【課題】 測定対象物のＸ線による回折環の形状が不連続の状態で検出されていても、測定対象物の残留応力を精度よく検出できるようにする。
【解決手段】 コントローラＣＴ内に、残留応力の変化に応じて変化する複数の比較回折環の形状を表す回折環形状データ群を残留応力に対応させてそれぞれ記憶しておく。コントローラＣＴは、測定対象物のＸ線による回折環の形状を検出し、前記記憶されている回折環形状データ群によって表される複数の比較回折環の形状に対する、前記検出された測定対象物の回折環の形状の一致度合いをそれぞれ計算する。そして、コントローラＣＴは、前記記憶されている残留応力と、前記計算された一致度合いとの関係に基づいて、前記検出された測定対象物の回折環の形状に最も近い形状の比較回折環に対応した残留応力を測定対象物の残留応力として計算する。 （もっと読む）

【課題】複数種類の測定データ及び解析データを取得できるＸ線分析装置において、データの内容とその内容をもたらした解析ソフトウエアとを簡単且つ正確に把握できるようにする。
【解決手段】複数の測定手法を実現できる機能を持ったＸ線分析装置１であり、この装置は、個々の測定手法を実現して測定データを取得する測定ソフトウエア３６と、その測定データに対して所定の解析を行って解析データを取得する解析ソフトウエア３７と、測定データ及び解析データの個々に基づいて縮小画像４２を作成する縮小画像作成手段２、３８と、解析ソフトウエアを指し示すアイコン４３を作成する解析アイコン作成手段２、３９と、縮小画像４２とアイコン４３とを互いが対応関係にあることを示しつつ同じ画面９ａ内に表示する画像表示手段２，９とを有する。 （もっと読む）

【課題】ラスタ素子のハニカム格子に起因する強度ムラを均一化することができる回折Ｘ線検出方法およびＸ線回折装置を提供する。
【解決手段】ポリキャピラリで形成されたラスタ素子１０を介して行なう回折Ｘ線検出方法であって、試料により回折させたＸ線をラスタ素子１０に入射させ、試料中心Ｓ_０からの距離を維持しＸ線の回折角度に対するラスタ素子１０の位置を変えつつ、ラスタ素子１０を通過したＸ線を検出器２０により検出する。これにより、回折角度ごとに生じるハニカム格子による影響が分散され、ハニカム格子に起因する強度ムラを均一化することができる。その結果、ラスタ素子を応用し、試料の周りからの散乱線を排除したり、いわゆる微小角入射Ｘ線回折測定で分解能を向上させたりする測定を有効に行なうことができる。 （もっと読む）

【課題】 イメージングプレートの取付け精度の良否によらず、測定対象物の残留応力を精度よく測定できるようにする。
【解決手段】 コントローラＣＴは、残留応力が０である基準物体ＢＯＢ及び測定対象物ＯＢに、Ｘ線出射器１３からのＸ線をそれぞれ照射して、イメージングプレート２８上に基準物体ＢＯＢ及び測定対象物ＯＢの回折環をそれぞれ撮像する。そして、コントローラＣＴは、前記撮像した両回折環の形状をそれぞれ検出し、測定対象物ＯＢの回折環の形状を、基準物体ＢＯＢの回折環の形状を用いて補正して、イメージングプレート２８のテーブル２７に対する取付け誤差の影響を少なくする。 （もっと読む）

【課題】表面形状と内部構造との双方を計測する。
【解決手段】実施形態によれば、計測装置は、電磁波照射手段と検出手段とデータ処理手段と膜構造変換手段と膜構造計測手段とを持つ。電磁波照射手段は電磁波を生成して前記基体へ照射する。検出手段は、前記基体で散乱されまたは反射した電磁波の強度を測定する。データ処理手段は、前記検出手段からの信号を処理して散乱プロファイルを作成して解析し、前記周期構造の表面形状を算出する。膜構造変換手段は、前記周期構造の表面構造に関する仮想的膜構造を算出し、参照データから前記周期構造の内部構造に関する仮想的膜構造を算出する。膜構造計測手段は、前記仮想的膜構造から測定条件を設定し、該測定条件に従って前記周期構造について実測による反射率プロファイルを取得して解析し、前記周期構造を構成する各層の膜厚を算出し、算出された前記膜厚と前記仮想的膜構造とを用いて前記周期構造の形状を再構築する。 （もっと読む）

【課題】チゲサイクリンの結晶性固体、フォームＩ、フォームＩＩ、フォームＩＩＩ、フォームＩＶ、およびフォームＶ、これらの結晶性固体を含む組成物、ならびにこれらの結晶性固体を提供すること。
【解決手段】チゲサイクリンの結晶性固体、フォームＩ、フォームＩＩ、フォームＩＩＩ、フォームＩＶ、およびフォームＶ、これらの結晶性固体を含む組成物、ならびにこれらの結晶性固体を調製する方法が本明細書に記載される。 （もっと読む）

【課題】粗粒かつ微少試料であっても均一な回折リングを得ることができるＸ線回折試料揺動装置、Ｘ線回折装置及びＸ線回折パターンの測定方法を提供する。
【解決手段】Ｘ線回折試料を保持する試料保持部３１をＸ線入射方向と平行にした第１の回転軸の周りに揺動可能な第１の揺動部２１と、前記第１の回転軸と直交する第２の回転軸の周りに揺動可能な第２の揺動部２２と、前記第１及び第２の回転軸と直交する第３の回転軸の周りに揺動可能な第３の揺動部２３を有するＸ線回折試料揺動装置１１を用いることによって前記課題を解決できる。 （もっと読む）

【課題】有機光学結晶にレーザー光を照射して連続的に使用するために、あらかじめ非破壊で容易かつ簡便な有機光学結晶のレーザー被照射耐性を評価する方法を確立すること、またその評価方法によって評価されたレーザー被照射耐性を有する有機光学結晶を提供すること。
【解決手段】有機光学結晶にレーザーを照射する前に回折解析工程により、有機光学結晶のレーザー被照射耐性の有無を判断する評価方法を確立することができ、またその評価方法によって評価されたレーザー被照射耐性を有する有機光学結晶を非破壊で容易かつ簡便に幅広い分野へ提供することができる。 （もっと読む）

【課題】 被検体が撮像装置内に配置された後にアライメントを行うＸ線タルボ干渉法用撮像装置において、アライメント時に被検体に照射されるＸ線量を低下させること。
【解決手段】 撮像装置１は、Ｘ線源２からのＸ線を回折することで干渉パターンを形成する回折格子３と、回折格子を経たＸ線を検出する検出器５と、Ｘ線源と前記被検体の間に配置可能なＸ線を遮るシャッタ２１と、アライメントを行う調節機構を備える。
シャッタはＸ線源と被検体の間に配置されたとき、シャッタによってＸ線の照射を遮られる第１の空間３０と、シャッタによってＸ線の照射を遮られない第２の空間３１を形成し、被検体は第１の空間に配置される。
また、調節機構は、第２の空間を経て検出器により検出されるＸ線の強度分布の少なくとも一部に基づいてアライメントを行う。 （もっと読む）