【課題】反射防止膜を使用したレジストパターニング工程におけるパターニング性に優れる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の半導体装置の製造方法は、半導体ウェーハ１０上に第１の反射防止膜１１を形成する工程と、第１の反射防止膜１１上に第２の反射防止膜１２を形成する工程と、第２の反射防止膜１２上にレジスト膜１３を形成する工程と、レジスト膜１３を選択的に露光する工程と、この露光後にレジスト膜１３及び反射防止膜１１、１２を現像する工程と、この現像により得られたレジスト膜１３のパターンをマスクに半導体ウェーハ１０に対する処理を行う工程とを備え、第１の反射防止膜１１の感光剤濃度は第２の反射防止膜１２の感光剤濃度よりも高い。 （もっと読む）

熱処理中のフレキソ印刷要素の表面粗さを制御する方法。印刷ブランクは、支持層上に少なくとも１つの光硬化性層を含み、該少なくとも１つの光硬化性層が（１）スチレン−ブタジエン−スチレンを含むバインダー、（２）少なくとも１つの速硬化モノマー、（３）少なくとも１つの遅硬化モノマー、及び（４）光重合開始剤を含む。印刷要素ブランクは、印刷要素ブランクの最上部から印刷版ブランクを化学線により選択的に像様露光することで、前記少なくとも１つの光硬化性層の一部を選択的に架橋及び硬化し、そして熱処理して前記少なくとも１つの光硬化性層の未硬化部分を取り除くことで、前記少なくとも１つの光硬化性層にレリーフ像が現れる。熱現像後の前記レリーフ像印要素の表面粗さが約１，０００ｎｍ未満に制御される。 （もっと読む）

【課題】吐出エネルギー発生素子とインク流路および吐出口との位置関係を高精度かつ再現性良く制御でき、印字特性の良好なインクジェットヘッドを安定して製造できる方法を提供する。
【解決手段】液体を吐出する吐出口２と連通する流路１７を形成するための流路形成部材を基板１上に有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、基板１上に感光性樹脂からなる層を設け、その層上の流路１７に対応した部位にマスク層を設け、感光性樹脂からなる層に対して露光を行い流路１７の形状を有するパターンとし、このパターンを被覆するように流路形成部材となる層を設け、流路形成部材となる層の一部に吐出口２を形成し、そのパターンを除去して流路１７を形成することを含む液体吐出ヘッドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】平版印刷版の製造方法を開示する。
【解決手段】平版印刷版前駆体として有用な画像化されたポジ型の熱画像形成可能な多層画像形成要素を、溶媒系現像液を用いて現像する。現像は、画像化された画像形成要素を該現像液に浸漬することによって行なうことができる。 （もっと読む）

第一及び第二の輻射線感受性層、又は複数の輻射線感受性層を有るレリーフ（又はフレキソグラフ）印刷前駆体。第一の輻射線感受性層は、第一のλ_maxを有する第一の画像形成輻射線に対して感受性を有する。第二の輻射線感受性層は、第一の輻射線感受性層の上に配置され、第一のλ_maxとは少なくとも２５ｎｍ異なる第二のλ_maxを有する第二の画像形成輻射線に対して感受性を有する。赤外線アブレーション可能層が存在することができ、これは第一及び第二の画像形成輻射線に対して不透明又は不感受性であり、赤外線吸収性化合物を含有する。これらのレリーフ印刷前駆体を用いて、フレキソグラフ印刷版、シリンダー、又はスリーブを調製することができ、アブレーション可能層を用いて当該要素上に一体型マスクを形成する。本発明を使用することにより、小さいドットの強度において損失が無いレリーフ画像を提供し、同じ装置を用いて複数の照射工程の使用を実施できることである。
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【課題】酸の拡散の選択性及び除去性に優れた酸転写樹脂膜が得られる酸転写樹脂膜形成用組成物、これを用いてなる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】オキシムスルホネート系感放射線性酸発生剤、及び式（１）に示す構成単位を有する重合体、を含有する組成物。この組成物を用いてなる酸転写樹脂膜。酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、上記酸転写樹脂膜としての第２樹脂膜を形成する第２樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。
【化１】
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【課題】感光速度調節が可能なポジティブタイプのフォトレジスト組成物を利用して、リフトオフなどの特殊な工程に適したアンダーカット形態のプロファイルを安定的に形成するパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】本発明はリフトオフ工程に適用することができるアンダーカット形態のプロファイルを形成する表示素子用パターン形成方法に関するものである。本発明は特定構造のポリマー化合物を使用して感光速度を急速にすることによって、多層フォトレジスト層を形成する時、容易にアンダーカット形態のプロファイルを形成することができ、その結果、リフトオフ工程の適用が容易で、厚さの厚いパターンを形成することもでき、工程中、エッチング工程を省略することができるため、工程単純化を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】印刷汚れ及び版面汚れが少なく、且つ印刷耐久性が高い凸版印刷用版材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】凸版印刷用版材１０は、版材の凹部１１及び凸部１２側面がフッ化炭素基を含む膜物質の形成する撥水撥油性被膜１３で被覆されている。凸版印刷用版材１０は、（１）バック露光工程と、（２）凸部１２を形成する部分を被覆するマスク材１７を選択的に除去する工程と、（３）露光工程と、（４）マスク材１７が除去された部分を水溶性樹脂の被膜２０で被覆する工程と、（５）現像工程と、（６）仕上げ露光工程と、（７）凹部１１及び凸部１２の表面に撥水撥油処理液を接触させ、撥水撥油性被膜１３を印刷面側の表面全体に形成する撥水撥油処理工程と、（８）樹脂の被膜が可溶な洗浄液で水溶性樹脂の被膜２０を洗浄除去する洗浄工程とを有する方法により製造される。 （もっと読む）

染料もしくは発色団要素及び架橋性官能基を有するポリマー、任意選択の架橋性成分、及び次式を有する一種またはそれ以上の光活性化合物を含む反射防止コーティング組成物。
Ｗ−（Ｌ−（Ｇ））_ｐ
式中、ＷはＰＡＧまたはＱであり、ここでＰＡＧは光酸発生体であり、そしてＱはクエンチャであり； 各Ｌは直接結合または連結基であり； 各Ｇは独立してＧ１またはＧ２であり； Ｇ１はＯＨであり； Ｇ２はＯＣＨ＝ＣＨ_２であり； ｐは１〜１２である。 （もっと読む）

【課題】インターミキシングを防止できる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する
【解決手段】本酸転写樹脂膜形成用組成物は、（Ａ）感放射線性酸発生剤、及び、（Ｂ）末端にシアノ基を有する重合体、を含有することを特徴とする。本本酸転写樹脂膜は、本酸転写樹脂膜形成用組成物を用いてなることを特徴とする。本パターン形成方法は、（Ｉ）酸解離性基を有する樹脂を含有し、且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、本酸転写樹脂膜形成用組成物からなる第２樹脂膜を形成する工程と、（ＩＩ）マスクを介して第２樹脂膜に露光し、第２樹脂膜に酸を発生させる工程と、（ＩＩＩ）第２樹脂膜に発生した酸を第１樹脂膜に転写する写工程と、（ＩＶ）第２樹脂膜を除去する工程と、をこの順に備える。 （もっと読む）