【課題】着色剤として染料を用いた場合であっても、耐熱性、耐溶剤性が良好な着色パターンを形成することができる着色組成物を提供すること。
【解決手段】次の成分（Ａ）〜（Ｃ）；
（Ａ）着色剤、
（Ｂ）エポキシ基を有する化合物、並びに
（Ｃ）ケチミン及びアルジミンよりなる群から選ばれる少なくとも１種
を含有することを特徴とするカラーフィルタ用着色組成物 （もっと読む）

【課題】ＣＯＡ方式を用いたＩＰＳ液晶表示装置において、ＤＣ残像を抑え、かつ、画面の黄色シフトを防止する。
【解決手段】ＴＦＴ基板１００の各画素には、ＴＦＴ、カラーフィルタ１０７Ｒ、１０７Ｇ、１０７Ｂ、対向電極１０８、絶縁膜１０９を挟んで画素電極１１０が形成されている。ＴＦＴ基板１００と対向基板２００との間に液晶層３００が挟持されている。ＴＦＴ基板１００および対向基板２００において液晶層３００と接する面には、配向膜１１３が形成されている。配向膜１１３は、高い光導電特性を示す材料が使用されており、これによってＤＣ残像を抑える。一方、配向膜が短波長１１３の光を強く吸収することによる画面の黄色シフトを、カラーフィルタの厚さを色毎に変えることによって対策する。 （もっと読む）

【課題】露光感度が高く、顔料分散性が良好であり、かつ着色感光性樹脂組成物とした時のアルカリ水溶液による現像性が良好である感光性樹脂を提供すること。
【解決手段】（ａ）グリシジル（メタ）アクリレート２〜９５モル％と、（ｂ）ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、ノルボルネン等からなる群から選択される少なくとも１種３〜５０モル％と、（ｃ）前記（ａ）及び（ｂ）と共重合し得る他のラジカル重合性化合物２〜８５モル％とをその合計が１００モル％となる量で共重合させ、得られた共重合物に含まれるグリシジル基の９０〜１００％に（ｄ）不飽和一塩基酸を付加させ、前記（ｄ）を付加させた時に生成した水酸基の５〜１００％に（ｅ）多塩基酸無水物を付加させ、前記（ｅ）を付加させた時に生成したカルボキシル基の５〜７０％に（ｆ）フェニルグリシジルエーテル等の１個のグリシジル基を有しかつ感光基を有さないラジカル重合性化合物を付加させて得られる感光性樹脂である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、次世代ディスプレイ部材の製造に関し、可撓性を有するガラス基材や耐熱性の劣るプラスチックフィルム上に、低コストで高精細なパターンを形成することを可能にする方法である。
【解決手段】（ａ）インキ剥離性のフィルム基材上に、活性エネルギー硬化型インキ液膜を塗工する工程と、（ｂ）該活性エネルギー硬化型インキ液膜を予備乾燥し、予備乾燥インキ膜を得る工程と、（ｃ）必要な画像パターンを凹部とした凸版を前記予備乾燥インキ膜に接触、剥離させ、非画像パターンを該凸版に転移し、前記インキ剥離性のフィルム基材上に該予備乾燥インキ膜からなる画像パターンを形成する工程と、（ｄ）該画像パターンを半硬化状態にする工程と、（ｅ）該半硬化状態になった該画像パターンを目的の被印刷基材表面上へ転写する工程と、から成ることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】装置内におけるカラーフィルター用インクの劣化を防止することが可能な液滴吐出装置を提供すること。
【解決手段】液滴吐出装置１００は、液滴吐出方式によるカラーフィルターの製造に用られ、着色剤と樹脂材料と前記着色剤を溶解または分散する液性媒体とを含むインク２を吐出する液滴吐出装置であって、インク２を貯留する１次インク貯留槽１３２と、１次インク貯留槽１３２から送液されたインク２を貯留する２次インク貯留槽１５０と、２次インク貯留槽１５０から送液されたインク２を吐出する液滴吐出ヘッド１１４と、１次インク貯留槽１３２内のインク２を冷却する冷却手段１３３とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】幅広い波長領域にスペクトルを有する高効率な白色発光素子を提供する。また、白色の色度が経時変化しにくい白色発光素子を提供する。また、発光スペクトルの形状が電流密度に依存しにくい白色発光素子を提供する。
【解決手段】基板２００上に第１の発光素子２１０と第２の発光素子２２０が直列に積層されており、第１の発光素子２１０は、第１の陽極２１１と第１の陰極２１３の間に発光層２１２を有する構造であり、第２の発光素子２２０は、第２の陽極２２１と第２の陰極２２３の間に発光層２２２を有する構造である。ここで、発光層２１２は、青色〜青緑色の領域と黄色〜橙色の領域の両方にピークを有する第１の発光スペクトル２３０を示し、発光層２２２は、橙色〜赤色の領域にピークを有する第２の発光スペクトル２４０を示す構成とする。 （もっと読む）

【課題】高い膜厚均一性を有するカラーレジスト膜を基板上に形成することが可能なレジスト塗布装置およびレジスト膜形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態によるレジスト塗布装置は、基板の中央部における温度よりも基板の周辺部における温度が高くなるように基板の温度を調整するよう構成された基板温度調整部と、中央部よりも周辺部において温度が高くなるように基板温度調整部により温度調整された基板上にカラーレジスト液を供給するカラーレジスト液供給部と、カラーレジスト液が供給された基板を回転する基板回転部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】染料を用いてコントラストの高い着色画像の形成が可能なカラーフィルタ用着色組成物を提供する。
【解決手段】染料と、下記一般式（Ｉ）で表される化合物とを含むカラーフィルタ用着色組成物である〔Ｒ^１〜Ｒ^４：炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数２〜２０のアルケニル基、ニトロ基、スルファモイル基、Ｎ−置換スルファモイル基、炭素数１〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、−ＮＲａＲｂ、水素原子；Ｒａ，Ｒｂ：炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数２〜２０のアルケニル基、ニトロ基、スルファモイル基、Ｎ−置換スルファモイル基、炭素数１〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、水素原子〕。
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【課題】優れた表示性能を有する半透過型液晶表示装置が得られる位相差基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】光透過性の平面体上に固体化液晶層を形成することを含む。固体化液晶層の形成は、前記平面体上に、光重合性又は光架橋性のサーモトロピック液晶化合物のメソゲンが配向した液晶材料層を形成する成膜工程と、前記液晶材料層の第１領域及び第２領域に光を照射する第１露光工程と、前記液晶材料層の第３領域及び前記第２領域に、前記第１露光工程より強い条件で光を照射する第２露光工程と、前記液晶材料層を前記液晶化合物のメソゲンが等方相を呈する温度に加熱して、前記第１領域及び前記第２領域の前記メソゲンの配向の程度を低下させる現像工程と、前記配向の程度を低下させたまま未反応の前記液晶化合物を重合及び／又は架橋させ、所定の複屈折率の第３領域と、前記第３領域より小さく、互いに複屈折率が異なる第１領域及び第２領域とを得る定着工程とを具備する。 （もっと読む）

【課題】露光工程でのフォトマスクに起因した欠陥が発生しても、連続して作業を行うことを可能とする、カラーフィルタの露光による欠陥修正方法を提供する。
【解決手段】フォトレジスト層へのフォトマスクを介したパターン露光Ｐｅ、続く現像によりブラックマトリックス４１又は着色画素４２を形成する際に、フォトマスクに起因した共通欠陥Ｋ１を修正するために、現像後の検査にて予め検出された共通欠陥の位置、形状をもとにした第２露光２ｅを現像前に与えておくこと。第２露光にレーザー光を用いること。第２露光の形状を共通欠陥の形状より大きな形状とし、現像後に余分な領域を除去して所望の形状とすること。 （もっと読む）