【課題】ペットボトル等の他に、口部の大きさが一定でない紙パック等の容器も安定に支持することができる容器支持台を提供する。
【解決手段】倒立した容器１０の口部１０ａを挿入して支持する縦姿勢の棒状体２を備え、棒状体２は、上端が開放された長手方向のスリット２ａと、側方へ突出した受け部２ｃとを有し、受け部２ｃは、上端が開放された上下方向のスリット２ｃ１を有し、棒状体２の外周に、受け部２ｃの上端の高さよりも低い位置から棒状体２の上端に至る縦長の凹部２ｂを有し、棒状体２の下部は、他物に固着可能な吸盤３を備えている。紙パックを支持させる場合、倒立した紙パック１１の口部１１ａの側壁を棒状体２の長手方向のスリット２ａに上側から挿入して支持させる。ペットボトルの場合は、倒立したペットボトルの口部を棒状体２に上側から挿入して支持させる。 （もっと読む）

【課題】長尺状シートの搬送速度を高めた場合であっても、長尺状シートの蛇行の発生や長尺状シートのシワやキズ等の発生を抑制しつつ、長尺状シートに対して適切な水切処理を行うことが可能な長尺シート水切処理装置を提供する。
【解決手段】 水切処理装置３０は、ガイドロール３４２、３６２、エアナイフ３４４、３６４、および排気チャンバ３４６、３６６を備える。エアナイフ３４４、３６４は、ガイドロール３４２、３６２に張架された光学フィルム１１の部分に対して斜めからエアを吹き付けるように構成される。排気チャンバは、回転体との間に長尺状シートが通過可能な間隙を設けて配置される。また、排気チャンバ３４６、３６６は、エアの吹き付け位置を挟んでエアナイフ３４４、３６４に対向するように配置された開口部３４７、３６７を有する。 （もっと読む）

【課題】パターン倒れや汚染の発生を抑えつつ、被処理基板を乾燥することの可能な基板処理装置等を提供する。
【解決手段】処理容器３１内では、被処理基板Ｗが縦向きの状態で液体内に浸漬されており、この液体を超臨界状態の置換流体により押し出して処理容器３１より排出する。しかる後、液体と置換された後の置換流体を処理容器３１から排出して当該処理容器３１内を減圧し、この置換流体を超臨界状態から気体に遷移させることにより被処理基板Ｗを乾燥する。 （もっと読む）

【課題】パターン倒れや汚染の発生を抑えつつ被処理基板を乾燥することの可能な基板処理装置等を提供する。
【解決手段】載置部４２には、パターンの形成された面を上面として、当該上面が液体により濡れた状態で被処理基板Ｗが横向きに載置され、基板搬送機構４１は、載置台４２からこの被処理基板Ｗを受け取って、液槽３２内の液体中に浸漬するにあたり、前記パターンの形成領域の上端が当該液体に接触した時点において、このパターン形成領域の上端の板面に液体が残るように当該被処理基板Ｗを縦向きの状態に変換してから液体に浸漬する。処理容器３１では、この液槽３２を内部に格納した状態で、当該液槽３２内の液体を超臨界状態の流体に置換することにより、被処理基板Ｗを乾燥する処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】マランゴニ乾燥に比べて、基板に液滴が残留することをより効果的に防止し、ウォーターマークの発生を抑えることができる基板乾燥装置及び基板乾燥方法を提供する。
【解決手段】反磁性を有する液体で洗浄された基板を乾燥させる基板乾燥装置に、基板に付着した液体を磁力によって移動させるための磁石４と、磁石４を、基板に沿って該基板の縁側へ移動させる磁石搬送手段５とを備える。また、反磁性を有する液体で洗浄された基板を乾燥させる際、基板に付着した液体を磁力によって移動させるための磁石４を、基板に接近させ、磁石４を前記基板に沿って該基板の縁側へ移動させる。 （もっと読む）

【課題】乾燥効率の良い、簡易な構造を有する固形製剤用乾燥装置の提供。
【解決手段】固形製剤を保持すると共に気体を導通する製剤保持手段を内部に備え、前記製剤保持手段より下方に位置する気体導入口、及び、前記製剤保持手段より上方に位置する排気口がそれぞれ設けられてなる容器；及び
前記容器に前記気体導入口から低温乾燥気体を導入する送風手段；
を備えてなる固形製剤用乾燥装置であって、
前記低温乾燥気体は、容器導入時の大気下露点温度が−１０℃以下で、かつ容器導入時の大気下露点温度が容器導入時の温度よりも低いことを特徴とする固形製剤用乾燥装置。 （もっと読む）

【課題】環境への悪影響が少なく、被乾燥対象物を効率よく乾燥させることが可能な乾燥方法と乾燥装置を提供する。
【解決手段】乾燥装置１における乾燥方法は、繊維構造体１００に水と界面活性剤とを加える第１の行程と、第１の行程の後に、繊維構造体１００を液体状態または超臨界状態の二酸化炭素に浸漬させる第２の行程と、第２の行程において繊維構造体１００を浸漬させた液体状態または超臨界状態の二酸化炭素を蒸発させる第３の行程とを行なう。 （もっと読む）

【課題】エアナイフの基板との距離及び基板に対する角度の調整を人手に頼らず調整可能とする基板乾燥装置を提供する。
【解決手段】エアナイフから圧縮空気を噴射して、基板に付着した処理液を除去する基板乾燥装置であって、基板の上方及び下方に一対のエアナイフを有し、基板の乾燥要因とエアナイフの基板との距離調整値及び基板に対する角度調整値を記憶する調整値データベースと、前記調整値データベースに基づいて前記エアナイフの基板との距離及び基板に対する角度を自動調整するエアナイフ調整手段とを有することを特徴とする基板乾燥装置。 （もっと読む）

【課題】パターンの倒壊を防止しつつ基板を洗浄・乾燥させる半導体基板の表面処理方法を提供する。
【解決手段】薬液を用いて半導体基板を洗浄し、純水を用いて前記薬液を除去し、前記半導体基板表面に撥水性保護膜を形成し、純水を用いて前記半導体基板をリンスし、前記半導体基板を乾燥させる （もっと読む）

【課題】装置全体の構成が複雑化しないようにすることができ、且つ動力源などのエネルギー消費をなるべく抑えるように、動力部分を省略化することにより、低コストで対象物を乾燥させることができる乾燥装置を提供する。
【解決手段】湿気を含む被乾燥物１３を乾燥させる乾燥装置１０において、上面が開口した開口部１４を有し、被乾燥物１３が収納される収納部１１と、収納部１１の下端部に形成されたエア吹き込み口１６に接続され、収納部１１内にエアを吹き込んで乾燥させるとともに、乾燥した被乾燥物１３をエアの力によって上昇させる送風機１２と、収納部１１の上部壁面に形成され、エアによって乾燥した被乾燥物１３を噴出させる被乾燥物噴出口１８とを具備する。 （もっと読む）