【課題】成形機内での加熱による粉粒体の変質を防止でき、成形品の黄変を抑制することができる乾燥システム、および、その乾燥システムを用いた乾燥方法を提供すること。
【解決手段】
粉粒体を乾燥して成形機２へ供給する乾燥システム１に、粉粒体を貯留する第１貯留ホッパ１３を備える第１乾燥部３と、第１貯留ホッパ１３よりも小容積で成形機２上に設置される第２貯留ホッパ３３を備える第２乾燥部と、第１貯留ホッパ１３と第２貯留ホッパ３３とに接続され、第１貯留ホッパ１３から第２貯留ホッパ３３へ粉粒体を輸送する輸送ライン５１とを設け、粉粒体を、第１貯留ホッパ１３内において第１温度で乾燥させた後、第２貯留ホッパ３３内において、窒素ガス置換しながら、第１温度以上の第２温度で乾燥させ、その後、第２貯留ホッパ３３から成形機２へ自重で落下させる。 （もっと読む）

【課題】従来に比較して一層高い熱効率を得ることのできる粒状プラスチック材料の乾燥方法および乾燥装置並びに乾燥装置用のホッパドライヤを提供する。
【解決手段】乾燥装置１０では、窒素発生器３６に高分子膜式乾燥機３２で除湿された乾燥空気が供給されるので、その窒素発生器３６による処理効率が高められ、すなわち窒素純度が高められると共に水分量が一層減少させられるので、その窒素が窒素供給回路３８および循環空気加熱用ヒータ２２を介してホッパドライヤ１４に供給されることから、ペレット１２の乾燥効率が高められる。 （もっと読む）

【課題】噴霧乾燥装置で製造される微粉末を歩留良く回収することができる粉体補集目的のサイクロン装置を提供すること。
【解決手段】サイクロン本体と、分散粉体を含んだ気体流をサイクロン本体に吹き込むために設けられた粉体導入管と、サイクロン本体内のガスを排気するために設けられ排気管と、吸引口を有するサイクロン本体下部に設けられた粉体回収容器と、圧縮ガスを用いて吸引力を発揮するエジェクターを具備し、エジェクターにより粉体回収容器の吸引口からガスを吸引することによるブローダウン機構を有し、エジェクターにより吸引したブローダウンガスと圧縮ガスの混合ガスを粉体導入管もしくは、サイクロン本体に吹き込むことを特徴とする粉体回収装置である。 （もっと読む）

【課題】処理材料の乾燥処理工程に要する熱エネルギーを従来よりも低減する。
【解決手段】乾燥処理装置１００は、処理材料を収容する密閉容器５を内部に収容可能であって、各接続装置１２〜１４と、密閉容器５の内部が窒素ガスで加圧されるように変更可能な窒素ガス置換ユニット１５と、密閉容器５の内部が真空状態になるように変更可能な真空引きユニット１６とを有する恒温室２と、恒温室２から外部に搬送された密閉容器５を冷却する冷却機構３とを備える。 （もっと読む）

【課題】被処理基板への影響を低減しつつ良好な洗浄、乾燥処理を実行可能な基板処理装置等を提供する。
【解決手段】基板処理装置２に設けられた洗浄槽２２１では、洗浄液供給部から洗浄液を供給しながら当該洗浄液に被処理基板Ｗを縦向きの状態で浸漬して洗浄が行われ、この洗浄槽２２１の上方領域と連通する乾燥室２１では、洗浄槽２２１から引き上げられた被処理基板Ｗの乾燥が行われる。そして、第１の乾燥ガス供給部及び第２の乾燥ガス供給部からは、洗浄後の被処理基板Ｗの上端が洗浄液の液面より上方に引き上げられた後、少なくとも被処理基板が晒される領域に、前記洗浄槽の上方領域から乾燥室内に至るまでの雰囲気に液体除去用の溶剤蒸気を含む第１の乾燥ガスと、前記溶剤蒸気を含まない第２の乾燥ガスとが交互に供給される。 （もっと読む）

【課題】含水湿潤ゲルを乾燥させる過程で、ゲルに手を加えず、かつ有機溶媒や気体など亀裂の発生を抑制するための試薬を使用することなく、ゲルの亀裂の発生を簡単、安価に抑制する方法を提供する。
【解決手段】含水湿潤ゲルを乾燥する際に、まず含水湿潤ゲルから水を除去して含水湿潤ゲルの水含有量を減少させ、次いで、残りの溶媒を除去することにより湿潤ゲルを乾燥する。例えば、湿潤ゲル３と溶媒を含有する含水湿潤ゲルが収容された湿潤ゲル容器１を加熱する。これにより、溶媒３は湿潤ゲル容器１の上部空間８に蒸気となって蒸発する。この溶媒含有気体は、湿潤ゲル容器に嵌合された脱水剤容器２内に孔７を通して拡散し、脱水剤により水が除去される。この状態を１〜２日保持することにより、溶媒３中の水はほぼ除去される。その後脱水剤容器２を取り外し、水の除去された湿潤ゲルを加熱することにより溶媒をほぼ完全に除去した後、さらに高温で加熱して溶媒を完全除去すれば、亀裂の無い乾燥ゲルが得られる。 （もっと読む）

【課題】貯留槽を効率よく不活性ガス置換することができ、乾燥中に粉粒体が劣化することを防止することができる乾燥装置、および、その乾燥装置に用いられる不活性ガス置換方法を提供すること。
【解決手段】
粉粒体を貯留する貯留槽１１を備え、粉粒体をほぼ常圧で乾燥する乾燥装置１に、貯留槽１１を減圧するポンプ４１と、貯留槽１１に窒素ガスを供給する窒素発生装置２１とを備え、ポンプ４１により貯留槽１１を減圧し、窒素発生装置２１からの窒素ガスを貯留槽１１に供給する。 （もっと読む）

【課題】スリットノズルを使用するスピンレス塗布法において塗布処理直後に行われる減圧乾燥処理の効率性の向上および処理時間の短縮化を実現するとともに、減圧乾燥処理後のレジスト塗布膜の膜質均一性を向上させる。
【解決手段】レジスト塗布ユニットで当該基板Ｇに対して右辺Ｇ_Rから左辺Ｇ_Lに向かって塗布走査する第２モードが選択されたときは、減圧乾燥ユニット（ＶＤ）５２では、減圧乾燥処理中に左側のガス噴出部１０２を選択的に作動させて右側のガス噴出部１０４を止めておくような気流制御が行われる。この場合、手前（左側）の排気ポート１００ａ，１００ｂの排気流路が閉められ、向かい側（右側）の排気ポート１００ｃ，１００ｄを通じてチャンバ内の排気が行われる。 （もっと読む）

【課題】乾燥ガスが光透過部材から被処理基板上に滴下することを防止することにより、製品歩留まりの低下を防止することが可能な乾燥室、洗浄・乾燥処理装置、被処理基板を乾燥する乾燥処理方法、および記録媒体を提供する。
【解決手段】乾燥室１０は、被処理基板Ｗを収容する乾燥室本体１１と、乾燥室本体１１の内壁１１ａに設けられた光透過部材１２と、乾燥室本体１１の内壁１１ａと光透過部材１２との間に設けられた加熱用光源１３とを備えている。光透過部材１２の下方には、光透過部材１２側に向けて乾燥ガスを供給するガス供給部１４が設けられている。光透過部材１２の内面１２ａは、乾燥ガスがこの光透過部材１２の内面１２ａに液膜として付着するように表面処理が施されている。 （もっと読む）

【課題】環境への悪影響が少なく、被乾燥対象物を効率よく乾燥させることが可能な乾燥方法と乾燥装置を提供する。
【解決手段】乾燥装置１における乾燥方法は、繊維構造体１００に水と界面活性剤とを加える第１の行程と、第１の行程の後に、繊維構造体１００を液体状態または超臨界状態の二酸化炭素に浸漬させる第２の行程と、第２の行程において繊維構造体１００を浸漬させた液体状態または超臨界状態の二酸化炭素を蒸発させる第３の行程とを行なう。 （もっと読む）