【解決手段】酸不安定基で置換されたビニルアルコールと無水マレイン酸及び／又はマレイミドを繰り返し単位として有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】酸不安定基で置換されたビニルアルコールと無水マレイン酸及び／又はマレイミドを繰り返し単位として有する高分子化合物と酸発生剤を含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高い特徴を有する。このフォトレジスト膜を用いて露光し、有機溶剤現像を行うことによって、微細なホールパターンを寸法制御よくかつ高感度で形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】パターン加工性に優れ、ＵＶ硬化および熱硬化により高硬度、高透明、高耐熱であり、下地金属の腐食を抑える高い耐湿熱性を備える硬化膜を与える、アルカリ現像可能なネガ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）カルボキシル基含有アクリル樹脂、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）多官能モノマー、（Ｄ）芳香環を４つ以上有しかつ芳香環との結合が３つ以上ある４級炭素を有する多官能エポキシ化合物を含有するネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】他色パターン上への残渣の発生を抑制し、且つ塗布欠陥の発生を抑制し得る着色組成物を提供する。色分離性に優れ、塗布欠陥のない着色パターン、該着色パターンを備えたカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。他色パターン上への残渣の発生を抑制し、且つ塗布欠陥の発生を抑制し得るパターン形成方法を提供する。色分離性に優れる固体撮像素子及び画像表示装置を提供する。
【解決手段】色素構造を有する樹脂（Ａ）を含有する着色組成物であって、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定される前記樹脂（Ａ）における分子量２０，０００以上の成分の占めるピーク面積が、前記樹脂（Ａ）の分子量分布全体のピーク面積に対して１０％以下である着色組成物。 （もっと読む）

【課題】ネガ型パターンを高解像性で、かつ、良好な形状で形成できるレジストパターン形成方法及びレジスト組成物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分と、一般式（Ｃ１）で表される化合物とを含有するレジスト組成物を、支持体上に塗布してレジスト膜を形成する工程（１）と、前記レジスト膜を露光する工程（２）と、前記工程（２）の後にベークを行う工程（３）と、前記レジスト膜をアルカリ現像し、前記レジスト膜の未露光部が溶解除去されたネガ型レジストパターンを形成する工程（４）とを含むレジストパターン形成方法、及び前記工程（１）で用いる前記レジスト組成物。式中、Ｒ^１、Ｒ^２の少なくともいずれか一方はアルキル基又はフェニル基である。
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【課題】高解像性で、且つ溶出が抑制されたのネガ型パターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】基材成分、光塩基発生剤成分及び酸供給成分を含有するレジスト組成物を支持体上にスピンコート法により塗布してレジスト膜を形成する工程（１）、レジスト膜にプレベークを行わず、レジスト膜を露光する工程（２）、工程（２）の後にベークを行い、レジスト膜の露光部において、露光により光塩基発生剤成分から発生した塩基と、酸供給成分に由来する酸とを中和させ、レジスト膜の未露光部において、酸供給成分に由来する酸の作用により、基材成分のアルカリ現像液に対する溶解性を増大させる工程（３）及びレジスト膜をアルカリ現像し、ネガ型レジストパターンを形成する工程（４）とを含み、工程（１）の塗布工程において、レジスト液を基板に供給後の回転時間が５０秒以上であることを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】溶出が抑制された高解像性のネガ型パターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分と、露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分とを含有するレジスト組成物を、支持体上に塗布してレジスト膜を形成する工程（１）と、液浸媒体を介して浸漬露光する工程（２）と、工程（２）の後にベークを行い、露光部において露光により光塩基発生剤成分から発生した塩基と、レジスト膜に予め供給された酸とを中和させ、未露光部において、レジスト膜に予め供給された酸の作用により、基材成分のアルカリ現像液に対する溶解性を増大させる工程（３）と、アルカリ現像し、未露光部が溶解除去されたネガ型レジストパターンを形成する工程（４）とを含むレジストパターン形成方法であって、レジスト膜の水に対する後退角が６５°以上であることを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】微細な孔径（例えば、６０ｎｍ以下）を有し、かつ、断面形状の矩形性に優れるホールパターンを、局所的なパターン寸法の均一性に優れた状態で形成可能な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）を有する樹脂（Ｐ）、及び
活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する化合物（Ｂ）を含有し、かつ
フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有し、前記樹脂（Ｐ）とは異なる樹脂（Ｃ）を、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の全固形分を基準として、１質量％以上含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。


上記一般式（Ｉ）中、Ｒ_０は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ_１、Ｒ_２及びＲ_３は、各々独立に、直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】色度特性に優れ、分散性及び保存安定性の良好なカラーフィルタ用着色組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）キノフタロン系顔料を含む着色剤、（Ｂ）下記式（１）で表される繰り返し単位（１）と、下記式（２）で表される繰り返し単位（２）を含み、アミン価が８０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇである共重合体、及び（Ｃ）架橋剤を含有することを特徴とするカラーフィルタ用着色組成物。


〔Ｒ¹、Ｒ⁴は水素原子又はメチル基、Ｒ⁵は脂肪族炭化水素基又は脂環式炭化水素基、Ｚは−ＮＲ²Ｒ³（但し、Ｒ²及びＲ³は、相互に独立に、水素原子又は置換若しくは非置換の炭化水素基を示す。）、又は置換若しくは非置換の含窒素複素環基を示し、Ｘ¹は２価の連結基を示す。 （もっと読む）

【課題】良好な現像時間依存性を以って、超微細の孔径を有し、かつ、真円性に優れるホールパターンの提供。
【解決手段】（Ｐ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）を有する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により塩基性が低下する、塩基性化合物又はアンモニウム塩化合物を含有する組成物であって、前記化合物（Ｃ）の前記化合物（Ｂ）に対するモル比率［Ｃ］／［Ｂ］が０．４以上である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。


上記一般式（Ｉ）中、Ｒ_０は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ_１、Ｒ_２及びＲ_３は、各々独立に、直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分（Ｃ）と、酸性化合物成分（Ｇ）と、アミン（Ｄ）とを含有するレジスト組成物を支持体上に塗布してレジスト膜を形成する工程（１）と、レジスト膜を露光する工程（２）と、ベークを行い露光部において光塩基発生剤成分（Ｃ）から発生した塩基と、酸性化合物成分（Ｇ）とを中和させ、未露光部において酸性化合物成分（Ｇ）の作用により基材成分（Ａ）のアルカリ現像液に対する溶解性を増大させる工程（３）と、アルカリ現像し、未露光部が溶解除去されたネガ型レジストパターンを形成する工程（４）と、を含むレジストパターン形成方法の工程（１）で用いられ、酸性化合物成分（Ｇ）１モルに対してアミン（Ｄ）を１モル以上含有するレジスト組成物。 （もっと読む）