【課題】第１の格子と第２の格子の２つの格子を平行に配列し、この格子を用いて位相コントラスト画像を取得する放射線画像撮影装置において、２次元位相情報を有する高画質な位相コントラスト画像を取得する。
【解決手段】第１の格子および第２の格子のいずれか一方の格子を、位相コントラスト画像を構成する１つの画素に対応する所定の範囲内に複数の単位格子ＵＧ１，ＵＧ２が配列されたものとするとともに、その各単位格子ＵＧ１，ＵＧ２を構成する単位格子部材２２が互いに異なる方向に延びるものとし、その所定の範囲内の複数の単位格子ＵＧ１，ＵＧ２に対応する画素部によって検出された複数の検出信号に基づいて、位相コントラスト画像の１つの画素の画素信号を生成する。 （もっと読む）

【課題】２次元検出器を用いた場合であっても極点図測定を正確に行うことが可能なＸ線回折装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線回折装置は、Ｘ線源と、試料を保持し、移動可能な保持台と、試料から回折により出射されるＸ線を検出する２次元検出器と、Ｘ線源と保持台と２次元検出器とを制御する制御処理部とを備える。制御処理部は、記憶手段と演算手段（工程（Ｓ５０））と極点図作成手段（工程（Ｓ７０））とを含む。記憶部は、２次元検出器により複数の条件下で検出されたＸ線の複数の強度データを記憶する。演算手段（工程（Ｓ５０））は、複数の強度データについて、それぞれの強度データに対応するＸ線の試料における吸収量の差を補正するように、強度データに対する補正演算を行う。極点図作成手段（工程（Ｓ７０））は、補正演算された補正後の複数の強度データを用いて試料の極点図データを作成する。 （もっと読む）

【課題】試料面における応力の分布を、測定位置を限定することなく短時間で測定できるようにする。
【解決手段】本発明の試料分析装置１によれば、Ｘ線照射部１０が試料１２に対して平行Ｘ線束を照射する。そして、透過Ｘ線検出部１４は、試料１２を透過した透過Ｘ線を検出する。また、回折Ｘ線検出部１５は、試料１２で回折された回折Ｘ線を検出する。演算部１６は、透過Ｘ線検出部１４の検出結果から、試料１２における回折位置を特定すると共に、回折Ｘ線検出部１５の検出結果に基づいて、回折Ｘ線の回折角を判定する。さらに、演算部１６は、回折角から応力を計算し、計算した応力を特定した回折位置の応力と判定する。 （もっと読む）

【課題】結晶の外形に対して結晶軸がどのように取り付いているかを調べる全３軸の方位決定を高速で、かつ高精度に行うことのできるＸ線単結晶方位測定装置および測定方法を提供することにある。
【解決手段】特性Ｘ線による回折を利用する、ディフラクトメータ法を基本とし、Ｘ線検出器として、ＴＤＩ読み出しモードで動作するＣＣＤをベースにした２次元検出器を採用したことと、該２次元検出器により特定の（狙った）指数の反射を２点で捕らえることにより全３軸の方位決定を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】小規模の設備でも製造が可能で、しかも、少ない製造工程で、かつ、歩留まりを向上させることで、ローコストのＳＤＤを提供する。
【解決手段】Ｉ層１１の第１の面にＰ層１０が設けられ、Ｉ層１１の第２の面にＮ層１２が設けられると共に前記Ｎ層１２を中心として複数のＰリング１３が形成され、放射線の入射によりＩ層１１で発生した電荷をＰリング１３に電圧を印加して生じた電位勾配によって前記Ｎ層１２に集める放射線検出器において、前記Ｐリング１３の総数が２〜５本に設定され、前記各Ｐリング１３ごとに互いに絶縁された電極１４が形成され、前記Ｐリング１３ごとに互いに異なる電位を印加するために、前記各電極１４ごとに端子１５が接続されることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、１つ以上の化合物が濃度勾配に従って存在する溶液を含む１つ以上の結晶化チャンバを備えるマイクロ流体デバイスに関する。結晶化チャンバの形状によって、対流現象が制限される。また、本発明は、このデバイスの使用、詳細には液液拡散による結晶化における使用と、結晶化の方法とに関する。
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【課題】タンパク質結晶のスクリーニングにおいて、従来より光学検査やＸ線回折技術が用いられてきたが、いずれにも欠点・制限がある。そこで、試験サンプル内のイン・サイチュー結晶形成の評価方法及び装置を提供する。
【解決手段】光撮像及びＸ線回折技術の両方が利用され、これら処理の結果が組み合わされて、収穫及び後続するＸ線結晶学のための結晶材料の適性に関する全体スコアを求める。 （もっと読む）

【課題】複数の試料に対してＸ線回折測定を行う場合に、それぞれの試料のＸ線回折パターンが独立に正確に得られにくいという問題点があった。
【解決手段】Ｘ線を試料に向けて照射するためのＸ線照射部と回折Ｘ線を検出するための回折Ｘ線検出部と試料を保持するための試料保持部とを有するＸ線回折装置において、
試料保持部の所定位置に光を照射する光照射部と、光照射部から発生した光を試料に照射して得た反射光を受光する受光部と、反射光の受光角度又は受光位置を測定し、それに応じて試料保持部の試料の厚さ方向の移動距離を決定する位置制御部と、決定された移動距離に応じて試料保持部を試料の厚さ方向に移動させる移動部とを有する位置調整機構を有する、ことを特徴とするＸ線回折装置。 （もっと読む）

【課題】 入射ビームのビーム厚みによる回折Ｘ線像のぼけを低減し、かつ、ダイナミックレンジの大きな画像を再生することにより、明度差のある鮮明なポトグラフ画像を得ること。
【解決手段】 ビーム厚みが経時的に変化した入射Ｘ線ビーム２を測定試料３に入射して回折させ、該回折した回折Ｘ線ビーム４を２次元の回折画像として画素単位で経時的に連続して画像検出部１５０にて検出し、演算処理部２００において、該検出された２次元の回折画像の画素毎に、入射Ｘ線ビーム２の経時的なビーム厚みの変化量Δξに対する回折Ｘ線ビーム４のＸ線強度の明度変化率ΔＭ／Δξを算出し、該２次元の回折画像の算出値である明度変化率ΔＭ／Δξを画素毎に積算し、該積算した積算値マトリックスＩｍをポトグラフ画像として生成する。 （もっと読む）