【課題】銅源としての酸化銅（II）を補給することによって発生した電解銅めっき液中の溶存酸素濃度の急増を抑制困難な従来の不溶性陽極を用いた電解銅めっき方法の課題を解消する。
【解決手段】
硫酸銅が添加された電解銅めっき液に浸漬しためっき対象に、不溶性陽極を用いて電解銅めっきを施す際に、前記電解銅めっき液に対して銅源として酸化銅を補給し、その際に、前記酸化銅の補給によって電解銅めっき液中に増加する溶存酸素濃度を抑制すべく、前記電解銅めっき液に硫酸鉄(II)を前記電解銅めっき液に添加する。 （もっと読む）

【課題】充分な速度でめっき金属を溶解して、金属イオンをめっき槽に供給でき、かつスラッジの発生を防止できるめっき液供給機構を提供する。
【解決手段】めっき金属を溶解させることにより金属イオンを含む溶液を、被メッキ材ｗにめっき処理を施すめっき槽９に供給するめっき液供給機構１、１２、１３として、めっき金属が光触媒とともに容器２０に収容されて溶液に浸漬され、容器の周囲に酸化剤を供給する酸化剤供給機構２１が備えられ、かつ光触媒に光を照射可能な光学窓２２が形成されて、上記めっき槽に上記金属イオンを含む溶液を供給する供給手段１９が備えられためっき液供給槽１０を設けた。上記容器を、溶液、金属イオンおよび酸素が流通可能であって、めっき金属および光触媒が流通不能かつ光が透過可能に構成した。 （もっと読む）

【課題】電解質溶液中に第一スズイオンを補給する改良された方法を提供する。
【解決手段】酸化第一スズを含む酸性溶液を用いて、水性電解めっき浴中にスズおよび合金形成金属を補給する方法が開示される。スズまたはスズ合金の電気めっき中に第一スズイオンおよび合金形成金属イオンが枯渇する。継続的かつ効果的な電気めっきプロセスを維持するために、スズおよびその合金形成金属を含むめっき浴の所定量がベールアウトされる。ベールアウトは、次いで、酸化第一スズおよび任意の合金形成金属を含む酸性溶液の所定量と混合される。その混合物は、次いで、めっき浴に戻されて、第一スズイオンおよび合金形成金属イオンをその定常状態濃度に戻す。 （もっと読む）

【課題】充分な速度でめっき金属を溶解して、金属イオンをめっき槽に供給でき、かつスラッジの発生を防止できるめっき液供給機構を提供する。
【解決手段】めっき金属を溶解させることにより金属イオンを含む溶液を、被メッキ材ｗにめっき処理を施すめっき槽９に供給するめっき液供給機構として、内部にめっき金属を含む溶液が貯留されて溶液に光触媒が混在するとともに、めっき金属の周囲に酸化剤を供給する酸化剤供給機構２１が備えられ、かつ光触媒に光を照射可能な光学窓２２を有するめっき金属溶解槽２と、このめっき金属溶解槽から金属イオンが隔膜２３、２４を透過して流入することにより金属イオンの濃度が上昇した溶液をめっき槽に供給可能に設けられた金属イオン供給槽３、３０とを有するものとした。隔膜として上記金属イオンが透過可能であって上記光触媒が透過不能であることを用いた。 （もっと読む）

【課題】溶存酸素濃度の上昇を抑えて、添加剤の分解を抑えることができる不溶解性陽極を用いる電解銅めっき方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る不溶解性陽極を用いる電解銅めっき方法は、硫酸銅めっき液に対して銅源として酸化銅を補給する際、該めっき液に炭酸化合物を添加して炭酸ガスを発生させ、炭酸ガスによって溶存酸素をめっき液から排出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高精度の電解メッキが可能であり、電解メッキ後の電解メッキ液から銅イオンを回収して再利用し生産コストを低減する。
【解決手段】硫酸銅水溶液製造装置２０と、添加剤供給装置３０と、電解メッキ装置４０と、電解メッキ装置４０から排出される電解メッキ液から銅イオンを回収する銅イオン回収装置１０と、を備え、銅イオン回収装置１０は、イオン発生槽１１と、イオン発生槽１１を陽極室１２と中間室１３とに区画し水素イオン及び銅イオンを透過可能な第１隔膜１４と、イオン発生槽１１を中間室１３と陰極室１５とに区画し水素イオンを透過可能な第２隔膜１６と、少なくとも陽極室１２に設けられる陽極１８ａと、陰極室１５に設けられる陰極１７と、を有し、送出路１３ａが、少なくとも硫酸銅水溶液製造装置２０、添加剤供給装置３０又は電解メッキ装置４０のいずれか１つ以上に銅イオンを送出するよう構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】鉛フリーはんだ等の合金めっきを、大規模で複雑な装置を必要とすることなく、かつ、管理コストの増大を招くことなく行うことができ、更には合金めっき特有の置換問題への対策を行うことができる合金めっき方法及び合金めっき装置の提供。
【解決手段】電解めっき法にて被めっき対象に合金をめっきする合金めっき方法において、合金を構成する金属元素の種類と同数の槽を設け、各々の槽内のめっき液中に、各々の金属元素からなる可溶性固体陽極を配置し、いずれか一つの槽内若しくは別に設けた槽内のめっき液中に、前記被めっき対象からなる陰極を配置し、各々の前記可溶性固体陽極と前記陰極とを整流器を介して電気的に接続し、各々の前記可溶性固体陽極に、合金組成に応じた電流を供給する。 （もっと読む）

【課題】めっき液に含まれる構成成分の濃度を演算し、めっき液の調整を適正に行い、めっき処理の品質を維持する。
【解決手段】めっき液に一または複数の添加剤を加えて半導体ウエハにめっき処理を行う工程（ステップＳ１）と、めっき処理の処理状態を示す一または複数のパラメータを測定する工程（ステップＳ３）と、パラメータからめっき液に含まれる構成成分の濃度を演算する工程（ステップＳ４）と、演算された構成成分の濃度が予め定めた閾値以内に収まるように、めっき液の調整処理を行う工程（ステップＳ６）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】めっき液中における分解生成物の濃度を、高価な設備を要することなく容易に測定することを可能にする。
【解決手段】被処理物をめっき液に浸して当該被処理物に金属の薄膜を形成するとともに、前記めっき液として前記薄膜の形成に必要となる添加剤および前記金属よりも標準電極電位が低い金属イオンからなる分析試料が添加されたものを用いるめっき処理部１，２と、前記めっき液における前記添加剤の濃度を検出する添加剤濃度検出部６と、前記めっき液における前記分析試料の濃度を検出する分析試料濃度検出部７と、前記添加剤濃度検出部６および前記分析試料濃度検出部７での各検出結果から、前記めっき液の供給時に対する前記添加剤と前記分析試料との濃度バランスの変化を認識して、当該めっき液における添加剤分解生成物の濃度を算出する分解生成物濃度算出部８と、を備えるようにめっき処理装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】銅イオンが溶解する際に析出されるアノードスライムの発生量を減少させることができ、好ましくは、上記アノードスライム除去を簡便に行うことができる銅めっき液供給装置を提供する。
【解決手段】銅イオン濃度の低い銅めっき液ｓに銅イオンを溶解させる銅イオン溶解槽１を有し、銅イオン溶解槽１内は、銅めっき槽から流入する銅めっき液ｓが貯留される陽極室２と、電解液ｋが貯留される陰極室３とが銅イオン透過抑制膜４を介して隣接して設けられ、陽極室２には、銅めっき液ｓに通電によって溶解する可溶性銅陽極５が浸漬されるとともに、可溶性銅陽極５に向けて酸素含有ガスを放出する酸素含有ガス排出管７が設けられ、かつ陰極室３には、電解液ｋに陰極６が浸漬されており、陽極室２内の銅めっき液ｓを銅めっき槽に供給する供給機構が備えられていることを特徴とする。 （もっと読む）