主に製造される構成材の使用を可能にする。
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【課題】海水に対して耐食性、耐久性に優れた耐海水用磁性材料を提供する。
【解決手段】磁性体からなる基板の海水と接触する表面に、ＣｒＮ、ＴｉＮ、ＡｌＮ、ＢＮ、ＢＣＮ、ＡｌＢＮからなるナイトライド系材料、および水素を含むダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）、ＴｉＣからなるカーボン系材料から選択される少なくとも１種以上の材料で構成される被覆層を有し、該被覆層は１層もしくは２層以上の被覆層で構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイスにエッチング等の処理を施す処理室の内壁からの溶射材料に起因する異物の飛散を抑制する。
【解決手段】真空処理室内部に導入された処理ガスに高周波エネルギを供給してプラズマを生成し、前記真空処理室内部に配置した試料にプラズマエッチングを施すプラズマエッチング装置における前記真空処理室のプラズマと接触する部品に溶射機を用いて溶射膜を形成する溶射膜の形成方法において、前記溶射機は、溶射フレームにより溶射材料を加熱溶融して被覆対象面に吹き付ける溶射機本体１０７および該本体と前記被覆対象面１１１間に配置した遮蔽板１０９を備え、該遮蔽板により溶射フレーム外周部の流れに沿って前記被覆対象面に飛来する溶射粒子を遮蔽する。 （もっと読む）

【課題】断熱性能が高く、かつ、耐熱サイクル性に優れ高信頼性の遮熱セラミックスコーティング及びこれを用いた高温部品搭載システムを提供する。
【解決手段】遮熱セラミックスコーティング３は、中央部に設けられた熱伝導抑制用酸化物セラミックス部３０と、熱伝導抑制用酸化物セラミックス部３０の表面側に形成され、熱伝導抑制用酸化物セラミックス部３０より融点の高い酸化物層を含む積層構造を有する表面側積層構造部３１と、熱伝導抑制用酸化物セラミックス部３０より基材１側に形成され、熱伝導抑制用酸化物セラミックス部３０より融点の低い酸化物層を含む積層構造を有する基材側積層構造部３２とを具備している。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイス製造装置やフラットパネルディスプレイデバイス製造装置などのプラズマエロージョンを防止する目的において有用な溶射皮膜の形成に適した溶射用粉末を提供する。
【解決手段】本発明の溶射用粉末は酸化イットリウム粒子からなる。酸化イットリウム粒子のＢＥＴ比表面積は１〜２５ｍ^２／ｇである。溶射用粉末の５０％粒子径に対する溶射用粉末の９０％粒子径の比率であるＤ_９０／Ｄ_５０の値は４以下である。溶射用粉末の安息角は５５度以下である。溶射用粉末の分散度は４％以上である。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイス製造装置やフラットパネルディスプレイデバイス製造装置などのプラズマエロージョンを防止する目的において有用な溶射皮膜の形成に適した溶射用スラリーを提供する。
【解決手段】本発明の溶射用スラリーは、酸化イットリウム粒子及び分散媒を含有する。酸化イットリウム粒子の純度は９５質量％以上であり、酸化イットリウム粒子の平均粒子径は６μｍ以下であり、溶射用スラリー中の酸化イットリウム粒子の含有量は１．５〜３０体積％である。酸化イットリウム粒子のＢＥＴ比表面積は、好ましくは１〜２５ｍ^２／ｇである。また、液圧測定法による溶射用スラリーの相対堆積割合は、好ましくは３０％以下である。 （もっと読む）

【課題】 本発明により空隙がなく優れた耐摩耗性を持つ溶射膜を形成できる粉末を製造することができるＣｏ基自溶性合金粉末およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 自溶性合金内部にＷＣ粒子が分散した粉末であり、該ＷＣ粒子中にＷ以外の炭化物生成元素が０．１質量％以上存在しないことを特徴とするＷＣ粒を分散させた自溶性合金粉末。また、上記のＷＣ粒子を分散してなる自溶性合金粉末に対し、ＷＣ粒子を１５〜６０％混合してなることを特徴とするＷＣ粒子を分散させた自溶性複合合金粉末およびその製造方法。 （もっと読む）