【課題】 光学特性を損なうことなく、上層との十分な密着力を確保することが可能となる３次元構造体による光学素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 基板上に、少なくとも第一の構造体と第二の構造体とを備えた光学素子の製造方法であって、スペース領域と構造部とが交互に繰り返し配列された前記第一の構造体を形成する工程と、前記構造部の上部にエッチングストッパー層を形成する工程と、前記エッチングストッパー層上に、前記第二の構造体をエッチングにより形成する工程を有する。 （もっと読む）

光学素子を仕上げ処理する方法は、上記光学素子と重なる複数の基準を有する光学マウント内に上記光学素子を取り付けるステップと、上記光学素子と上記複数の基準の為に第１計量マップを取得するステップとを含む。また、この方法は、複数の基準を伴わずに光学素子の為に第２の計量マップを取得するステップと、上記第１計量マップと上記第２計量マップとの間の差異マップを形成するステップと、上記第１計量マップと上記第２計量マップとを整列させるステップとを含む。上記方法は、上記異なるマップを使用して上記第２計量マップ上に数学的基準を配置し、第３計量マップを形成するステップと、上記第３計量マップを上記光学素子に関連付けるステップとを更に含む。さらに、上記方法は、上記光学素子をＭＲＦツール内の取付け具に取り付けるステップと、上記取付け具に上記光学素子を位置決めするステップと、上記複数の基準を除去するステップと、上記光学素子を仕上げ処理するステップと、を含む。
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【課題】
画像回復処理に合わせた特性を有する光学装置、及びそれを用いた撮像装置、撮像システムを提供することで、効果的な画像回復処理を実現する。
【解決手段】
撮像素子に被写体の像を結像するとともに、撮像素子で得た画像に対し画像回復処理が実行される光学装置において、以下の条件式（１）を満足するＭＴＦを有することを特徴とする光学装置。
０．１≦Ｌａ／Ｌｂ≦１、１０＜ａ＜３０、５＜ｂ＜２０ …（１）
ただし、
Ｌａ：ＭＴＦがａ％におけるＭＴＦ幅、
Ｌｂ：ＭＴＦがｂ％におけるＭＴＦ幅、
である。 （もっと読む）

【課題】反射率を低減させて、フレアやゴーストを防ぐことのできる光学部品、光学部品の製造方法、レンズ集合体及びレンズ集合体の製造方法を提供する。
【解決手段】表面と裏面とを有する基板１０と、基板１０の表裏面のいずれか少なくとも一方の面に形成された絞り２０，３０と、基板１０の表裏面のいずれか少なくとも一方の面に形成された硬化性樹脂からなるレンズ部４２，５２と、を有するウエハレンズ１であって、絞り２０，３０の表面には可視光領域の波長より短いピッチの凹凸２０a，３０aが形成されている。 （もっと読む）

【課題】難加工材料の特性を保持しつつ難加工材料と加工の容易な材料を組み合わせて加工性を良好にし、生産効率の高い複合レンズの製造方法を提供する。
【解決手段】光学機能部となるガラス素材１４と、基材となるサファイヤ基板１０とを加熱および加圧して接合体１６とする成形工程（Ｓ３）と、成形工程後、少なくともガラス素材１４を加工して光学機能面１５を形成する加工工程（Ｓ４）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】蛍石と同程度の高いアッベ数を有すると共に、蛍石より高い屈折率を有するＣａ−Ｇｄ−Ｆ系材料を、透光性セラミックスとして提供する。
【解決手段】ＣａＦ_２微粒子と、該ＣａＦ_２微粒子とは別に作製されたＧｄＦ_３微粒子とを混合して微粒子混合物を調整し、前記微粒子混合物を焼結し、透明化することで透光性セラミックスを製造する。 （もっと読む）

本発明は、高性能ガラスセラミック、また該ガラスセラミックの製造方法に関する。６０〜７３のＳｉＯ_２、１５〜２５のＡｌ_２Ｏ_３、２．２〜５のＬｉ_２Ｏ、０〜５のＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ、０〜５のＴｉＯ_２、０〜５のＺｒＯ_２、０〜４のＺｎＯ、０〜３のＳｂ_２Ｏ_３、０〜３のＭｇＯ、０〜３のＳｎＯ_２、０〜９のＰ_２Ｏ_５、０〜１．５のＡｓ_２Ｏ_３、０〜１のＮａ_２Ｏ、０〜０．５のＫ_２Ｏ、０〜１．２のＮａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ、及び０〜１の着色酸化物の組成を重量％で有するリチウムアルミニウムシリケート（ＬＡＳ）であり得る、ガラス又はガラスセラミック材料が使用される。素地に、所定の加熱速度で室温〜６６０℃、所定のプロセス時間で加熱速度をゼロまで徐々に減少させ、一定とするセラミック化熱処理を施し、所定の最大温度に加熱し、最大温度での保持時間を有さず、所定の冷却速度で室温まで冷却する。 （もっと読む）

約２５０ｎｍより短い波長において飽和誘起吸収を有する、ステッパ／スキャナシステムのレンズのような、石英ガラス品。飽和誘起吸収は、初めに、石英ガラス内のＳｉ-Ｏ欠陥を、そのような欠陥において水素化ケイ素(ＳｉＨ)を形成することで除去し、石英ガラス品内のＳｉＨの光分解によって形成されるＥ'中心と反応させるために石英ガラスを水素処理することによって達成される。水素化ケイ素は少なくとも４７５℃の温度で石英ガラスを分子水素処理することで形成される。ＳｉＨの形成後、石英ガラスは４７５℃より低い温度においてさらに分子水素処理される。
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【課題】従来の透光性ジルコニア焼結体は透光性が低く、特に濁り（曇り）のあるものしか得られなかった。
【解決手段】
３〜２０ｍｏｌ％のチタニアと６〜１５ｍｏｌ％のイットリアを含有するジルコニア粉末を成形後、常圧で一次焼結し、熱間静水圧プレス（ＨＩＰ）処理してＴｉ還元比率２０％以上の焼結体を得、該焼結体をアニール処理することにより、波長６００ｎｍにおける直線透過率が７３％以上、かつヘーズ率２．０％以下の透光性が高く濁り（曇り）のない
高品位の透明性ジルコニア焼結体が得られる。 （もっと読む）

本発明は、物品、及び該物品の設計及び製造方法を提供する。該物品は、その中に構築されるエネルギーバンドギャップに依存して、エネルギー、特にフォトニック／電磁エネルギー波がそれを伝播するのを制限又は禁止する。物品の構造は、超均一分布を有する点のパターンまで減少させてもよい。該点パターンは、結晶対称性、準結晶対称性を有してもよく、非周期的でもよい。いくつかの実施形態において、点パターンは長距離秩序を示さない。好ましくは、点パターンは等方的である。すべての実施形態において、物品は、完全ＴＥ最適化及びＴＭ最適化したバンドギャップを有する。不規則超均一フォトニック構造において見出される特別な透過現象は、光マイクロ回路（伝送の全光学的、電気的又は熱的スイッチ）、近接場光学的探査、熱光起電及びエネルギー効率のよい白熱光源において使用を見出している。
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