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国際特許分類[G03F7/095]の内容

国際特許分類[G03F7/095]に分類される特許

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【課題】プラスチックフィルム支持体上に、現像処理時に非画像部として作用する親水性層と、現像処理時に画像部として作用する光重合性の感光層とを有する感光性ネガ型平版印刷版において、ケミカルレス現像液による非画像部の除去が可能で、かつ耐刷性の良好な感光性ネガ型平版印刷版を提供する。
【解決手段】プラスチックフィルム支持体上に、印刷時に非画像部として作用する親水性層と、印刷時にインキ受理部となる光重合性の感光層とを有する感光性ネガ型平版印刷版において、該親水性層が重合開始剤を含有することを特徴とする感光性ネガ型平版印刷版。 (もっと読む)


【課題】画像部の耐薬品性と現像性との双方に優れる赤外線感応性のポジ型感光性平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上に、下記一般式(1)で示される構造単位を有するアルカリ可溶性または膨潤性のポリマー、ノボラック樹脂、赤外線吸収剤、並びに芳香族基を有するスルホニウム塩及びヨードニウム塩から選ばれる少なくとも1種を含有する記録層を設けたポジ型感光性平版印刷版原版。


…(1)

(式中、R1は水素原子もしくはメチル基を表し、Xは単結合、−COO−、又は−CONH−を表し、Ar1、Ar2は、それぞれ置換基を有してもよい芳香族基又は複素芳香族基を表し、Yは−SO2NH−、又は−NHSO2−を表す。) (もっと読む)


【課題】実質的にアルカリ剤を含有しないケミカルレス現像液による現像が可能でかつ、耐刷性の良好な感光性ネガ型平版印刷版を提供する。
【解決手段】プラスチックフィルム支持体上に、印刷時に非画像部として作用する親水性層と、印刷時にインキ受理部となる感光性ポリマーを含有する感光層とを有する感光性ネガ型平版印刷版において、該親水性層が感光性ポリマーを含有することを特徴とする感光性ネガ型平版印刷版。 (もっと読む)


【課題】コントラストを増大させて、解像性能を良好とすることができる光消色性材料層用感光性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式(1)で表される化合物及び樹脂を含有する光消色性材料層用感光性組成物。


[式(1)中、R及びRは、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜12の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜12のアルコキシ基、アクリロイル基又はメタクリロイル基を表す。前記脂肪族炭化水素基及びアルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、前記脂肪族炭化水素基及びアルコキシ基は、炭素−炭素二重結合を有していてもよい。] (もっと読む)


【課題】従来型の層よりも薄く、より吸収性が高い層を獲得しながら、隣接層に対する適切な粘着性を維持する印刷部材を提供すること。
【解決手段】印刷部材であって、a)ポリマー基板と、b)該基板の上に配置された第1および第2の放射応答層であって、各放射応答層は、近IR放射のためのその光学侵入深さ未満の厚さを有しており、該第1の放射応答層は、600〜1200nmの範囲の波長において少なくとも3の消散係数を有する金属から本質的に構成され、(ii)該第2の放射応答層は、600〜1200nmの範囲の波長において少なくとも30%の透過率を有する金属から本質的に構成される、第1および第2の放射応答層と、c)該第1および第2の放射応答層の上に配置された最上位層であって、該最上位層および該基板は、インクまたはインクが粘着しない液体のうちの少なくとも1つに対して反対の親和力を有する、最上位層とを含む、印刷部材。 (もっと読む)


【課題】印刷機として簡便に使用され、価格も安価であり、デジタル印刷機能を有する印刷システムであり、高速大量印刷のできる大型印刷機として構築でき、また多品種少量印刷にも対応できる補助的小型印刷機としても利用でき、また優れた印刷品質を保持し、且つ環境面、安全性、衛生性、健康面などの要望に対応できる印刷システム、それに使用される印刷版および印刷インクを提供すること。
【解決手段】水性平版印刷方法において、印刷インクが水性媒体中に微細化顔料および水性固着剤を含有する水性顔料インクであり、印刷版が親水性画像部分と撥水性非画像部分からなる平版印刷版であり、親水性画像部分が、前記水性顔料インクが付着するように親水化した光触媒型酸化物を表面に有する膜部分よりなり、撥水性非画像部分が撥水性を有する疎水性部分を表面に有する膜部分からなる平版印刷版であることを特徴とする水性平版印刷方法。 (もっと読む)


【課題】光の利用効率が高く、露光感度(感度、細線密着性、解像度)を向上させ、生産性に優れた感光性積層体及び感光性フィルム、並びに、プリント基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の感光性積層体は、光重合開始剤又は該光重合開始剤及び増感色素からなり345nm〜385nmの波長に感光性のピークを有する重合開始成分(A−1成分)、バインダー(B−1成分)、及び、1分子中に少なくとも一つの不飽和基を含有する重合性化合物(C−1成分)を含有する感光性樹脂組成物からなる第1の感光層と、光重合開始剤又は該光重合開始剤及び増感色素からなり386nm〜435nmの波長に感光性のピークを有する重合開始成分(A−2成分)、バインダー(B−2成分)、及び、1分子中に少なくとも一つの不飽和基を含有する重合性化合物(C−2成分)を含有する感光性樹脂組成物からなる第2の感光層と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】酸の拡散が被パターン化樹脂膜の全面に均一に十分な精度をもって行うことができ、その結果、被パターン化樹脂膜の全面に均一優れた寸法安定性が得られる酸転写用膜を得ることができる酸転写用組成物、これを用いてなる酸転写用膜、及びこの酸転写用膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)感放射線性酸発生剤、(B)含窒素基を有する重合体、及び、(C)ケトン系溶剤、を含有する組成物。(B)重合体は特定の(メタ)アクリルアミド構成単位を有することが好ましい。この組成物を用いてなる酸転写用膜。酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第1樹脂膜上に、前記酸転写用膜としての第2樹脂膜を形成する第2樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】半導体基板の欠陥が発生することを防ぐ表面の交換が可能なフォトレジストを提供する。
【解決手段】半導体基板上にリソグラフィ工程を行う方法であって、基板上にレジストを塗布し、露光前ベーク処理を行い、露光、現像を行う工程を含み、前記レジストは、前記塗布及び露光前ベーク処理を行う間に第1の層と第2の層とに分離され、現像後に第2の層は第1の層より少なくとも0.001nm低くなる方法である。前記レジストは、感光性ポリマー、光酸発生剤、アルカリ性クエンチャー、及び相変換型ポリマーを含むことが好ましい。 (もっと読む)


【課題】酸の拡散の選択性及び除去性に優れた酸転写樹脂膜が得られる酸転写樹脂膜形成用組成物、これを用いてなる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】イミノスルホネート系感放射線性酸発生剤、及び式(1)に示す構成単位を有する重合体、を含有する組成物。この組成物を用いてなる酸転写樹脂膜。酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第1樹脂膜上に、上記酸転写樹脂膜としての第2樹脂膜を形成する第2樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。
【化1】
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