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国際特許分類[G01N23/225]の内容

国際特許分類[G01N23/225]に分類される特許

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【課題】製造工程における位置誤差を解消して、位置精度を高め、検査精度を高め、基板上の検査対象領域の正確な位置を取得する。
【解決手段】基板検査装置1は、荷電粒子ビームを基板上で二次元的に走査させて得られる走査画像に基づいて基板検査を行う基板検査装置において、走査画像から基板上の検査対象領域の特定部位の座標データを取得する座標データ取得手段7を備える。基板検査において、座標データ取得手段で取得した座標データに基づいて走査画像上の検査位置を特定することで、誤差によるずれに影響されることなく基板検査を行う。 (もっと読む)


【課題】試料の欠陥を検査する装置において、装置が小型化できて省スペース,コストダウン,振動抑止と高速化,検査の信頼性が得られ、特に大口径化したウエハの場合に効果が大きい荷電ビーム検査装置を得る。
【解決手段】試料を搭載する回転ステージと、該回転ステージを一軸方向へ移動させる一軸移動ステージと、該一軸移動ステージを内蔵する真空室と、前記試料へ光または荷電粒子ビームを照射して前記試料上の欠陥を検出する第一のカラムと、該第一のカラムで検出された前記欠陥の座標に基づいて前記試料に荷電粒子ビームを照射し該欠陥を再検出する第二のカラムとを備え、前記欠陥を検出する検出器の検出面の方向は、それぞれのカラムの中心へ向いていることを特徴とする荷電粒子ビーム装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】生物試料のX線顕微鏡観察に好適なX線顕微鏡像観察用試料支持部材を提供すること。
【解決手段】試料支持部材(10)は、窒化シリコン膜、カーボン膜、ポリイミド膜などの試料支持膜(11)と、この試料支持膜の一方主面に設けられ荷電粒子の照射を受けて軟X線領域の特性X線を放射するX線放射膜(13)と、試料支持膜(11)の他方主面に設けられた金属膜であって吸着により観察対象試料(1)を固定する試料吸着膜(12)とを備えている。生物試料の構成物質であるタンパク質は金属イオンに吸着し易い性質があるため、試料吸着膜(12)を試料支持部膜(11)の主面の一方に形成してこれに観察試料を吸着させるようにする。このような試料支持部材(10)を用いれば、生物試料を含む溶液を試料吸着膜(12)の上に滴下したり試料支持部材(10)を収容したセル内に注入したりするだけで、観察試料を固定することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】微細パターン中の微小なオープン欠陥やショート欠陥を検出する手法を提供する。
【解決手段】パターンが形成された基板に電子線を照射し、基板から発生する低エネルギーの二次電子および高エネルギーの反射電子を検出してそれぞれの電子から第1および第2のSEM像を生成する。第2のSEM像から輪郭を抽出してパターンの輪郭データを取得し、該輪郭データを第1のSEM像に適用して検査領域を決定し、該検査領域に対して二値化処理を行うことにより、パターンまたは基板の欠陥を検出する。 (もっと読む)


【課題】電子ビームを放出中であっても高真空を維持可能な小型荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子線装置の電子光学系の差動排気の上流に非蒸発ゲッター
ポンプを配し,下流に必要最小限のイオンポンプ配して,両者を併用することにより達成
される。さらに,取り外し可能なコイルを電子銃部に実装することにより,別の課題を解
決する。
【効果】カラム内の真空度を10−8Pa台の高真空で維持できる小型荷電粒子線装置,例えば,小型の走査型電子顕微鏡,複数のカラムを有する荷電粒子ビーム装置を得ることができる。さらに,半導体の電気特性を直接計測するプローバ装置の探針の位置をモニタする小型SEMカラムを容易に内蔵できる。その他にも,半導体素子検査用のミラープロジェクション方式の電子線検査装置の電子線照射カラムの小型化が可能となる。 (もっと読む)


【課題】所望の部分のみの画像データを高速に取得し、検査することにより短時間で効率良い検査を実施可能な外観検査装置を提供する。
【解決手段】ROI検査機能を備えた外観検査装置において、設定された領域指定条件に基づき、半導体ウェーハ上に配置する走査ストライプの画像から参照画像形成用の画像データを位置合わせ用のマージンを含んで切り出す。切り出された複数枚の画像データを加算平均してROI検査用の参照画像を合成する。更に、参照画像用の画像データの切出しの際に所定の禁則条件を設けて、誤判定を防止する。 (もっと読む)


【課題】触媒濃度の極めて低い条件下においてEPMA分析を実施するに際し、高強度の電子線の照射に対して亀裂の起点となり得る触媒コート層と包埋樹脂層の間の低強度な界面の存在を許容しながら、ゴースト信号がマッピングされることのない、高精度のEPMA分析結果を得ることのできる触媒特定方法を提供する。
【解決手段】マトリックス担体に金属触媒が担持されてなる触媒コート層10において、該金属触媒の濃度もしくは分布を特定する触媒特定方法であり、触媒コート層10上にダミー層30を形成し、該ダミー層30上に包埋樹脂層20を形成する第1のステップ、電子線を照射した際の金属触媒に固有のX線強度を測定する電子プローブマイクロアナライザ(EPMA)を使用して、包埋樹脂層20とダミー層30と触媒コート層10に該電子線を照射して、触媒の濃度もしくは分布を特定する第2のステップ、からなる。 (もっと読む)


【課題】複数の外観検査装置から出力される外観不良箇所の位置情報が大きな誤差をもつことが原因で、実施が困難な工程トレースを通常の自動撮像時に同時に実行する。
【解決手段】外観検査装置から出力される外観不良箇所の位置を、SEM式レビュー装置内の絶対座標として記憶し、工程が異なっても、ユーザーが指示した絶対座標の自動撮像を実施することによって工程トレースが容易に実施可能となる。 (もっと読む)


【課題】薄膜状元素の種類と厚さに対して、輝度コントラストが最大となり且つ再現性よく計測することができるSEM反射電子計測の観測条件を決定する方法および、SEM反射電子計測により識別することが可能な元素種類組み合わせを予測する方法を用いて異種元素が付加された微粒子セットを識別する観察方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、支持体表面の異なる領域を3種類以上の元素で薄膜状に被覆してなる微粒子標識であって、各元素の全反射係数ηの値に基づいて昇順または降順で並べたときに隣接する元素間での全反射係数ηの差が、0.02以上となるような3種類以上の元素の組合せを用いて、前記支持体表面の異なる領域が薄膜状に被覆されている、微粒子標識を提供する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、より理想的な荷電粒子線装置の分解能評価用の標準試料を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明では、荷電粒子線装置の試料作成方法であって、基板表面に微細な凹凸を形成するステップと、前記基板にコロイド金属又はイオン液体に分散した金属微粒子を滴下するステップと、前記基板に滴下した溶液を除去するステップと、を有することを特徴とする試料作成方法を提供する。また、荷電粒子線装置の試料作成方法であって、基板表面に微細な凹凸を形成するステップと、前記基板表面にスパッタにより金属微粒子を付着させるステップと、を有することを特徴とする試料作成方法を提供する。 (もっと読む)


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