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国際特許分類[C25D21/04]の内容

国際特許分類[C25D21/04]に分類される特許

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【課題】ワークに対する塗装不良に繋がるエアポケットの発生防止に好適な電着塗装方法および電着塗装装置を提供する。
【解決手段】電着塗料液を貯留する電着槽1へワークWを浸漬させた状態で電圧を印加してワークW表面に塗膜を形成する電着塗装において、前記浸漬させたワークW表面に電着塗膜を形成する通電時には、少なくともワークWが存在する領域において、前記電着槽1の底面近傍に配置して液面に向けて電着塗料液を噴出する噴射ノズルを多数備えるライザー管7からの噴出電着塗料液により、前記電着槽1の底面領域から電着塗料液の表面へ上昇する攪拌流を付与してワークWに電着塗装するようにした。 (もっと読む)


【課題】容器内部に存在する気泡を、容器外部へと追い出すことができるめっき装置を提供する。
【解決手段】容器3は、下側にめっき液流通孔321を有し、上側にメッシュ部材31を有し、めっき液11中に浸漬される。被めっき物51は、容器3の内部に収容される。流動手段71は、容器3の内部で、めっき液流通孔321からメッシュ部材31へと至るめっき液流F2を生じさせる。メディア52は、容器3の内部に収容され、比重が、めっき液11の比重よりも大きく、かつ、被めっき物51の比重よりも小さい。 (もっと読む)


【課題】基板の表面に、ムラのない、均一なめっき層を形成することができるめっき方法を提供する。
【解決手段】めっき液を減圧雰囲気下で脱気して該めっき液に溶解していたガス成分を除去する脱気工程と、前記脱気工程により得られためっき液に基板を浸漬して該基板の表面にめっき層を形成するめっき工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】均一なめっき皮膜を有するめっき部材の製造方法を提供する。
【解決手段】一端に開放口9を有する泡沫形成槽3内に界面活性剤を含むめっき液2を供給し、フィルタ5を通してNガスを吹き込み、発泡しためっき液泡沫8を開放口9から流出させ、連続的なめっき液気泡層10として流下させつつ、外部に設ける被めっき部材(陰極)11に供給し、めっき液気泡層10内で電気めっきを行う。 (もっと読む)


【課題】ねじ加工が施されていても表面及びねじの谷部に付着した気泡を除去することができ、めっき不良を生ずることなく筒状のワークの内面にめっきすることができる揺動式めっき装置を提供する。
【解決手段】筒形のワークWとその内部に配置される陽極Aとを固定した治具23をハンガー1に取り付けてこれをめっき槽32内に投入してめっきするめっき装置において、めっき槽32内で前記した治具23を振り子状に揺動させる揺動機構をハンガー1に設けて、筒形のワークの内面にめっき不良を生ずることなくめっきできるようにした。 (もっと読む)


【課題】ウエハ等のめっき処理において、めっき処理面へ付着する気泡を除去する。
【解決手段】噴流式めっき装置100で、電界めっきに使用されためっき液をめっき液再生機構50で再生するに際し、めっき液をフィルタ室80へ入る直前に自己共鳴管90を通過させる。自己共鳴管90を通過しためっき液は、振動流となり、めっき液に付与された振動で、めっき液中のマイクロバブルBが互いに結合して大きな気泡Cとなり、自然に脱気しやすい状態となる。かかる状態のめっき液をフィルタ80aで濾過して、マイクロバブルBを含まないめっき液の再生を図る。 (もっと読む)


【課題】本発明は、めっき液に界面活性剤を加えることなく、被めっき基板に形成された微細な溝や穴にめっき液を浸入させることができ、めっき欠け、めっき抜けの発生がない高品質のめっきを行うことができるめっき方法及び装置を提供する。
【解決手段】被めっき物に電解又は無電解めっきを行なうめっき方法であって、めっき液中の溶存気体を脱気した後、又はめっき液中の溶存気体を脱気しながらめっきを行なう、及び/又は、前処理液中の溶存気体を脱気した後、又は前処理液中の溶存気体を脱気しながら前処理を行い、その後めっきを行う。 (もっと読む)


【課題】めっき液中への気体の導入によるめっき液中の成分の揮発を抑えること。
【解決手段】めっき槽を外気から遮断可能とし、めっき液を通した気体を回収して新鮮な気体とともにめっき槽内に再度導入することにより、全体の気体の流量は保ったままで成分の揮発を抑えるとともに気体の使用量を削減する。 (もっと読む)


【課題】気泡の抜けが比較的よいディップ方式を採用し、広い占有面積を占めることなく、バンプ等の突起状電極に適した金属めっき膜を自動的に形成できるようにする。
【解決手段】配線が形成された基板の上に突起状電極を形成するめっき装置であって、基板カセットを置くカセットテーブル12と、基板に対して濡れ性を良くするためのプリウェット処理を施すプリウェット槽26と、該プリウェット槽でプリウェット処理を施した基板にめっきを施すめっき槽34と、めっきされた基板を洗浄する洗浄装置30bと、洗浄された基板を乾燥させる乾燥装置32と、めっき液の成分を分析し、この分析結果に基づいてめっき液に成分を追加するめっき液管理装置と、基板を搬送する基板搬送装置40とを備えた。 (もっと読む)


【課題】本発明は、電気化学的表面処理において金属廃液の削減と、付き周りが良くピンホールの無い高品位な金属皮膜を、容易に実現させる。
【解決手段】金属塩を含む水溶液と疎水性溶媒の共存下に被対象物に表面処理を行うことを特徴とし、ここで表面処理とは電解めっき、化学めっき、電鋳、陽極酸化、電解研磨、電解加工、電気泳動塗装、電解精錬および化成処理からなる群から選択される、表面処理方法。 (もっと読む)


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